JP2015032438A - 透明導電性シート、および透明導電性シートを用いたタッチパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】可視光が銀ナノワイヤに当たっても、銀ナノワイヤが酸化しにくい透明導電性シートを提供する。
【解決手段】透明導電性シート１は、第１酸素不透過層２と、前記第１酸素不透過層２の上に積層される銀ナノワイヤ保持層３と、前記銀ナノワイヤ保持層の上に積層される銀ナノワイヤ４と、前記銀ナノワイヤの上に積層される第２酸素不透過層６とを備え、前記第１酸素不透過層２と前記第２酸素不透過層６の酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下である透明導電性シートであるように構成した。
【選択図】図１
【解決手段】透明導電性シート１は、第１酸素不透過層２と、前記第１酸素不透過層２の上に積層される銀ナノワイヤ保持層３と、前記銀ナノワイヤ保持層の上に積層される銀ナノワイヤ４と、前記銀ナノワイヤの上に積層される第２酸素不透過層６とを備え、前記第１酸素不透過層２と前記第２酸素不透過層６の酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下である透明導電性シートであるように構成した。
【選択図】図１
Description
本発明は、透明電極などに用いられる透明導電性シートに関するものであり、特に銀ナノワイヤを含む透明導電性シートに関するものである。
透明基材上に導電性の化合物の薄膜を形成した透明導電膜は、その導電性を利用した用途、例えば液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイといったフラットディスプレイやタッチパネルの透明電極など電気、電子分野で広く使用されている。前記透明導電膜としては、透明基材の少なくとも片面に、酸化スズ（ＳｎＯ２） 、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ） や酸化亜鉛（ＺｎＯ） 等を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスによって設けたものがよく知られている。
また、上記ドライプロセス以外にも、導電性高分子、ＣＮＴ、例えば金属ナノワイヤなどの金属微粒子のネットワーク構造を使用したウエットプロセスによる透明導電膜も提案されている。
その中でも近年、可視光領域で透明な導電性材料として金属ナノワイヤが研究されている。金属ナノワイヤは直径が短いため、可視光領域での光透過性が高く、ＩＴＯに代わる透明導電膜としての応用が期待されている。このような金属ナノワイヤを用いたものとして、銀ナノワイヤを用いた透明導電膜が提案されている（例えば、特許文献１）。
しかし、銀ナノワイヤは実条件での使用においては、銀の酸化に起因する導電率の低下が問題となっている。これを防止するために、特許文献２には導電率の低下に対してオーバーコート層を設けたりすることが記載されている。しかし、単にオーバーコート層を設けただけでは、可視光が銀ナノワイヤに長時間当った場合、透明導電性シートの抵抗値が上昇すると問題がある。
従って、本発明の目的は、長時間の間、可視光が銀ナノワイヤに当たった場合、透明導電性シートの抵抗値の上昇を抑制する透明導電性シートを提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
本発明の第１態様によれば、第１酸素不透過層と、前記第１酸素不透過層の上に積層される銀ナノワイヤ保持層と、前記銀ナノワイヤ保持層の上に積層される銀ナノワイヤと、前記銀ナノワイヤの上に積層される第２酸素不透過層とを備え、前記第１酸素不透過層と前記第２酸素不透過層の酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下である透明導電性シートを提供する。
本発明の第２態様によれば、前記第１酸素不透過層と前記銀ナノワイヤ保持層との間に酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の第１酸素透過層を備える透明導電性シートを提供する。
本発明の第３態様によれば、前記銀ナノワイヤと前記第２酸素不透過層との間に酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の第２酸素透過層を備える透明導電性シートを提供する。
本発明の第４態様によれば、前記銀ナノワイヤ保持層と前記接着層の端面に前記銀ナノワイヤを封止するよう形成される第３酸素不透過層を備える透明導電性シートを提供する。
