JP2015504546A5 - - Google Patents
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Description
さらに別の実施形態は、複数の相互接続ナノ構造、および第1の屈折率を有する第1の結合剤を含む、ナノ構造層を基板上に形成するステップと、第1の結合剤を除去するステップと、第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する、第2の絶縁媒体を被覆するステップとを含む、光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスを提供する。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
光学スタックであって、
少なくとも1つのナノ構造層と、
前記ナノ構造層に隣接する少なくとも1つの基板であって、前記ナノ構造層は、複数の伝導性ナノ構造を含み、前記光学スタックの入射光と同一側から観察される前記入射光の拡散反射は、前記入射光の6%未満である、基板と
を備える、光学スタック。
(項目2)
前記ナノ構造層はさらに、前記複数の伝導性ナノ構造を組み込む絶縁媒体を備える、項目1に記載の光学スタック。
(項目3)
前記絶縁媒体は、1.5未満の屈折率を有する、項目2に記載の光学スタック。
(項目4)
前記絶縁媒体は、空気である、項目3に記載の光学スタック。
(項目5)
個別のナノ構造は、有機被覆を有していないか、または低屈折率有機被覆を有する、項目1〜4のいずれかに記載の光学スタック。
(項目6)
前記絶縁媒体は、HPMCであり、前記複数の伝導性ナノ構造は、銀ナノワイヤであり、HPMCおよび前記複数の伝導性ナノ構造の重量比は、約1:1であり、前記ナノ構造層は、100オーム/スクエア未満のシート抵抗を有する、項目2に記載の光学スタック。
(項目7)
前記複数の伝導性ナノ構造が前記基板よりも前記入射光に近接するように配向される、項目1〜6のいずれかに記載の光学スタック。
(項目8)
前記ナノ構造層の真上に位置するオーバーコートをさらに備え、前記オーバーコートは、1.5未満の屈折率を有する、項目7に記載の光学スタック。
(項目9)
前記オーバーコートは、前記絶縁媒体と同一の材料である、項目8に記載の光学スタック。
(項目10)
前記オーバーコートは、1.45以下の屈折率を有する低屈折率OCA層である、項目8に記載の光学スタック。
(項目11)
前記基板と前記ナノ構造層との間に間置されるアンダーコートをさらに備え、前記アンダーコートは、前記ナノ構造層の真下に位置し、前記アンダーコートは、前記絶縁媒体の屈折率および前記基板の屈折率よりも高い屈折率を有する、項目7〜10のいずれかに記載の光学スタック。
(項目12)
前記アンダーコートは、少なくとも1.65の屈折率を有する、項目11に記載の光学スタック。
(項目13)
前記アンダーコートは、TiO 2 、ポリイミド、SiO 2 、またはZnO 2 を含む、項目12に記載の光学スタック。
(項目14)
前記入射光に最も近接し、少なくとも1.7の屈折率を有する最外カバー層をさらに備える、項目7〜13のいずれかに記載の光学スタック。
(項目15)
前記最外カバー層は、TiO 2 層である、項目14に記載の光学スタック。
(項目16)
前記ナノ構造層内に伝導性領域と、非伝導性領域とを備え、前記伝導性領域は、第1のシート抵抗を有し、前記非伝導性領域は、第2のシート抵抗を有し、前記第1のシート抵抗は、前記第2のシート抵抗よりも少なくとも10 3 大きい、項目7〜15のいずれかに記載の光学スタック。
(項目17)
前記基板が前記複数の伝導性ナノ構造よりも前記入射光に近接するように配向される、項目1〜6のいずれかに記載の光学スタック。
(項目18)
前記基板と前記ナノ構造層との間に間置されるオーバーコートをさらに備え、前記オーバーコートは、1.5以下の屈折率を有する、項目17に記載の光学スタック。
(項目19)
前記オーバーコートは、前記絶縁媒体と同一の材料である、項目18に記載の光学スタック。
(項目20)
前記オーバーコートは、1.45以下の屈折率を有する、項目18に記載の光学スタック。
(項目21)
前記ナノ構造層の真下に位置するアンダーコートをさらに備え、前記アンダーコートは、前記絶縁媒体の屈折率よりも高い屈折率を有する、項目17〜20のいずれかに記載の光学スタック。
(項目22)
前記アンダーコートは、少なくとも1.65の屈折率を有する、項目21に記載の光学スタック。
(項目23)
前記アンダーコートは、TiO 2 、ポリイミド、SiO 2 、またはZnO 2 を備える、項目22に記載の光学スタック。
(項目24)
前記入射光に最も近接し、少なくとも1.7の屈折率を有する最外カバー層をさらに備える、項目17〜23のいずれかに記載の光学スタック。
(項目25)
前記最外カバー層は、TiO 2 層である、項目24に記載の光学スタック。
