TWI486469B - 鍍膜系統 - Google Patents

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TWI486469B TW099112620A TW99112620A TWI486469B TW I486469 B TWI486469 B TW I486469B TW 099112620 A TW099112620 A TW 099112620A TW 99112620 A TW99112620 A TW 99112620A TW I486469 B TWI486469 B TW I486469B
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Description

鍍膜系統
本發明涉及鍍膜制程領域，尤其涉及一種鍍膜系統。
當前，許多工業產品表面都鍍有功能薄膜以改善產品表面之各種性能。如在光學鏡片之表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面之反射率，降低入射光通過鏡片之能量損耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜，可濾掉某一預定波段之光，製成各種各樣之濾光片。一般地，鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發法、化學氣相沉積法等。Ichiki,M.等人在2003年5月發表於2003 Symposium on Design,Test,Integration and Packaging of MEMS/MOEMS之論文《Thin film formation-a fabrication on non-planar surface by spray coating method》中介紹了通過噴塗在非平面形成薄膜之方法。
先前鍍膜方式係將鍍膜和噴漆在不同之裝置中進行之，因此鍍膜完成後之待鍍物品要經過專門之運送裝置運送至噴漆裝置中，這無疑增加了運送成本，同時，待鍍物品在運送過程中也容易被污染，對待鍍物品之鍍膜良率造成影響，同時加工步驟煩瑣。
有鑒於此，有必要提供一種可提高鍍膜良率及提高鍍膜速率之鍍膜系統。
一種鍍膜系統，其包括一腔體、一鍍膜傘架及一旋轉驅動組件。所述鍍膜傘架用於收容複數個待鍍膜之基板。所述旋轉驅動組件連接至所述鍍膜傘架，用於驅動所述鍍膜傘架在所述腔體內轉動。所述腔體包括一隔板，該隔板將所述腔體分隔成相互間隔之鍍膜腔及噴漆腔。所述鍍膜系統進一步包括一升降驅動組件、一溶劑儲室及一噴射裝置。所述升降驅動組件帶動旋轉驅動組件升降，以使所述鍍膜傘架在鍍膜腔及噴漆腔內升降。所述溶劑儲室用於存放塗料溶劑。所述溶劑儲室與所述噴漆腔相貫通，所述噴射裝置設置在所述溶劑儲室內，該噴射裝置並連接至所述噴漆腔，以將溶劑儲室內之塗料溶劑噴射至待鍍膜之基板。
相對於先前技術，本發明之鍍膜系統既可對待鍍膜之基板進行蒸鍍又可對待鍍膜之基板噴射塗料，省去了由蒸鍍制程到噴射塗料制程之間對待鍍膜之基板之運送動作，因此節省了鍍膜成本及提高了鍍膜效率，同時避免待鍍膜之基板由於運送而造成之污染，進而提高了鍍膜良率。
100、200‧‧‧鍍膜系統
10‧‧‧腔體
20‧‧‧離子發射源
30‧‧‧蒸發源
40‧‧‧鍍膜傘架
50‧‧‧旋轉驅動組件
60、75‧‧‧升降驅動組件
70‧‧‧閘門結構
80‧‧‧溶劑儲室
90‧‧‧噴射裝置
11‧‧‧殼體
12‧‧‧隔板
13‧‧‧鍍膜腔
14‧‧‧噴漆腔
11a‧‧‧頂板
11b‧‧‧底板
11c‧‧‧第一側板
11d‧‧‧第二側板
114‧‧‧圓孔
110‧‧‧排氣孔
112‧‧‧第一通孔
41‧‧‧鍍膜孔
44‧‧‧待鍍膜之基板
502‧‧‧主體部
504‧‧‧轉軸
62‧‧‧固定桿