本発明の第５態様によれば、前記第１酸素不透過層と前記第２酸素不透過層がポリエチレンナフタレートである透明導電性シートを提供する。
本発明の第６態様によれば、前記第１酸素透過層と前記第２酸素透過層がシクロオレフィンポリマーである透明導電性シートを提供する。
本発明の第７態様によれば、前記銀ナノワイヤの直径が５ｎｍ〜５００ｎｍであり、長さが５００ｎｍ〜５００００ｎｍである透明導電性シートを提供する。
本発明の第８態様によれば、前記銀ナノワイヤは、銀以外の金属でメッキされた透明導電性シートを提供する。
本発明の第９態様によれば、透明導電性シートを用いたタッチパネルを提供する。
本発明の透明導電性シートは、長時間の間、可視光が銀ナノワイヤに当たっても、透明導電性シートの抵抗値の上昇を抑制できる透明導電性シートである。
下記で、本発明に係る実施形態を図面に基づいてさらに詳細に説明する。なお、本発明の実施例に記載した部位や部分の寸法、材質、形状、その相対位置などは、とくに特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。
第１実施態様
図１に示すように、本発明の透明導電性シート１は、第１酸素不透過層２、銀ナノワイヤ保持層３、銀ナノワイヤ４、接着層５、第２酸素不透過層６がこの順番で積層された構成からなる。
図１に示すように、本発明の透明導電性シート１は、第１酸素不透過層２、銀ナノワイヤ保持層３、銀ナノワイヤ４、接着層５、第２酸素不透過層６がこの順番で積層された構成からなる。
［第１酸素不透過層、第２酸素不透過層］
第１酸素不透過層２と第２酸素不透過層６は、酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の材質から構成されれば特に制限はない。酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下であると、透明導電性シート１内に酸素が侵入するのを抑制できる。そうすると、長時間の間、透明導電性シートに光が照射されても銀ナノワイヤが酸化されるのを抑制できる。その結果、透明導電性シート１の抵抗値を一定に保つことができる。
なお、酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下のものとしては、例えば、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＴ)、ポリイミド、ポリ塩化ビニリデン(ＰＤＶＣ)フィルム、アルミナ処理フィルムなどが挙げられる。
第１酸素不透過層２と第２酸素不透過層６は、酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の材質から構成されれば特に制限はない。酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下であると、透明導電性シート１内に酸素が侵入するのを抑制できる。そうすると、長時間の間、透明導電性シートに光が照射されても銀ナノワイヤが酸化されるのを抑制できる。その結果、透明導電性シート１の抵抗値を一定に保つことができる。
なお、酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下のものとしては、例えば、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＴ)、ポリイミド、ポリ塩化ビニリデン(ＰＤＶＣ)フィルム、アルミナ処理フィルムなどが挙げられる。
上記の中でも、第１酸素不透過層２と第２酸素不透過層６は、光学特性、コストの観点からポリエチレンナフタレートから構成されるのが好ましい。なお、透明性を重視する場合は、その全光線透過率が８０％以上のものを用いることが好ましい。例えば、ガラス、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＮ)、ポリエチレンテレフタラート(ＰＥＴ)、ポリアクリロニトリル (ＰＡＮ)、エチレンビニルアルコール (ＥＶＯＨ)共重合体、エチレンメタクリル酸 (ＥＭＡＡ)、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリ塩化ビニリデン(ＰＤＶＣ)コートフィルムや、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、炭化水素、またはこれらの酸化物、炭化物、窒化物の薄膜を蒸着させたフィルムなどである。なお、上記層の厚みは１０μｍ〜１０ｍｍである。