(項目26)
前記ナノ構造層内に伝導性領域と、非伝導性領域とを備え、前記伝導性領域は、第1のシート抵抗を有し、前記非伝導性領域は、第2のシート抵抗を有し、前記第1のシート抵抗は、前記第2のシート抵抗よりも少なくとも10 3 大きい、項目17〜25のいずれかに記載の光学スタック。
(項目27)
項目1〜26のいずれかに記載の光学スタックと、LCDモジュールとを備えるディスプレイであって、前記光学スタックおよび前記LCDモジュールは、空間を画定し、前記空間は、1よりも大きい屈折率を有する屈折流体または透明な光学的接着材料で充填される、ディスプレイである。
(項目28)
それぞれ、基板と、複数の伝導性ナノ構造を有するナノ構造層とを有する第1および第2の基本光学スタックを提供することと、
1.45以下の屈折率を有する低屈折率OCA層によって、前記第1の基本光学スタックを前記第2の基本光学スタックに積層することと
を含む、プロセス。
(項目29)
前記第1の基本光学スタックを提供することは、(a)前記第1の基本光学スタックの上に位置する保護オーバーコートを有する第1の標準透明導体を提供することであって、個別の伝導性ナノ構造は、有機被覆で被覆される、ことと、(b)前記保護オーバーコートおよび前記伝導性ナノ構造の前記有機被覆を除去するように、前記第1の標準透明導体をプラズマ処理することとを含む、項目28に記載のプロセス。
(項目30)
前記第1の基本光学スタックは、第1の複数の実質的に平行な導電線を有し、前記第2の基本光学スタックは、第2の複数の実質的に平行な導電線を有し、積層することは、前記第1の複数の実質的に平行な導電線が、前記第2の複数の実質的に平行な導電線と実質的に垂直であるように、前記第1の基本光学スタックを前記第2の基本光学スタックに接着することを含む、項目28または項目29に記載のプロセス。
(項目31)
積層する前に、前記第1および第2の基本光学スタック上に金属トレースおよび接点を形成することをさらに含む、項目30に記載のプロセス。
(項目32)
光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造および結合剤を含むナノ構造層を基板上に形成することであって、個別のナノ構造は、有機被覆を有する、ことと、
前記ナノ構造層をプラズマ処理することと
を含む、プロセス。
(項目33)
プラズマ処理することは、前記ナノ構造上の前記結合剤および前記有機被覆を除去する、項目32に記載のプロセス。
(項目34)
光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造および結合剤を含むナノ構造層を基板上に形成することであって、個別のナノ構造は、第1の屈折率を有する第1の有機被覆を有する、ことと、
前記第1の有機被覆を、前記第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する第2の有機被覆と変位させることと
を含む、プロセス。
(項目35)
前記第1の有機被覆は、ポリビニルピロリドンであり、前記第2の有機被覆は、アニオン性フルオロ界面活性剤である、項目34に記載のプロセス。
(項目36)
光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造と、第1の屈折率を有する第1の結合剤とを含むナノ構造層を基板上に形成することと、
前記第1の結合剤を除去することと、
前記第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する第2の絶縁媒体を被覆することと
を含む、プロセス。
(項目37)
前記絶縁媒体は、1.45以下の屈折率を有する、項目36に記載のプロセス。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
光学スタックであって、
少なくとも1つのナノ構造層と、
前記ナノ構造層に隣接する少なくとも1つの基板であって、前記ナノ構造層は、複数の伝導性ナノ構造を含み、前記光学スタックの入射光と同一側から観察される前記入射光の拡散反射は、前記入射光の6%未満である、基板と
を備える、光学スタック。
(項目2)
前記ナノ構造層はさらに、前記複数の伝導性ナノ構造を組み込む絶縁媒体を備える、項目1に記載の光学スタック。
(項目3)
前記絶縁媒体は、1.5未満の屈折率を有する、項目2に記載の光学スタック。
(項目4)
前記絶縁媒体は、空気である、項目3に記載の光学スタック。
(項目5)
個別のナノ構造は、有機被覆を有していないか、または低屈折率有機被覆を有する、項目1〜4のいずれかに記載の光学スタック。
(項目6)
前記絶縁媒体は、HPMCであり、前記複数の伝導性ナノ構造は、銀ナノワイヤであり、HPMCおよび前記複数の伝導性ナノ構造の重量比は、約1:1であり、前記ナノ構造層は、100オーム/スクエア未満のシート抵抗を有する、項目2に記載の光学スタック。
(項目7)
