JP2015227959A - 光反射体及びそれを用いた電子デバイス用表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶ディスプレイ、照明器具、照明看板に使用できる全反射率の高い光反射体を提供する。
【解決手段】フィルム状の基材層１、アンカーコート層２及び反射層３をこの順に備え、反射層３の厚みが６０ｎｍ以上であり、基材層１のアンカーコート層側の表面粗さよりも、アンカーコート層２の反射層側のほうが小さく、その表面粗さが３．０ｎｍ未満であり、アンカーコート層２の厚みが０．５μｍ以上１０μｍ未満であることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、鏡、あるいは液晶ディスプレイ、照明器具、照明看板などの反射部材として好適に使用することができる光反射体に関する。

従来から、プラスチックフィルムにアルミニウムや銀等の金属の薄膜からなる金属反射層を形成した光反射フィルムが知られている。光反射フィルムは携帯電話やテレビ等に用いられる液晶ディスプレイのバックライトや蛍光灯の光反射体として使用されている。

最近の液晶ディスプレイは高輝度化が進み、それにつれて光反射体の反射性向上の要求が高まっている。すなわち、光反射体による光線の質が良くなければ液晶ディスプレイの高輝度を実現することは不可能である。光反射体に求められる特性としては全反射率が高いことがあげられる。

光反射体の全反射率を高める技術として、特許文献１には光反射体の基材表面を高平滑化処理することが提案されている。特許文献１によれば、基材表面を高平滑化処理して当該表面の算術平均粗さＲａを５０ｎｍ以下とすることで反射体としての全反射率を８０％以上とすることができる、とされている。

特開２００６−１２６２３６号公報

しかしながら、特許文献１に記載された光反射体の全反射率では、最近の液晶ディスプレイの高輝度化の要求に応えられないという問題が生じている。そもそも、特許文献１においては、基材表面の高平滑化処理について詳細が記載されておらず、基材の表面粗さを低減させるために過度の試行錯誤を要するものであった。

そこで本発明は全反射率の高い光反射体を提供することを課題とする。

上記課題を解決するために鋭意検討した結果、基材フィルムの表面にアンカーコート層を設けることで、基材の表面粗さよりも小さな表面粗さを有する表面を容易に確保でき、全反射率の高い反射フィルムを得ることができることを知見した。さらに、鋭意研究を進め、そのアンカーコート層の厚み等を限定することで、さらに全反射率の高い反射フィルムを得ることができることも知見した。

すなわち、第１の本発明は、基材層、アンカーコート層及び反射層をこの順に備え、反射層の厚みが６０ｎｍ以上であり、基材層のアンカーコート層側の表面粗さよりも、アンカーコート層の反射層側の表面粗さのほうが小さいことを特徴とする、光反射体である。

本発明において、「基材層」とは、反射層を形成するための支持層となり得る層であればよい。「アンカーコート層」とは、基材層の表面に設けられる層であり、基材層の表面の凹凸を覆い隠し、反射層が設けられる側の表面粗さを低減可能な層であればよい。「反射層」とは光反射体に高い反射性を付与する層であって、金属を主体とする薄膜からなる層である。「主体とする」とは、層の構成成分のうち５０質量％以上、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上を占めることを意味する。「表面粗さ」とは、算術平均粗さ（Ｓａ）を意味する。

第１の本発明において、アンカーコート層の反射層側の表面粗さが３．０ｎｍ未満であることが好ましい。

第１の本発明において、基材層のアンカーコート層側の表面粗さが１００ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の本発明において、アンカーコート層の厚みが０．５μｍ以上１０μｍ未満であることが好ましい。

第１の本発明において、反射層のアンカーコート層とは反対側に保護層を備えることが好ましい。

第１の本発明において、上記保護層を備える場合は、当該保護層が、屈折率０．５以上２．０以下の低屈折率無機物からなる低屈折率層と、屈折率１．８以上４．０以下の高屈折率無機物からなる高屈折率層との少なくとも２層で構成され、高屈折率無機物の屈折率が低屈折率無機物の屈折率よりも０．５以上大きいことが好ましい。

第１の発明において、上記低屈折率層及び高屈折率層を備える場合は、低屈折率層の光学厚みが１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、高屈折率層の光学厚みが１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の本発明において、上記低屈折率層及び高屈折率層を備える場合は、低屈折率無機物がＳｉＯ_２であり、高屈折率無機物がＴｉＯ_２であることが好ましい。