［銀ナノワイヤ保持層］
銀ナノワイヤ保持層３は、銀ナノワイヤ４を第１酸素不透過層２上に保持できる部材であれば特に制限はない。銀ナノワイヤ保持層３を構成する部材としては、バインダー樹脂や感光性樹脂が挙げられる。なお、銀ナノワイヤ保持層３の厚みを薄くできるという観点から、感光性樹脂を用いることが好ましい。
銀ナノワイヤ保持層３は、銀ナノワイヤ４を第１酸素不透過層２上に保持できる部材であれば特に制限はない。銀ナノワイヤ保持層３を構成する部材としては、バインダー樹脂や感光性樹脂が挙げられる。なお、銀ナノワイヤ保持層３の厚みを薄くできるという観点から、感光性樹脂を用いることが好ましい。
バインダー樹脂としては、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂やメラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの硬化性樹脂などを挙げることができる。
感光性樹脂としては、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂やメラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの硬化性樹脂などを挙げることができる。
［銀ナノワイヤ］
銀ナノワイヤ４は、銀から構成される。なお、上記銀ナノワイヤ４は、銀ナノワイヤ４同士が絡みあい、それぞれの銀ナノワイヤ４が接触することで全体が導通する構成となっている。銀ナノワイヤ４の形状は、短軸方向の長さと長軸方向の長さの比（以下、アスペクトという） が１０〜１００００のものであることが好ましい。アスペクト比が１０未満であると、透過率が低下し、１００００を越えると物理的な強度と透導電性が低下する。
銀ナノワイヤ４は、銀から構成される。なお、上記銀ナノワイヤ４は、銀ナノワイヤ４同士が絡みあい、それぞれの銀ナノワイヤ４が接触することで全体が導通する構成となっている。銀ナノワイヤ４の形状は、短軸方向の長さと長軸方向の長さの比（以下、アスペクトという） が１０〜１００００のものであることが好ましい。アスペクト比が１０未満であると、透過率が低下し、１００００を越えると物理的な強度と透導電性が低下する。
なお、銀ナノワイヤ４の短軸方向の長さは５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍである。短軸方向の長さが５００ｎｍを超えると透明導電性シート１の透過率が低下する。また、短軸方向の長さが５ｎｍ未満であると銀ナノワイヤ４同士の接触が困難となり、透明導電性シート１の導電性が低下する。長軸方向の長さは５００ｎｍ〜５００００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１００００ｎｍ〜４００００ｎｍである。長軸方向の長さが５００ｎｍ未満であると透明導電性シート１の導電性が低下し、５００００ｎｍを超えると透過率が低下する。
なお、銀ナノワイヤ４は、銀以外の金属でメッキされていることが好ましい。銀以外の金属でメッキされていると、銀ナノワイヤ４が可視光に照射されたとき、銀ナノワイヤ４の酸化を抑制できる。
［接着層］
接着層５は銀ナノワイヤ４と第２酸素不透過層６を接着する層である。接着層５を構成する部材としては、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂やメラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの硬化性樹脂などが挙げられる。
接着層５は銀ナノワイヤ４と第２酸素不透過層６を接着する層である。接着層５を構成する部材としては、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂やメラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの硬化性樹脂などが挙げられる。
上記のように構成されていると、透明導電性シート１の表面には第１酸素不透過層２と第２酸素不透過層６が形成されているので、透明導電性シート１内に酸素が侵入するのを抑制できる。そうすると、長時間の間、透明導電性シート１に光が照射されても銀ナノワイヤ４が酸化されるのを抑制できる。その結果、透明導電性シート１の抵抗値を一定に保つことができる。