前記複数の伝導性ナノ構造が前記基板よりも前記入射光に近接するように配向される、項目1〜6のいずれかに記載の光学スタック。
(項目8)
前記ナノ構造層の真上に位置するオーバーコートをさらに備え、前記オーバーコートは、1.5未満の屈折率を有する、項目7に記載の光学スタック。
(項目9)
前記オーバーコートは、前記絶縁媒体と同一の材料である、項目8に記載の光学スタック。
(項目10)
前記オーバーコートは、1.45以下の屈折率を有する低屈折率OCA層である、項目8に記載の光学スタック。
(項目11)
前記基板と前記ナノ構造層との間に間置されるアンダーコートをさらに備え、前記アンダーコートは、前記ナノ構造層の真下に位置し、前記アンダーコートは、前記絶縁媒体の屈折率および前記基板の屈折率よりも高い屈折率を有する、項目7〜10のいずれかに記載の光学スタック。
(項目12)
前記アンダーコートは、少なくとも1.65の屈折率を有する、項目11に記載の光学スタック。
(項目13)
前記アンダーコートは、TiO 2 、ポリイミド、SiO 2 、またはZnO 2 を含む、項目12に記載の光学スタック。
(項目14)
前記入射光に最も近接し、少なくとも1.7の屈折率を有する最外カバー層をさらに備える、項目7〜13のいずれかに記載の光学スタック。
(項目15)
前記最外カバー層は、TiO 2 層である、項目14に記載の光学スタック。
(項目16)
前記ナノ構造層内に伝導性領域と、非伝導性領域とを備え、前記伝導性領域は、第1のシート抵抗を有し、前記非伝導性領域は、第2のシート抵抗を有し、前記第1のシート抵抗は、前記第2のシート抵抗よりも少なくとも10 3 大きい、項目7〜15のいずれかに記載の光学スタック。
(項目17)
前記基板が前記複数の伝導性ナノ構造よりも前記入射光に近接するように配向される、項目1〜6のいずれかに記載の光学スタック。
(項目18)
前記基板と前記ナノ構造層との間に間置されるオーバーコートをさらに備え、前記オーバーコートは、1.5以下の屈折率を有する、項目17に記載の光学スタック。
(項目19)
前記オーバーコートは、前記絶縁媒体と同一の材料である、項目18に記載の光学スタック。
(項目20)
前記オーバーコートは、1.45以下の屈折率を有する、項目18に記載の光学スタック。
(項目21)
前記ナノ構造層の真下に位置するアンダーコートをさらに備え、前記アンダーコートは、前記絶縁媒体の屈折率よりも高い屈折率を有する、項目17〜20のいずれかに記載の光学スタック。
(項目22)
前記アンダーコートは、少なくとも1.65の屈折率を有する、項目21に記載の光学スタック。
(項目23)
前記アンダーコートは、TiO 2 、ポリイミド、SiO 2 、またはZnO 2 を備える、項目22に記載の光学スタック。
(項目24)
前記入射光に最も近接し、少なくとも1.7の屈折率を有する最外カバー層をさらに備える、項目17〜23のいずれかに記載の光学スタック。
(項目25)
前記最外カバー層は、TiO 2 層である、項目24に記載の光学スタック。
(項目26)
前記ナノ構造層内に伝導性領域と、非伝導性領域とを備え、前記伝導性領域は、第1のシート抵抗を有し、前記非伝導性領域は、第2のシート抵抗を有し、前記第1のシート抵抗は、前記第2のシート抵抗よりも少なくとも10 3 大きい、項目17〜25のいずれかに記載の光学スタック。
(項目27)
項目1〜26のいずれかに記載の光学スタックと、LCDモジュールとを備えるディスプレイであって、前記光学スタックおよび前記LCDモジュールは、空間を画定し、前記空間は、1よりも大きい屈折率を有する屈折流体または透明な光学的接着材料で充填される、ディスプレイである。
(項目28)
それぞれ、基板と、複数の伝導性ナノ構造を有するナノ構造層とを有する第1および第2の基本光学スタックを提供することと、
1.45以下の屈折率を有する低屈折率OCA層によって、前記第1の基本光学スタックを前記第2の基本光学スタックに積層することと
を含む、プロセス。
(項目29)
前記第1の基本光学スタックを提供することは、(a)前記第1の基本光学スタックの上に位置する保護オーバーコートを有する第1の標準透明導体を提供することであって、個別の伝導性ナノ構造は、有機被覆で被覆される、ことと、(b)前記保護オーバーコートおよび前記伝導性ナノ構造の前記有機被覆を除去するように、前記第1の標準透明導体をプラズマ処理することとを含む、項目28に記載のプロセス。
(項目30)
前記第1の基本光学スタックは、第1の複数の実質的に平行な導電線を有し、前記第2の基本光学スタックは、第2の複数の実質的に平行な導電線を有し、積層することは、前記第1の複数の実質的に平行な導電線が、前記第2の複数の実質的に平行な導電線と実質的に垂直であるように、前記第1の基本光学スタックを前記第2の基本光学スタックに接着することを含む、項目28または項目29に記載のプロセス。
(項目31)