第１の本発明に係る光反射材は、波長４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光に対する平均反射率が１０３％以上であることが好ましい。尚、本発明において「反射率」とは、アルミナ製標準構成板で校正した反射率を基準（１００％）とした場合の反射率をいい、１００％を超えることも有り得る。

第２の本発明は、第１の本発明に係る光反射体を備える電子デバイス用表示装置である。

第２の本発明に係る電子デバイス用表示装置は、波長３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の光を含む照射光を前記光反射体に照射可能なバックライトをさらに備えた液晶ディスプレイであることが好ましい。

本発明によれば、液晶ディスプレイの高輝度化の要求に応えることが可能な全反射率の高い光反射体を提供することができる。

本発明に係る光反射体１０を説明するための概略図である。 本発明に係る光反射体１０における層厚みを説明するための概略図である。 本発明に係る光反射体２０を説明するための概略図である。 実施例に係る光反射体の全反射率測定結果を示す図である。 実施例に係る光反射体の全反射率測定結果を示す図である。 実施例に係る光反射体の全反射率測定結果を示す図である。

以下、本発明の実施形態の一例として、液晶ディスプレイ、照明器具、照明看板等の構成部材として使用される光反射体について説明する。

なお、光反射体のとり得る形態としては、フィルム状、あるいはシート状であることが好ましい。一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚みが極めて小さく、最大厚みが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいい（日本工業規格ＪＩＳＫ６９００）、一般的に「シート」とは、ＪＩＳにおける定義上、薄く、一般にその厚みが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいう。しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないので、本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。

１．光反射体
図１に一実施形態に係る本発明の光反射体１０を概略的に示す。図１に示すように、本発明に係る光反射体１０は、基材層１、アンカーコート層２及び反射層３をこの順に備え、基材層１のアンカーコート層２側の表面粗さよりも、アンカーコート層２の反射層３側の表面粗さのほうが小さいことを特徴とする。

１．１．基材層１
基材層１としては光反射体の基材として機能し得るものを適宜用いることができる。特にプラスチックフィルムからなる層が好ましい。プラスチックフィルムとしては、反射性及び優れた耐久性を保持できるものであれば特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、アクリルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、フッ素フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等の各種プラスチックフィルムが使用できる。

基材層１の厚みは９μｍ以上１８８μｍ以下が好ましい。基材層１の厚みの下限は、より好ましくは１２μｍ以上、特に好ましくは３８μｍ以上であり、上限は、より好ましくは１２５μｍ以下、特に好ましくは１００μｍ以下である。尚、「基材層１の厚み」とは、図２に示すように、基材層１の表面の凹凸の凸部（山）の頂点から基材層１の裏面の凹凸の凸部（山）の頂点までの長さ（Ｌ１）をいう。
厚みが９μｍより小さい場合、光反射体の加工時、或いは光反射体と金属板とを接着剤層を介して貼り合わせて積層する際に、しわが生じたり、場合によっては破れたりして作業性が悪化する場合がある。一方、厚みが１８８μｍより大きい場合、偏肉やたるみによって基材層の平滑性が悪化し、反射層が均一に形成され難くなる場合がある。

基材層１のアンカーコート層２側の表面粗さ（算術平均粗さＳａ）は、特に限定されるものではないが、１００ｎｍ以下であることが好ましい。基材層１のアンカーコート層２側の表面粗さの上限は、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。尚、下限については特に限定されるものではない。
基材層１の表面粗さが大きすぎる場合、全反射率の高い光反射体とするために必要となるアンカーコート層２の厚みが大きくなり過ぎる場合がある。

１．２．アンカーコート層２
アンカーコート層２は基材層１の表面に設けられる層であり、基材層１の表面の凹凸を覆い隠し、反射層が設けられる側の表面粗さを低減する（表面の平滑化を達成する）層である。

アンカーコート層２は、各種硬化樹脂を主体とする層や無機酸化物（ガラスやセラミック等）を主体とする層とすることができる。或いは、シリコンウェハーからなる層としてもよい。特に、基材層１の表面に容易に設けられ、ある程度の柔軟性が付与でき取り扱い性にも優れる観点から、アンカーコート層２は各種硬化樹脂を主体とする層であることが好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、又はメラミン樹脂のいずれか１種以上を主体とする層であることが特に好ましい。
「主体とする」とは、層の構成成分のうち５０質量％以上、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上を占めることを意味する。アンカーコート層２には、上記した各種硬化樹脂や金属酸化物の他、本発明の効果を損なわない範囲において、公知の各種添加剤が含まれていてもよい。