図２に示すように、さらに透明導電性シート１は、透明導電性シート１の端面に形成され、透明導電性シート１全体をシーリングする第３酸素不透過層７を備えていてもよい。第３酸素不透過層７は、第１酸素不透過層２、第２酸素不透過層６で挙げた部材を用いることができる。それ以外にも、ソアノール（日本合成化学製）、エポキシ樹脂も用いることができる。このように透明導電性シート１が構成されていると、透明導電性シート１の端面には第３酸素不透過層７が形成されているので、酸素が透明導電性シート１の端面から侵入するのを抑制できる。
第２実施態様
図３に示すように、本発明の第２実施態様の透明導電性シート１０は、第１酸素不透過層１１、接着層１２、酸素透過層１３、銀ナノワイヤ保持層１４、銀ナノワイヤ１５、接着層１６、第２酸素不透過層１７がこの順番で積層された構成からなる。第２実施態様の基本的な構成は、第１実施態様と同じであるので、下記では第２実施態様に特徴的な点について説明する。
図３に示すように、本発明の第２実施態様の透明導電性シート１０は、第１酸素不透過層１１、接着層１２、酸素透過層１３、銀ナノワイヤ保持層１４、銀ナノワイヤ１５、接着層１６、第２酸素不透過層１７がこの順番で積層された構成からなる。第２実施態様の基本的な構成は、第１実施態様と同じであるので、下記では第２実施態様に特徴的な点について説明する。
図３に示すように、透明導電性シート１０は、接着層１２と銀ナノワイヤ保持層１４の間に酸素透過層１３を備えている。かかる場合、酸素透過層１３と銀ナノワイヤ保持層１４は、酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の材質から構成される。そのような材質のものとしては、例えば、シクロオレフィンポリマー(ＣＯＰ)、シクロオレフィンコポリマー(ＣＯＣ)、ポリカーボネート(ＰＣ)、ポリプロピレン(ＰＰ)、トリアセチルセルロース(ＴＡＣ)、シリコーンなどが挙げられる。
酸素透過層１３と銀ナノワイヤ保持層１４が上記のような部材から構成されると、酸素が透明導電性シート１０の端面から銀ナノワイヤ１５が形成された箇所に侵入してきたとき、上記酸素は、酸素透過層１３と銀ナノワイヤ保持層１４を介して、第１酸素不透過層１１側に移動できる。その結果、上記酸素が銀ナノワイヤ１５の形成された箇所に留まることはないので、透明導電性シート１に光が照射されたとき、上記酸素によって銀ナノワイヤ１５が酸化されるのをさらに抑制できる。その結果、透明導電性シート１０は、可視光に照射されても抵抗値をさらに一定に保つことができる。
図４に示すように、透明導電性シート１０は、シートの端面に形成され、透明導電性シート１０全体をシーリングする第３酸素不透過層１８を備えていてもよい。第３酸素不透過層１８は、第１酸素不透過層１１、第２酸素不透過層１７と同じ部材を用いることができる。このように透明導電性シート１０が構成されていると、透明導電性シート１０の端面には第３酸素不透過層１８が形成されているので、酸素が透明導電性シート１０の端面から侵入するのを抑制できる。
変形例
図５に示すように、本発明の第２実施態様の透明導電性シート１０は、第１酸素不透過層１１、銀ナノワイヤ保持層１４、銀ナノワイヤ１５、接着層１２、酸素透過層１３、接着層１６、第２酸素不透過層１７がこの順番で積層され、透明導電性シート１０の端面には第３酸素不透過層１８が形成された構成からなっていてもよい。かかる場合、酸素透過層１３と銀ナノワイヤ保持層１４は、酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の材質から構成されていればよい。
図５に示すように、本発明の第２実施態様の透明導電性シート１０は、第１酸素不透過層１１、銀ナノワイヤ保持層１４、銀ナノワイヤ１５、接着層１２、酸素透過層１３、接着層１６、第２酸素不透過層１７がこの順番で積層され、透明導電性シート１０の端面には第３酸素不透過層１８が形成された構成からなっていてもよい。かかる場合、酸素透過層１３と銀ナノワイヤ保持層１４は、酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の材質から構成されていればよい。
［タッチパネル］
以下では、上記の透明導電性シートを用いて作成したタッチパネルについて説明する。
図６に示すように、タッチパネル１００は、２枚の透明導電性シート２０、３０が接着層４０を貼り合わされた構成からなる。図７に示すように、透明導電性シート２０は、第１酸素不透過層２１の上に接着層２２、酸素透過層２３、銀ナノワイヤ保持層２４、銀ナノワイヤ２５、接着層２６、第２酸素不透過層２７がこの順番で積層され、透明導電性シート２０の端面には第３酸素不透過層２８が形成された構成からなる。また、図６に示すように、銀ナノワイヤ２５は、Ｙ軸方向に複数配列され、タッチパネル１００においてＹ電極を形成している。