64‧‧‧轉動桿
66‧‧‧套環
68‧‧‧第一馬達
69‧‧‧連接桿
71‧‧‧閥門
72‧‧‧第二馬達
77‧‧‧固定板
710‧‧‧第二通孔
810‧‧‧第三通孔
91‧‧‧噴嘴
92‧‧‧導管
820‧‧‧注料口
85‧‧‧塗料溶劑
121‧‧‧開口
750‧‧‧第一主體部
752‧‧‧伸縮桿
圖1係本發明第一實施方式之鍍膜系統之示意圖；圖2係圖1中之鍍膜系統之使用狀態示意圖；圖3係本發明第二實施方式之鍍膜系統之示意圖。
下面將結合附圖，對本發明提供之鍍膜系統作進一步之詳細說明。
請參閱圖1，所示為本發明第一實施方式之鍍膜系統100之結構圖 ，所述鍍膜系統100包括一個腔體10、一離子發射源20、一蒸發源30、一鍍膜傘架40、一旋轉驅動組件50、一升降驅動組件60、一閘門結構70、一溶劑儲室80及一噴射裝置90。
所述腔體10為一中空箱體，其包括一殼體11、一隔板12。所述隔板12設置於所述殼體11內，以將所述殼體11內部空間分隔為鍍膜腔13及噴漆腔14。所述隔板12之中心部開設有一開口121，該開口121使所述鍍膜腔13及噴漆腔14相貫通。所述殼體11包括一頂板11a、一與頂板11a相對設置之底板11b、與所述頂板11a及底板11b垂直設置之第一側板11c及第二側板11d。所述第一側板11c及第二側板11d相對設置。所述頂板11a上開設有一圓孔114。所述第一側板11c上開設有一排氣孔110，該排氣孔110用於使所述噴漆腔14與外界相連通。所述第二側板11d上開設有第一通孔112。
所述離子發射源20及所述蒸發源30均收容在所述鍍膜腔13內並固定在所述鍍膜腔13之底板11b之內側。所述蒸發源30與所述離子發射源20相鄰設置，該蒸發源30用於使所述離子發射源20發射之靶材加熱至蒸氣狀態。本實施方式中，所述靶材為SiO2。
所述鍍膜傘架40在升降驅動組件60之驅動下可升降地設置在殼體11並在所述旋轉驅動組件50之驅動下實現轉動。所述鍍膜傘架40最大端之直徑與所述隔板12上之開口121之直徑相同或者略小於所述隔板12之開口121之直徑。該鍍膜傘架40具有複數個鍍膜孔41，每個鍍膜孔41內放置有一待鍍膜之基板44。所述待鍍膜之基板44可為鏡片、金屬基板等，本實施方式中，所述待鍍膜之基板44為鏡片。所述待鍍膜之基板44欲鍍膜之表面朝向所述離子發射源20及所述蒸發源30。
所述旋轉驅動組件50為一致動器。所述旋轉驅動組件50包括一主體部502及一可相對主體部502轉動之轉軸504。所述轉軸504穿設於所述頂板11a上之圓孔114，且該轉軸504之一端固定連接至所述鍍膜傘架40，另一端可轉動地連接至所述主體部502並可在所述主體部502之驅動下旋轉。所述轉軸504轉動時帶動鍍膜傘架40在腔體10內旋轉。
所述升降驅動組件60包括一固定桿62、一轉動桿64、一套環66及第一馬達68。所述固定桿62固定在所述殼體11之頂板11a之外側。所述轉動桿64為一中空結構，所述轉動桿64設有外螺紋。所述轉動桿64之一端套設於所述固定桿62，且另一端可轉動地連接至第一馬達68，並在第一馬達68之帶動下轉動。所述套環66設有與所述轉動桿64之外螺紋匹配之內螺紋。所述套環66套設在所述轉動桿64上且套環66之內螺紋與所述轉動桿64之外螺紋相嚙合。所述套環66通過一連接桿69連接至所述旋轉驅動組件50之主體部502。因此，可通過第一馬達68帶動轉動桿64轉動以使套環66沿著所述轉動桿64做升降運動，從而使與所述旋轉驅動組件50相連接之所述鍍膜傘架40可在鍍膜腔13及噴漆腔14內上下移動。
所述閘門結構70包括兩個閥門71、兩個第二馬達72。所述兩個第二馬達72分別設置在所述隔板12上並分別與所述閥門71連接從而使所述閥門71可翻轉地設置在所述隔板12上。所述兩個閥門71上分別設有半圓形通孔。當該兩個閥門71閉合時，所述兩個半圓形通孔形成一第二通孔710。所述旋轉驅動組件50之轉軸504可穿過在所述第二通孔710內轉動。所述兩個閥門71分別可轉動地連接至第二馬達72上，並可在第二馬達72之帶動下相對隔板12翻轉以 封閉或者開啟所述隔板上之開口121。