アンカーコート層２の厚みは０．５μｍ以上１０μｍ以下とすることが好ましい。アンカーコート層２の厚みの下限は、より好ましくは１．０μｍ以上、特に好ましくは２．０μｍ以上である。尚、「アンカーコート層２の厚み」とは、図２に示すように、基材層１の表面の凹凸の凸部（山）の頂点（アンカーコート層２の基材層１側表面の凹凸の凹部（谷）の底点）からアンカーコート層２の反射層３側の凹凸の凸部（山）の頂点までの長さ（Ｌ２）をいう。
アンカーコート層２の厚みが小さ過ぎる場合、基材層１の表面を十分に平滑化できなくなる場合がある。アンカーコート層２の厚みが大き過ぎる場合、塗布ムラ・形成ムラにより却って平滑性が悪くなる場合がある。

本発明においては、アンカーコート層２の反射層３側の表面粗さ（算術平均粗さＳａ）が、基材層１のアンカーコート層２側の表面粗さよりも小さいことが重要である。これにより、基材層１の表面に直接反射層３を形成する場合と比較して、より平滑な反射層３が得られ、光反射体１０の全反射率が優れたものとなる。特に、アンカーコート層２の反射層３側の表面粗さは３．０ｎｍ未満であることが好ましい。アンカーコート層２の反射層３側の表面粗さの上限は、より好ましくは２．０ｎｍ以下、特に好ましくは１．０ｎｍ以下である。尚、下限については特に限定されるものではない。

１．３．反射層３
反射層３はアンカーコート層２の表面に設けられる層であって、光反射体１０に高い反射性を付与することが可能な金属を主体とする層である。具体的には、銀又は銀合金を主体とする層、或いは、アルミニウム又はアルミニウム合金を主体とする層であることが好ましく、銀を主体とする層であることが特に好ましい。

反射層３の厚みは、光反射体１０に反射性を付与可能である限り特に限定されるものではないが、下限は６０ｎｍ以上とする。上限は２００ｎｍ以下が好ましい。反射層３の厚みの下限は、より好ましくは８０ｎｍ以上、特に好ましくは１００ｎｍ以上であり、上限は、より好ましくは１８０ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。尚、「反射層３の厚み」とは、図２に示すように、アンカーコート層２の表面の凹凸の凸部（山）の頂点（反射層３のアンカーコート層２側表面の凹凸の凹部（谷）の底点）から反射層３のアンカーコート層２とは反対側の凹凸の凸部（山）の頂点までの長さ（Ｌ３）をいう。
反射層３の厚みが小さ過ぎる場合、十分な反射性が得られない場合があり、さらには、十分な耐久性も得られない場合がある。特に６０ｎｍより小さい場合は、光の透過が透過していまい、反射率が低下する。一方、反射層３の厚みが大き過ぎる場合、反射層３にクラックが生じて反射性が悪化する場合があり、さらには、いわゆる焼け現象によって反射層が黄色に着色して黄色度が高くなる場合がある。

尚、本発明に係る光反射体は、少なくとも基材層、アンカーコート層及び反射層を備えていればよく、さらに、これら以外の層を備えていてもよい。図３に一実施形態に係る本発明の光反射体２０を概略的に示す。図３に示すように、本発明に係る光反射体２０は、反射層３のアンカーコート層２とは反対側に保護層４をさらに備えている。

１．４．保護層４
保護層４は反射層３を保護する層である。特に、反射層３を保護するとともに所定の光学特性を有する層とすることが好ましい。具体的には、保護層４が、屈折率０．５以上２．０以下の低屈折率無機物からなる低屈折率層４ａと、屈折率１．８以上４．０以下の高屈折率無機物からなる高屈折率層４ｂとの少なくとも２層で構成され、高屈折率無機物の屈折率が低屈折率無機物の屈折率よりも０．５以上大きいことが好ましい。尚、本発明において「屈折率」とはＤ線における屈折率を意味する。

低屈折率層４ａは高屈折率層４ｂよりも相対的に屈折率の小さな層である。このような低屈折率層４ａを構成する低屈折率無機物としては、特に限定されるものではなく、屈折率が０．５以上２．０以下である公知の無機化合物から適宜選択することができる。例えば、二酸化ケイ素や酸化アルミニウム等の各種酸化物、フッ化マグネシウムやフッ化ナトリウム等の各種フッ化物等が挙げられる。特に二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）が好ましい。