以下では、上記の透明導電性シートを用いて作成したタッチパネルについて説明する。
図６に示すように、タッチパネル１００は、２枚の透明導電性シート２０、３０が接着層４０を貼り合わされた構成からなる。図７に示すように、透明導電性シート２０は、第１酸素不透過層２１の上に接着層２２、酸素透過層２３、銀ナノワイヤ保持層２４、銀ナノワイヤ２５、接着層２６、第２酸素不透過層２７がこの順番で積層され、透明導電性シート２０の端面には第３酸素不透過層２８が形成された構成からなる。また、図６に示すように、銀ナノワイヤ２５は、Ｙ軸方向に複数配列され、タッチパネル１００においてＹ電極を形成している。
図８に示すように、透明導電性シート３０は、第１酸素不透過層３１の上に接着層３２、酸素透過層３３、銀ナノワイヤ保持層３４、銀ナノワイヤ３５、接着層３６、第２酸素不透過層３７がこの順番で積層され、透明導電性シート３０の端面には第３酸素不透過層３８が形成された構成からなる。なお、銀ナノワイヤ３５は、Ｘ軸方向に複数配列され、タッチパネル１００においてＸ電極を形成している。
上記のようにタッチパネル１００は、透明導電性シート２０において、Ｙ電極を構成する銀ナノワイヤ２５が、第１酸素不透過層２１と第２酸素不透過層２８に挟まれ、上記銀ナノワイヤ２５と接する銀ナノワイヤ保持層２４の下には酸素透過層２３が配置されている。これは、透明導電性シート３０についても同様である。このようにタッチパネル１００を構成されていると、銀ナノワイヤ２５、３５が形成された箇所に外部から酸素が侵入しにくくなる。さらに、上記箇所に酸素が侵入しても、酸素は接着層２２、３２、および酸素透過層２３、３３を介して、第１酸素不透過層２１、３１に移動可能となっている。そのため、長時間の間、タッチパネル１００に可視光が照射されても、銀ナノワイヤが酸化しにくくなっている。その結果、タッチパネル１００は、抵抗値が上昇しにくいタッチパネル１００となっている。
＜実施例１＞
実施例１の透明導電性シートは以下のように作成した。
実施例１の透明導電性シートは以下のように作成した。
第１酸素不透過層として、酸素透過率が０．２ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍである５０μｍのガラスを用いた。次に、第１酸素不透過層の上に銀ナノワイヤを含むドライフィルムをラミネートし、第１酸素不透過層の上に銀ナノワイヤ保持層と、銀ナノワイヤを形成した。その後、上記で作成したフィルムにＵＶ照射、現像処理することで、電極が銀ナノワイヤからなるフィルムを作成した。次に、上記フィルムの銀ナノワイヤ保持層と銀ナノワイヤの上に、アクリル系樹脂（商品名：8146−2、住友３Ｍ社製）を用いて接着層を形成した。最後に、接着層の上に酸素透過率が１２．４ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍである５０μｍのＰＥＴフィルムを積層することで第２酸素不透過層を形成し透明導電性シートを得た。
＜実施例２〜比較例３＞
実施例２〜比較例３の透明導電性シートについては、第２酸素不透過層として、酸素透過率が異なる材料を使用したこと以外、実施例１と同様の方法で作成した。なお、図９に実施例１〜比較例３で使用した、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層の酸素透過率、構成材料を示す。
実施例２〜比較例３の透明導電性シートについては、第２酸素不透過層として、酸素透過率が異なる材料を使用したこと以外、実施例１と同様の方法で作成した。なお、図９に実施例１〜比較例３で使用した、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層の酸素透過率、構成材料を示す。
＜実施例４＞
実施例４の透明導電性シートは、下記のように作成した。
まず、第１酸素不透過層として、酸素透過率が０．２ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍである５０μｍのガラスを用いた。次に、第１酸素不透過層の上にアクリル系樹脂（商品名：8146−2、住友３Ｍ社製）を用いて接着層を形成した。
次に、接着層の上に、厚さが５０μｍであり、酸素透過率が３７３０ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍであるＣＯＰフィルムを積層し、酸素透過層を形成した。
次に、酸素透過層に銀ナノファイバーを含むドライフィルムをラミネートし、酸素透過層の上に銀ナノワイヤ保持層と、銀ナノワイヤを形成した。