所述溶劑儲室80設置在所述殼體11之第二側板11d一側，且對應所述第二側板11d之第一通孔112位置設有第三通孔810。所述溶劑儲室80還開設有一注料口820，其用於往所述溶劑儲室80內注入塗料溶劑85，本實施方式中，所述塗料溶劑85為樹酯。
所述噴射裝置90包括一噴嘴91及一導管92。所述噴嘴91收容在所述第一通孔112及第三通孔810內，且該噴嘴91正對所述噴漆腔14。所述導管92之一端連接至噴嘴91，另一端插入至溶劑儲室80內，以將溶劑儲室80內之塗料溶劑85導至噴嘴91對待鍍膜之基板44進行噴射塗料溶劑85。
請一併參閱圖2，鍍膜時，所述第二馬達72旋轉，打開閥門71，通過排氣孔110抽取腔體10之空氣，以使噴漆腔14及鍍膜腔13處於真空狀態。隨後，第二馬達72旋轉，閥門71關閉。所述離子發射源20發射靶材，蒸發源30加熱所述發射之靶材至蒸汽狀態，同時所述旋轉驅動組件50旋轉所述鍍膜傘架40，以使鍍膜傘架40在所述鍍膜腔13內旋轉，以使所述複數個鍍膜孔41內放置之所述待鍍膜之基板44形成一層均勻之增透膜。請一併參閱圖2與圖3，然後，通過注料口820往所述溶劑儲室80內注入塗料溶劑85。隨後，所述第二馬達72旋轉，打開閥門71，所述升降驅動組件60工作，以使所述鍍膜傘架40上升至所述噴漆腔14內。隨後，打開排氣孔110，開啟所述噴射裝置90，同時驅動元件5驅動所述鍍膜傘架40在所述噴漆腔14內旋轉，通過噴嘴91向鍍膜傘架40內之待鍍膜之基板44噴射所述塗料溶劑85，以使所述複數個鍍膜孔41內放置之所述待鍍膜之基板44形成一層均勻之防水膜。
請參閱圖3，為本發明第二實施方式之鍍膜系統200，本實施方式之鍍膜系統200與第一實施方式之鍍膜系統100大體相同，其差異主要在於：所述升降驅動組件75為一汽缸，其包括一第一主體部750及一伸縮桿752。所述伸縮桿752之一端可伸縮地連接至所述第一主體部750，所述伸縮桿752之另一端連接至旋轉驅動組件50之主體部502。且該升降驅動組件75之第一主體部750固定在一高度高於腔體10之固定板77上。所述升降驅動組件75之伸縮桿752之伸縮帶動所述旋轉驅動組件50升降，從而帶動所述鍍膜傘架40在所述鍍膜腔13及噴漆腔14內升降。
本發明之鍍膜系統既可對待鍍膜之基板進行蒸鍍又可對待鍍膜之基板噴射塗料，省去了由蒸鍍制程到噴射塗料制程之間對待鍍膜之基板之運送動作，因此節省了鍍膜成本及提高了鍍膜效率，同時避免待鍍膜之基板由於運送而造成之污染，進而提高了鍍膜良率。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100‧‧‧鍍膜系統
10‧‧‧腔體
20‧‧‧離子發射源
30‧‧‧蒸發源
40‧‧‧鍍膜傘架
50‧‧‧旋轉驅動組件
60‧‧‧升降驅動組件
70‧‧‧閘門結構
80‧‧‧溶劑儲室
90‧‧‧噴射裝置
11‧‧‧殼體
12‧‧‧隔板
13‧‧‧鍍膜腔
14‧‧‧噴漆腔
11a‧‧‧頂板
11b‧‧‧底板
11c‧‧‧第一側板
11d‧‧‧第二側板
114‧‧‧圓孔
110‧‧‧排氣孔
112‧‧‧第一通孔
41‧‧‧鍍膜孔
44‧‧‧待鍍膜之基板
502‧‧‧主體部
504‧‧‧轉軸
62‧‧‧固定桿
64‧‧‧轉動桿
66‧‧‧套環
68‧‧‧第一馬達
69‧‧‧連接桿
71‧‧‧閥門
72‧‧‧第二馬達
91‧‧‧噴嘴
92‧‧‧導管
710‧‧‧第二通孔
810‧‧‧第三通孔
820‧‧‧注料口
85‧‧‧塗料溶劑
121‧‧‧開口

Claims (8)