低屈折率層４ａの厚みは１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが好ましい。このような厚みとすることで、高い光沢度及び特に波長４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光に対する高い拡散反射率が得られる。
反射率を高めると考えられる手法の一つとして増反射膜という概念があるが、これは高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層をそれぞれλ/４nの厚さで積層することにより実現とされ、ガラス、アルミニウムを基体とした増反射膜が実現されている。ここで、上記λは対象となる光の波長であり、ｎはその波長における高屈折率薄膜層もしくは低屈折率薄膜層の屈折率を示している。そのため低屈折率層は４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長を高めるためには光学厚み１１０−１３０ｎｍがよい。

高屈折率層４ｂは低屈折率層４ａよりも相対的に屈折率の大きな層である。このような高屈折率層４ｂを構成する高屈折率無機物としては、特に限定されるものではなく、屈折率が１．８以上４．０以下の公知の無機化合物を適宜選択することができる。例えば、二酸化チタンや酸化インジウム等の各種金属酸化物、硫化亜鉛等の各種金属硫化物等が挙げられる。特に二酸化チタン（ＴｉＯ_２）が好ましい。

高屈折率層４ｂの厚みは１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが好ましい。このような厚みとすることで、高い光沢度及び特に波長４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光に対する高い拡散反射率が得られる。反射率を高めると考えられる手法の一つとして増反射膜という概念があるが、これは高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層をそれぞれλ/４nの厚さで積層することにより実現とされ、ガラス、アルミニウムを基体とした増反射膜が実現されている。ここで、上記λは対象となる光の波長であり、ｎはその波長における高屈折率薄膜層もしくは低屈折率薄膜層の屈折率を示している。そのため高屈折率層は４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長を高めるためには光学厚み１１０−１３０ｎｍがよい。

本発明においては、反射層３の表面に低屈折率層４ａと高屈折率層４ｂとを交互に繰り返し積層してもよい。本発明者の知見によれば、低屈折率層４ａと高屈折率層４ｂとをそれぞれ２層ずつ積層したほうが、低屈折率層４ａと高屈折率層４ｂを１層ずつ設ける場合よりも、光反射体としての全反射率が増大する。ただし、低屈折率層４ａ及び高屈折率層４ｂの数を多くし過ぎると、膜厚ズレが生じ易くなって却って反射率が低下する場合がある。この観点から保護層４における低屈折率層４ａ及び高屈折率層４ｂの数は、それぞれ４層以下とすることが好ましい。より好ましくはそれぞれ３層以下、特に好ましくはそれぞれ２層である。尚、低屈折率層４ａを２層、高屈折率層４ｂを１層備えるような保護層としてもよいし、低屈折率層４ａを１層、高屈折率層４ｂを２層備えるような保護層としてもよい。

以上の通り、光反射体１０、２０においては、基材層１と反射層３との間にアンカーコート層２が設けられており、基材層１のアンカーコート層２側の表面粗さよりも、アンカーコート層２の反射層側３の表面粗さのほうが小さい。それゆえ、アンカーコート層２の基材層１とは反対側の表面に平滑な反射層３を形成することができる。

尚、本発明に係る光反射体において、基材層のアンカーコート層とは反対側の表面に、任意にその他の層を設けることが可能である。例えば、接着剤層を設けて光反射体を金属板等に接着可能としてもよい。

２．光反射体の製造方法
本発明に係る光反射体は、上記したように基材層の表面にアンカーコート層を設けることで、基材層の表面部を平滑化するものである。このように平滑化した表面に反射層及び任意に保護層を設けることで、優れた全反射率を有する光反射体を得ることができる。

基材層の表面にアンカーコート層を設ける方法としては、例えば、アンカーコート層を構成する材料及び溶媒（希釈溶剤）を含んだインクを、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等のコーティング方法によって、基材層としての基材フィルムの表面に塗布し、乾燥・硬化させる方法が挙げられる。基材層の表面部をより適切に平滑化できる観点から、特に、リバースコート法又はダイコート法が好ましい。