積層する前に、前記第1および第2の基本光学スタック上に金属トレースおよび接点を形成することをさらに含む、項目30に記載のプロセス。
(項目32)
光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造および結合剤を含むナノ構造層を基板上に形成することであって、個別のナノ構造は、有機被覆を有する、ことと、
前記ナノ構造層をプラズマ処理することと
を含む、プロセス。
(項目33)
プラズマ処理することは、前記ナノ構造上の前記結合剤および前記有機被覆を除去する、項目32に記載のプロセス。
(項目34)
光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造および結合剤を含むナノ構造層を基板上に形成することであって、個別のナノ構造は、第1の屈折率を有する第1の有機被覆を有する、ことと、
前記第1の有機被覆を、前記第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する第2の有機被覆と変位させることと
を含む、プロセス。
(項目35)
前記第1の有機被覆は、ポリビニルピロリドンであり、前記第2の有機被覆は、アニオン性フルオロ界面活性剤である、項目34に記載のプロセス。
(項目36)
光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造と、第1の屈折率を有する第1の結合剤とを含むナノ構造層を基板上に形成することと、
前記第1の結合剤を除去することと、
前記第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する第2の絶縁媒体を被覆することと
を含む、プロセス。
(項目37)
前記絶縁媒体は、1.45以下の屈折率を有する、項目36に記載のプロセス。
Claims (37)
- 光学スタックであって、
少なくとも1つのナノ構造層と、
前記ナノ構造層に隣接する少なくとも1つの基板であって、前記ナノ構造層は、複数の伝導性ナノ構造を含み、前記光学スタックの入射光と同一側から観察される前記入射光の拡散反射は、前記入射光の6%未満である、基板と
を備える、光学スタック。 - 前記ナノ構造層はさらに、前記複数の伝導性ナノ構造を組み込む絶縁媒体を備える、請求項1に記載の光学スタック。
- 前記絶縁媒体は、1.5未満の屈折率を有する、請求項2に記載の光学スタック。
- 前記絶縁媒体は、空気である、請求項3に記載の光学スタック。
- 個別のナノ構造は、有機被覆を有していないか、または低屈折率有機被覆を有する、請求項1〜4のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記絶縁媒体は、HPMCであり、前記複数の伝導性ナノ構造は、銀ナノワイヤであり、HPMCおよび前記複数の伝導性ナノ構造の重量比は、約1:1であり、前記ナノ構造層は、100オーム/スクエア未満のシート抵抗を有する、請求項2に記載の光学スタック。
- 前記複数の伝導性ナノ構造が前記基板よりも前記入射光に近接するように配向される、請求項1〜6のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記ナノ構造層の真上に位置するオーバーコートをさらに備え、前記オーバーコートは、1.5未満の屈折率を有する、請求項7に記載の光学スタック。
- 前記オーバーコートは、前記絶縁媒体と同一の材料である、請求項8に記載の光学スタック。
- 前記オーバーコートは、1.45以下の屈折率を有する低屈折率OCA層である、請求項8に記載の光学スタック。
- 前記基板と前記ナノ構造層との間に間置されるアンダーコートをさらに備え、前記アンダーコートは、前記ナノ構造層の真下に位置し、前記アンダーコートは、前記絶縁媒体の屈折率および前記基板の屈折率よりも高い屈折率を有する、請求項7〜10のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記アンダーコートは、少なくとも1.65の屈折率を有する、請求項11に記載の光学スタック。
- 前記アンダーコートは、TiO2、ポリイミド、SiO2、またはZnO2を含む、請求項12に記載の光学スタック。
- 前記入射光に最も近接し、少なくとも1.7の屈折率を有する最外カバー層をさらに備える、請求項7〜13のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記最外カバー層は、TiO2層である、請求項14に記載の光学スタック。
- 前記ナノ構造層内に伝導性領域と、非伝導性領域とを備え、前記伝導性領域は、第1のシート抵抗を有し、前記非伝導性領域は、第2のシート抵抗を有し、前記第2のシート抵抗は、前記第1のシート抵抗よりも少なくとも103大きい、請求項7〜15のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記基板が前記複数の伝導性ナノ構造よりも前記入射光に近接するように配向される、請求項1〜6のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記基板と前記ナノ構造層との間に間置されるオーバーコートをさらに備え、前記オーバーコートは、1.5以下の屈折率を有する、請求項17に記載の光学スタック。