その後、上記で作成したフィルムにＵＶ照射、現像処理することで、電極が銀ナノワイヤからなるフィルムを作成した。次に、上記フィルムの銀ナノワイヤ保持層と銀ナノワイヤの上に、アクリル系樹脂（商品名：8146-2、住友3M社製）を用いて接着層を形成した。
最後に、接着層の上に酸素透過率が１２．４ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍである５０μｍのＰＥＴフィルムを積層することで第２酸素不透過層を形成し透明導電性シートを得た。
実施例４の透明導電性シートは、下記のように作成した。
まず、第１酸素不透過層として、酸素透過率が０．２ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍである５０μｍのガラスを用いた。次に、第１酸素不透過層の上にアクリル系樹脂（商品名：8146−2、住友３Ｍ社製）を用いて接着層を形成した。
次に、接着層の上に、厚さが５０μｍであり、酸素透過率が３７３０ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍであるＣＯＰフィルムを積層し、酸素透過層を形成した。
次に、酸素透過層に銀ナノファイバーを含むドライフィルムをラミネートし、酸素透過層の上に銀ナノワイヤ保持層と、銀ナノワイヤを形成した。
その後、上記で作成したフィルムにＵＶ照射、現像処理することで、電極が銀ナノワイヤからなるフィルムを作成した。次に、上記フィルムの銀ナノワイヤ保持層と銀ナノワイヤの上に、アクリル系樹脂（商品名：8146-2、住友3M社製）を用いて接着層を形成した。
最後に、接着層の上に酸素透過率が１２．４ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍである５０μｍのＰＥＴフィルムを積層することで第２酸素不透過層を形成し透明導電性シートを得た。
＜実施例５〜７＞
実施例５〜７の透明導電性シートについては、第２酸素不透過層として、酸素透過率が異なるものを使用したこと以外は、実施例４と同様の方法で作成した。なお、図９に実施例５〜７で使用した酸素透過層の酸素透過率、構成材料を示す。図９において、ＰＥＴはポリエチレンテレフタラート、ＣＯＰはシクロオレフィンポリマー、ＣＯＣはシクロオレフィンコポリマーを示す。また、ＣＯＰ＋ＨＣ＋ＩＴＯはシクロオレフィンコポリマーからなるシートの片面にハードコート材料が塗布され、他の片面にＩＴＯが塗布されたシートを示し、ＣＯＰ＋ＨＣはシクロオレフィンコポリマーからなるシートの両面にハードコート材料が塗布されたシートを示す。ＣＯＣ＋ＨＣはシクロオレフィンコポリマーの両面にハードコート材料が塗布されたシートを示す。また、各酸素透過率は６０℃の下で酸素圧力を１気圧とし測定した
実施例５〜７の透明導電性シートについては、第２酸素不透過層として、酸素透過率が異なるものを使用したこと以外は、実施例４と同様の方法で作成した。なお、図９に実施例５〜７で使用した酸素透過層の酸素透過率、構成材料を示す。図９において、ＰＥＴはポリエチレンテレフタラート、ＣＯＰはシクロオレフィンポリマー、ＣＯＣはシクロオレフィンコポリマーを示す。また、ＣＯＰ＋ＨＣ＋ＩＴＯはシクロオレフィンコポリマーからなるシートの片面にハードコート材料が塗布され、他の片面にＩＴＯが塗布されたシートを示し、ＣＯＰ＋ＨＣはシクロオレフィンコポリマーからなるシートの両面にハードコート材料が塗布されたシートを示す。ＣＯＣ＋ＨＣはシクロオレフィンコポリマーの両面にハードコート材料が塗布されたシートを示す。また、各酸素透過率は６０℃の下で酸素圧力を１気圧とし測定した
＜実施例１〜比較例３の抵抗値抑制効果の評価＞
実施例１〜比較例３の透明導電性シートは、以下の基準に基づいて評価した。
キセノンウェザーメーター（ＳＸ−７５、スガ試験機株式会社製）を用いて透明導電性シートに光を３００時間照射した（試験条件はブラックパネル温度：６０℃、湿度：５０％）。途中、それぞれの時間における透明導電性シートのシート抵抗値を非接触抵抗計(ＮＣ−１０Ｅ ナプソン製)を用いて測定した。測定は室温２５℃の下で行った。
実施例１〜比較例３の透明導電性シートは、以下の基準に基づいて評価した。
キセノンウェザーメーター（ＳＸ−７５、スガ試験機株式会社製）を用いて透明導電性シートに光を３００時間照射した（試験条件はブラックパネル温度：６０℃、湿度：５０％）。途中、それぞれの時間における透明導電性シートのシート抵抗値を非接触抵抗計(ＮＣ−１０Ｅ ナプソン製)を用いて測定した。測定は室温２５℃の下で行った。