このようにして基材層の表面にアンカーコート層を設ける場合、上記インクの粘度を調整することも好ましい。すなわち、インクの粘度が高過ぎたり或いは低過ぎたりすると、十分に小さな表面粗さを有するアンカーコート層が得られない場合がある。本発明者の知見によれば、アンカーコート層を形成するにあたってのインクの粘度は１００ｍＰａ・ｓ以上１０００００ｍＰａ・ｓ以下とすることが好ましい。下限はより好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上、特に好ましくは１０００ｍＰａ・ｓ以上であり、上限はより好ましくは５００００ｍＰａ・ｓ以下、特に好ましくは３００００ｍＰａ・ｓ以下である。インクの粘度を調整するには、例えば上記の溶媒（希釈溶剤）の種類や配合量を調整すればよい。好ましい溶媒（希釈溶剤）としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等が挙げられる。

或いは、アンカーコート層として無機酸化物やシリコンウェハーを採用する場合、基材層の表面に真空成膜法や化学気相成長法等によって無機酸化物層を形成する方法、基材層の表面に鏡面加工した無機酸化物成形体やシリコンウェハーを貼り付ける方法等によって、基材層の表面にアンカーコート層を設けることができる。

アンカーコート層の表面に反射層を設ける方法としては、上記したコーティング法や真空成膜法（蒸着法、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法等）、さらには化学気相成長法が挙げられ、真空成膜法が好ましく、特にスパッタリング法が好ましい。スパッタリング法によれば、厚みがナノメートルオーダーの薄い反射層を容易に形成することができる。

反射層の表面に保護層を設ける方法についても、上記したコーティング法や真空成膜法を採用できる。

以上のように、本発明に係る光反射体は各種成膜法によって容易に製造することができる。すなわち、従来のように、基材自体を高平滑化処理する必要はなく、アンカーコート層を設けるだけで、高い全反射性を有する光反射体を得ることができる。

３．光反射体の性能
本発明に係る光反射体によれば、波長４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光に対する平均反射率として１０３％以上という極めて高い反射率を達成できる。尚、本発明において「反射率」とは、アルミナ製標準構成板で校正した反射率を基準（１００％）とした場合の反射率をいい、１００％を超えることも有り得る。

４．光反射体の用途
このように本発明によれば、液晶ディスプレイの高輝度化の要求に応えることが可能な全反射率の高い光反射体を容易に得ることができる。ただし、本発明に係る光反射体の用途は液晶ディスプレイに限られるものではなく、各種電子デバイス用表示装置に適用可能である。ただし、本発明による効果が一層顕著となる観点から、波長３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の光を含む照射光を光反射体に照射可能なバックライトをさらに備えた液晶ディスプレイに適用することが好ましい。

或いは、電子デバイス用表示装置以外にも、本発明に係る光反射体は、鏡、照明器具、照明看板などの反射部材としても用いることができる。

以下に実施例を示し、本発明を更に具体的に説明する。但し、本発明の範囲は、これらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の応用が可能である。

以下の方法により光反射体の性能を評価した。
（１）表面粗さ測定
光反射体の基材層及びアンカーコート層（シリコンウェハーやガラスを含む）の表面について表面粗さ（算術平均粗さ）Ｓａを測定した。具体的には直接位相干渉型顕微鏡ｖｅｒｔｓｃａｎ（株式会社菱化システム製）を用いフィルムの表面観察（モード：ｗａｖｅ５６０Ｍ、観察視野：９３．９７×７１.３７μｍ^２）を実施し、算術平均表面粗さＳａを算出した。
（２）反射率測定
光反射体の反射率は株式会社日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計「ＵＶ−４０００」（商品名）を用い、アルミナ製標準構成板で校正した反射率を基準（１００％）となるような条件で３００ｎｍ−８００ｎｍの波長域（０．５ｎｍ単位）で反射率を測定した。
（３）反り評価
アンカーコート層塗布後の反りについて、７ｃｍ×７ｃｍのサンプルの四隅の反りの平均値を測定し、下記の基準にて判断した。
○：四隅の反りの平均値が０．５ｍｍ未満
×：四隅の反りの平均値が０．５ｍｍ以上

１．アンカーコート層の有無による効果の確認
＜実施例１＞
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタラートフィルムの片面に、電子線硬化型アクリル樹脂（ＮＫ−５００；新中村化学社製）と希釈溶剤（ＭＩＢＫ；ナカライテスク社製）とを質量比率１：１で混合して樹脂固形分比率を５０質量％に調整した樹脂溶液（インク）を、バーコーターによりコーティングして、乾燥・硬化させ、厚み２μｍのアンカーコート層を形成した。アンカーコート層の表面に反射層としてスパッタリング法により厚み１２０ｎｍの銀薄膜層を形成し、光反射体を得た。基材層及びアンカーコート層の表面粗さの結果を下記表１に、光反射体の反射率の結果を図４に示す。