- 前記オーバーコートは、前記絶縁媒体と同一の材料である、請求項18に記載の光学スタック。
- 前記オーバーコートは、1.45以下の屈折率を有する、請求項18に記載の光学スタック。
- 前記ナノ構造層の真下に位置するアンダーコートをさらに備え、前記アンダーコートは、前記絶縁媒体の屈折率よりも高い屈折率を有する、請求項17〜20のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記アンダーコートは、少なくとも1.65の屈折率を有する、請求項21に記載の光学スタック。
- 前記アンダーコートは、TiO2、ポリイミド、SiO2、またはZnO2を備える、請求項22に記載の光学スタック。
- 前記入射光に最も近接し、少なくとも1.7の屈折率を有する最外カバー層をさらに備える、請求項17〜23のいずれかに記載の光学スタック。
- 前記最外カバー層は、TiO2層である、請求項24に記載の光学スタック。
- 前記ナノ構造層内に伝導性領域と、非伝導性領域とを備え、前記伝導性領域は、第1のシート抵抗を有し、前記非伝導性領域は、第2のシート抵抗を有し、前記第2のシート抵抗は、前記第1のシート抵抗よりも少なくとも103大きい、請求項17〜25のいずれかに記載の光学スタック。
- 請求項1〜26のいずれかに記載の光学スタックと、LCDモジュールとを備えるディスプレイであって、前記光学スタックおよび前記LCDモジュールは、空間を画定し、前記空間は、1よりも大きい屈折率を有する屈折流体または透明な光学的接着材料で充填される、ディスプレイである。
- プロセスであって、
それぞれ、基板と、複数の伝導性ナノ構造を有するナノ構造層とを有する第1および第2の基本光学スタックを提供することと、
1.45以下の屈折率を有する低屈折率OCA層によって、前記第1の基本光学スタックを前記第2の基本光学スタックに積層することと
を含む、プロセス。 - 前記第1の基本光学スタックを提供することは、(a)前記第1の基本光学スタックの上に位置する保護オーバーコートを有する第1の標準透明導体を提供することであって、個別の伝導性ナノ構造は、有機被覆で被覆される、ことと、(b)前記保護オーバーコートおよび前記伝導性ナノ構造の前記有機被覆を除去するように、前記第1の標準透明導体をプラズマ処理することとを含む、請求項28に記載のプロセス。
- 前記第1の基本光学スタックは、第1の複数の実質的に平行な導電線を有し、前記第2の基本光学スタックは、第2の複数の実質的に平行な導電線を有し、積層することは、前記第1の複数の実質的に平行な導電線が、前記第2の複数の実質的に平行な導電線と実質的に垂直であるように、前記第1の基本光学スタックを前記第2の基本光学スタックに接着することを含む、請求項28または請求項29に記載のプロセス。
- 積層する前に、前記第1および第2の基本光学スタック上に金属トレースおよび接点を形成することをさらに含む、請求項30に記載のプロセス。
- 光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造および結合剤を含むナノ構造層を基板上に形成することであって、個別のナノ構造は、有機被覆を有する、ことと、
前記ナノ構造層をプラズマ処理することと
を含む、プロセス。 - プラズマ処理することは、前記ナノ構造上の前記結合剤および前記有機被覆を除去する、請求項32に記載のプロセス。
- 光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造および結合剤を含むナノ構造層を基板上に形成することであって、個別のナノ構造は、第1の屈折率を有する第1の有機被覆を有する、ことと、
前記第1の有機被覆を、前記第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する第2の有機被覆と変位させることと
を含む、プロセス。 - 前記第1の有機被覆は、ポリビニルピロリドンであり、前記第2の有機被覆は、アニオン性フルオロ界面活性剤である、請求項34に記載のプロセス。
- 光学スタックにおける拡散反射を低減させるためのプロセスであって、
複数の相互接続ナノ構造と、第1の屈折率を有する第1の結合剤とを含むナノ構造層を基板上に形成することと、
前記第1の結合剤を除去することと、
前記第1の屈折率よりも小さい第2の屈折率を有する第2の絶縁媒体を被覆することと
を含む、プロセス。 - 前記絶縁媒体は、1.45以下の屈折率を有する、請求項36に記載のプロセス。
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