そして、Ｒ／Ｒ０（抵抗値上昇率）を下記の算式に基づいて算出し、横軸に照射時間（ｈ）、縦軸にＲ／Ｒ０（抵抗値上昇率）をプロットした。その結果を図１０、図１１に示す。
Ｒ／Ｒ０（抵抗値上昇率）＝抵抗値（Ｒ）／初期抵抗値（Ｒ０）
Ｒ／Ｒ０（抵抗値上昇率）＝抵抗値（Ｒ）／初期抵抗値（Ｒ０）
最後に、光を照射してから３００時間後のＲ／Ｒ０の値に基づき、以下の分類に従い評価した。その結果を図９に示す。
○：１.０≦Ｒ／Ｒ０＜１．２
△：１.２≦Ｒ／Ｒ０＜２．０
×：２.０≦Ｒ／Ｒ０
○：１.０≦Ｒ／Ｒ０＜１．２
△：１.２≦Ｒ／Ｒ０＜２．０
×：２.０≦Ｒ／Ｒ０
図９に示すように、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層に酸素透過率が１６０．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いたとき、可視光を３００時間照射しても透明導電性シートの抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を２．０未満に抑えることができた（実施例１〜７）。
さらに、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層に酸素透過率が８１．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いた場合には、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を１．２未満に抑えることができた（実施例２〜３）。また、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層に、酸素透過率が１６０．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍの部材を用いた場合であっても、透明導電性シートに酸素透過率が１３７８．７ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の酸素透過層を挿入すると、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を１．２未満に抑えることができた（実施例４〜６）。
反対に、酸素透過率が８１．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍの酸素透過層を挿入すると、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）が上昇した（実施例７）。
上記より、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層には、酸素透過率が１６０．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いることが好ましく、酸素透過率が８１．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いることがさらに好ましいことが明らかになった。
また、透明導電性シートに酸素透過率が１３７８．７ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の酸素透過層を挿入することで、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を抑えることができることが明らかになった。
さらに、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層に酸素透過率が８１．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いた場合には、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を１．２未満に抑えることができた（実施例２〜３）。また、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層に、酸素透過率が１６０．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍの部材を用いた場合であっても、透明導電性シートに酸素透過率が１３７８．７ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の酸素透過層を挿入すると、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を１．２未満に抑えることができた（実施例４〜６）。
