JP2015506893A5

JP2015506893A5 -

Info

Publication number: JP2015506893A5
Application number: JP2014544939A
Authority: JP
Filing date: 2012-11-30
Publication date: 2016-04-07

Description

随意的なコーティングは、屈折率が高い、中位、および低い材料からなる。例示の高屈折率材料（ｎ＝１．７〜３．０）は、ＺｒＯ₂、ＨｆＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＴｉＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＳｒＴｉＯ ₃ 、ＷＯ₃である。例示の中屈折率材料（ｎ＝１．６〜１．７）は、Ａｌ₂Ｏ₃である。例示の低屈折率材料（ｎ＝１．３〜１．６）は、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＹＦ₃、ＹｂＦ₃である。光学コーティングは、選択された光学機能、例えば、制限するものではなく、反射防止特性を提供するために、少なくとも１つのコーティング周期を含まなければならない。１つの実施の形態において、光学コーティングは複数の周期からなり、各周期は、１つの高屈折率材料と１つの低または中屈折率材料からなる。通常は各周期で同じ材料が使用されるが、異なる周期に異なる材料を使用することも可能である。例えば、２つの周期のＡＲコーティングにおいて、第１の周期はＳｉＯ₂のみであり、第２の周期はＴｉＯ₂／ＳｉＯ₂であって差し支えない。この能力を使用して、ＡＲＣを含む複雑な光学フィルタを設計することができる。ある場合には、ＡＲＣは、ただ１つの材料、例えば、フッ化マグネシウムを５０ｎｍ超の厚さで使用して堆積させても差し支えない。