  1. 一種鍍膜系統，其包括一腔體、一鍍膜傘架及一旋轉驅動組件，所述鍍膜傘架用於收容複數個待鍍膜之基板，所述旋轉驅動組件連接至所述鍍膜傘架，用於驅動所述鍍膜傘架在所述腔體內轉動，其改進在於：所述腔體包括一殼體與一隔板，所述殼體包括一頂板，所述頂板上開設有一圓孔，所述旋轉驅動組件包括一主體部及一可相對主體部轉動之轉軸，所述轉軸穿設於所述頂板上之圓孔，且該轉軸之一端固定連接至所述鍍膜傘架，另一端轉動地連接至所述主體部並在所述主體部之驅動下旋轉，所述隔板設置於所述殼體內，該隔板將所述腔體分隔成相互間隔之鍍膜腔及噴漆腔，所述隔板之中心部開設有一開口，該開口使所述鍍膜腔及噴漆腔相貫通，所述鍍膜系統進一步包括一升降驅動組件、一溶劑儲室及一噴射裝置，所述升降驅動組件帶動旋轉驅動組件升降，以使所述鍍膜傘架在鍍膜腔及噴漆腔內升降，所述溶劑儲室用於存放塗料溶劑，所述溶劑儲室與所述噴漆腔相貫通，所述噴射裝置設置在所述溶劑儲室內，該噴射裝置並連接至所述噴漆腔，以將溶劑儲室內之塗料溶劑噴射至待鍍膜之基板。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統，其中：所述升降驅動組件包括一固定桿、一轉動桿、一套環及第一馬達，所述固定桿固定在所述殼體之頂板之外側，所述轉動桿為一中空結構，所述轉動桿設有外螺紋，所述轉動桿之一端套設於所述固定桿，且另一端轉動地連接至第一馬達，並在第一馬達之帶動下轉動，所述套環設有與所述轉動桿之外螺紋匹配之內螺紋，所述套環套設在所述轉動桿上且套環之內螺紋與所述轉動桿之外螺紋相嚙合，所述套環通過一連接桿連接至所述旋轉驅動組件之主體 部。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統，其中：所述殼體還包括一與頂板相對設置之底板、均與所述頂板及底板垂直設置之第一側板及第二側板，所述第一側板及第二側板相對設置，所述第一側板開設有一排氣孔，該進/排氣孔用於使所述噴漆腔體與外界相連通。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之鍍膜系統，其中：所述第二側板上開設有第一通孔，所述溶劑儲室設置在所述殼體之第二側板之外側上，且對應所述第二側板之第一通孔位置設有第三通孔，所述噴嘴收容在所述第一通孔及第三通孔內。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統，其中：所述溶劑儲室開設有一注料口，該注料口用於往所述溶劑儲室內注入塗料溶劑。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統，其中：所述鍍膜系統進一步包括一離子發射源及一蒸發源，所述離子發射源及所述蒸發源均設置在所述腔體內，所述蒸發源與所述離子發射源相鄰設置，該蒸發源用於使所述離子發射源發射之靶材加熱至蒸氣狀態。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統，其中：所述鍍膜系統進一步包括一閘門結構，該閘門結構包括兩個閥門、兩個第二馬達，所述兩個第二馬達分別設置在所述隔板上分別與所述閥門連接，所述兩個閥門上分別設有半圓形通孔，當該兩個閥門閉合時，兩個半圓形通孔形成一第二通孔，所述致動器之轉軸在所述第二通孔內轉動，所述兩個閥門分別轉動地連接至第二馬達上，並在第二馬達之帶動下相對隔板翻轉以封閉或者開啟所述隔板上之開口。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統，其中：所述噴射裝置包括一噴嘴及一導管，所述噴嘴連接至所述噴漆腔，所述導管之一端連接至噴嘴，另一端插入至溶劑儲室內，以將溶劑儲室內之塗料溶劑引導至噴嘴，以 對待鍍膜之基板進行噴射塗料溶劑。
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