反対に、酸素透過率が８１．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍの酸素透過層を挿入すると、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）が上昇した（実施例７）。
上記より、第１酸素不透過層と第２酸素不透過層には、酸素透過率が１６０．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いることが好ましく、酸素透過率が８１．６ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下の部材を用いることがさらに好ましいことが明らかになった。
また、透明導電性シートに酸素透過率が１３７８．７ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の酸素透過層を挿入することで、抵抗値上昇率（Ｒ／Ｒ０）を抑えることができることが明らかになった。
１：透明導電性シート
２：第１酸素不透過層
３：銀ナノワイヤ保持層
４：銀ナノワイヤ
５：接着層
６：第２酸素不透過層
７：第３酸素不透過層
１０：透明導電性シート
１１：第１酸素不透過層
１２：接着層
１３：酸素透過層
１４：銀ナノワイヤ保持層
１５：銀ナノワイヤ
１６：接着層
１７：第２酸素不透過層
１８：第３酸素不透過層
２０：透明導電性シート
２１：第１酸素不透過層
２２：接着層
２３：酸素透過層
２４：銀ナノワイヤ保持層
２５：銀ナノワイヤ
２６：接着層
２７：第２酸素不透過層
２８：第３酸素不透過層
３０：透明導電性シート
３１：第１酸素不透過層
３２：接着層
３３：酸素透過層
３４：銀ナノワイヤ保持層
３５：銀ナノワイヤ
３６：接着層
３７：第２酸素不透過層
３８：第３酸素不透過層
１００：タッチパネル
２：第１酸素不透過層
３：銀ナノワイヤ保持層
４：銀ナノワイヤ
５：接着層
６：第２酸素不透過層
７：第３酸素不透過層
１０：透明導電性シート
１１：第１酸素不透過層
１２：接着層
１３：酸素透過層
１４：銀ナノワイヤ保持層
１５：銀ナノワイヤ
１６：接着層
１７：第２酸素不透過層
１８：第３酸素不透過層
２０：透明導電性シート
２１：第１酸素不透過層
２２：接着層
２３：酸素透過層
２４：銀ナノワイヤ保持層
２５：銀ナノワイヤ
２６：接着層
２７：第２酸素不透過層
２８：第３酸素不透過層
３０：透明導電性シート
３１：第１酸素不透過層
３２：接着層
３３：酸素透過層
３４：銀ナノワイヤ保持層
３５：銀ナノワイヤ
３６：接着層
３７：第２酸素不透過層
３８：第３酸素不透過層
１００：タッチパネル
Claims (9)
- 第１酸素不透過層と、
前記第１酸素不透過層の上に積層される銀ナノワイヤ保持層と、
前記銀ナノワイヤ保持層の上に積層される銀ナノワイヤと、
前記銀ナノワイヤの上に積層される第２酸素不透過層とを備え、
前記第１酸素不透過層と前記第２酸素不透過層の酸素透過率が２００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下である透明導電性シート。 - 前記第１酸素不透過層と前記銀ナノワイヤ保持層との間に酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の第１酸素透過層を備える請求項１の透明導電性シート。
- 前記銀ナノワイヤと前記第２酸素不透過層との間に酸素透過率が１０００ｃｃ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以上の第２酸素透過層を備える請求項１〜２の透明導電性シート。
- 前記銀ナノワイヤ保持層と前記接着層の端面に前記銀ナノワイヤを封止するよう形成される第３酸素不透過層を備える請求項１〜３の透明導電性シート。
- 前記第１酸素不透過層と前記第２酸素不透過層がポリエチレンナフタレートである請求項１〜３透明導電性シート。
- 前記第１酸素透過層と前記第２酸素透過層がシクロオレフィンポリマーである請求項１〜３透明導電性シート。
- 前記銀ナノワイヤの直径が５ｎｍ〜５００ｎｍであり、長さが５００ｎｍ〜５００００ｎｍである請求項１〜６の透明導電性シート。
- 前記銀ナノワイヤは、銀以外の金属でメッキされた請求項１〜７の透明導電性シート。
- 請求項１から請求項８のいずれかに記載の透明導電性シートを用いたタッチパネル。
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