Claims

ガラス物品であって、該ガラス物品上に光学コーティングを有し、該光学コーティングの上面にクリーニング容易な（ＥＴＣ）コーティングを有するガラス物品を製造する方法において、
光学コーティングおよびＥＴＣコーティングの堆積のための少なくとも１つの槽を有する被覆装置を用意する工程、
前記槽内に、前記光学コーティングのための供給材料および前記ＥＴＣコーティングのための供給材料を提供する工程であって、前記光学コーティングを製造するために複数の供給材料が必要な場合、該複数の供給材料の各々が別個の供給容器内に提供される工程、
被覆すべき基板であって、長さ、幅、および該長さと該幅により画成されるガラスの表面間の少なくとも１つの縁を有する基板を提供する工程、
前記槽を１０^-4トル以下の圧力に排気する工程、
前記基板上に前記光学コーティングの材料を堆積させて、光学コーティングを形成する工程、
前記光学コーティングの堆積を停止する工程、
前記光学コーティングの堆積に続いて、該光学コーティングの上面に前記ＥＴＣコーティングを堆積させる工程、
前記ＥＴＣコーティングの堆積を停止する工程、
前記槽から前記基板を取り出し、それによって、光学コーティングおよびＥＴＣコーティングを有するガラス物品を提供する工程、および
前記物品を、４０％＜ＲＨ＜１００％の範囲にある相対湿度ＲＨを有する湿潤環境または空気中において５〜６０分の範囲の時間に亘り６０〜２００℃の範囲の温度で後処理して、前記ＥＴＣコーティングと前記基体上に堆積された前記光学コーティングとの間の強力な化学結合およびＥＴＣ分子間の架橋を形成する工程、
を有してなり、
前記光学コーティングは、１．７〜３．０の範囲の屈折率を有する高屈折率材料Ｈと、（ｉ）１．３〜１．６の範囲の屈折率を有する低屈折率材料Ｌおよび（ｉｉ）１．６〜１．７の範囲の屈折率を有する中屈折率材料Ｍからなる群より選択される１つの材料との交互の層からなる、Ｈ（ＬまたはＭ）もしくは（ＬまたはＭ）Ｈの順序で配置された多層コーティングであり、各Ｈ（ＬまたはＭ）もしくは（ＬまたはＭ）Ｈの層の対がコーティング周期と考えられ、各個々の周期におけるＨ層およびＬ（またはＭ）層の厚さが、互いに独立して、５ｎｍから２００ｎｍの範囲にある、方法。
前記多層コーティングの前記周期の数が２〜２０の範囲にあり、該多層コーティングが、１００ｎｍから２０００ｎｍの範囲の厚さを有する、請求項１記載の方法。
前記高屈折率材料が、ＺｒＯ ₂ 、ＨｆＯ ₂ 、Ｔａ ₂ Ｏ ₅ 、Ｎｂ ₂ Ｏ ₅ 、ＴｉＯ ₂ 、Ｙ ₂ Ｏ ₃ 、Ｓｉ ₃ Ｎ ₄ 、ＳｒＴｉＯ ₃ およびＷＯ ₃ からなる群より選択され、前記低屈折率材料が、シリカ、溶融シリカ、フッ素ドープト溶融シリカ、ＭｇＦ ₂ 、ＣａＦ ₂ 、ＹＦおよびＹｂＦ ₃ からなる群より選択され、前記中屈折率材料がＡｌ ₂ Ｏ ₃ である、請求項１または２記載の方法。
前記ＥＴＣコーティングの材料が、
式（Ｒ _F ） _y ＳｉＸ _4-y のペルフルオロアルキルシラン、式中、Ｒ _F は、ケイ素原子から最大の長さでの鎖の端部まで６〜１３０の炭素原子の範囲の炭素鎖長を有する直鎖のペルフルオロアルキルであり、Ｘ＝Ｃｌ、アセトキシ、−ＯＣＨ ₃ 、または−ＯＣＨ ₂ ＣＨ ₃ 、ｙ＝１または２、および
式［ＣＦ ₃ −ＣＦ ₂ ＣＦ ₂ Ｏ） _a ］ _y ＳｉＸ _4-y のペルフルオロポリエーテルシラン、式中、ａは５〜１０の範囲にあり、ｙ＝１または２、およびＸは、−Ｃｌ、アセトキシ、−ＯＣＨ ₃ 、または−ＯＣＨ ₂ ＣＨ ₃ であり、ペルフルオロポリエーテル鎖の全長は、ケイ素原子から最大の長さでの鎖の端部まで６〜１３０の炭素原子の範囲である、
からなる群より選択される、請求項１から３いずれか１項記載の方法。
前記光学コーティングに化学結合した前記ＥＴＣコーティングの厚さが１ｎｍから２０ｎｍの範囲にある、請求項１から４いずれか１項記載の方法。
前記光学コーティングが第１の槽内で堆積され、前記ＥＴＣコーティングが第２の槽内で堆積され、これら２つの槽が、前記基板を該第１の槽から該第２の槽へ、該基板を大気に曝露せずに移すための真空シール／分離ロックにより接続されている、請求項１から５いずれか１項記載の方法。
前記第１の槽が、２〜１０の範囲にある偶数の副槽に分割されており、前記多層コーティングの周期が奇数／偶数の対の副槽内で施され、前記偶数の副槽が、前記高屈折率材料または前記低屈折率材料のいずれか一方を堆積させるために使用され、前記奇数の副槽が、前記高屈折率材料または前記低屈折率材料の他方を堆積させるために使用される、請求項６記載の方法。
前記基板が、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、ソーダ石灰ガラス、化学強化ホウケイ酸ガラス、化学強化アルミノケイ酸塩ガラスおよび化学強化ソーダ石灰ガラスからなる群より選択され、該ガラスが０．２ｍｍから１．５ｍｍの範囲の厚さを有する、請求項１から７いずれか１項記載の方法。
前記ガラスが、４００ＭＰａ超の圧縮応力および１４μｍ超の層の深さを有するアルミノケイ酸塩ガラスである、請求項１から８いずれか１項記載の方法。
前記ＥＴＣコーティングと前記基板上に堆積された前記光学コーティングとの間の強力な化学結合およびＥＴＣ分子間の架橋を形成するための前記物品の後処理後、該物品が、８番のスチールウールと１ｃｍ ² の表面積に印加される１ｋｇ重の荷重を使用して、５，５００回の摩耗サイクル後に少なくとも７０°の平均水接触角を有する、請求項１から９いずれか１項記載の方法。