＜実施例２＞
アンカーコート層の厚みを４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光反射体を得た。基材層及びアンカーコート層の表面粗さの結果を下記表１に、光反射体の反射率の結果を図４に示す。

＜参考例１＞
シリコンウェハーの上に反射層としてスパッタリング法により厚み１２０ｎｍの銀薄膜層を形成し、光反射体を得た。シリコンウェハーの表面粗さの結果を下記表１に、光反射体の反射率の結果を図４に示す。

＜参考例２＞
ガラスの上に反射層としてスパッタリング法により厚み１２０ｎｍの銀薄膜層を形成し、光反射体を得た。ガラスの表面粗さ及び反射層の表面粗さの結果を下記表１に、光反射体の反射率の結果を図４に示す。

＜比較例１＞
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタラートフィルムの片面にスパッタリング法により厚み１２０ｎｍの銀薄膜層を形成し、光反射体を得た。ポリエチレンテレフタラートフィルムの表面粗さの結果及び反射層の表面粗さを下記表１に、光反射体の反射率の結果を図４に示す。

＜比較例２＞
実施例１において、反射層の厚みを５５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして光反射体を得た。アンカーコート層の表面粗さの結果を下記表１に、光反射体の反射率の結果を図４に示す。

表１及び図４〜６に示す結果から明らかなように、実施例１、２については、基材層の表面にアンカーコート層を設けることによって、表面粗さの小さな表面を形成することができ、ここに反射層を設けることで、極めて高い全反射率を有する光反射体を得ることができた。
また、参考例１、２のように、ガラスやシリコンウェハーの表面に反射層を形成した場合でも、同様に極めて高い全反射率を有する光反射体を得ることができた。すなわち、基材層の表面にアンカーコート層としてガラス層やシリコンウェハー層を設けることが有効であることが示唆された。
一方、アンカーコート層を設けない比較例１にあっては、表面粗さの大きな基材表面に直接反射層を設けることとなった結果、光反射体として十分な全反射率は得られなかった。
また、反射層の厚みが薄い比較例２にあっては、十分な反射率が得られなかった。

＜実施例３＞
アンカーコート層の厚みを１μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光反射体を得た。アンカーコート層の表面粗さ、及び、光反射体における反りや割れの発生の有無を下記表２に示す。

＜実施例４＞
アンカーコート層の厚みを１５μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光反射体を得た。アンカーコート層の表面粗さ、及び、光反射体における反りや割れの発生の有無を下記表２に示す。

表２や図５に示す結果から明らかなように、厚みが小さ過ぎる場合（実施例３）、表面粗さ低減効果（平滑化効果）が小さくなる虞がある。ただし、平均反射率については実施例１、２と比べてわずかながら低下したものの、比較例１と比べて良好な値となった。実施例３の結果を鑑みると、比較例１と比べて良好な平均反射率を達成する観点からは、アンカーコート層の厚みが０．５μｍ程度であってもよいと考えられる。また、アンカーコート層の反射層側の表面粗さを３．０ｎｍ未満とすることが好ましいと言える。一方、厚みが大き過ぎる場合（実施例４）、優れた平均反射率を達成できるものの、光反射体の反りや割れが発生する虞がある。

２．保護層の有無による効果の確認
＜実施例５＞
実施例２と同様にして得られた光反射体の反射層（銀薄膜層）の表面に、真空蒸着法によって低屈折率層であるＳｉＯ_２からなる層（光学厚み１１２．５ｎｍ）を形成し、その上にさらに、真空蒸着法により、ＴｉＯ_２からなる層（光学厚み１１２．５ｎｍ）を積層することによって、反射層の表面に２層構成の保護層を設けた。得られた光反射体について上述と同様の評価を行った。結果を下記表３に示す。

＜実施例６＞
高屈折率層の上にさらに同様の低屈折率層を設け、その上にさらに同様の高屈折率層を設けたこと（保護層を４層構成としたこと）以外は、実施例５と同様にして光反射体を得た。得られた光反射体について上述と同様の評価を行った。結果を下記表３に示す。

＜実施例７＞
低屈折率層と高屈折率層の光学厚みを１３７．５ｎｍに変更したこと以外は、実施例５と同様にして光反射体を得た。得られた光反射体について上述と同様の評価を行った。結果を下記表３に示す。

＜実施例８＞
高屈折率層の上にさらに同様の低屈折率層を設け、その上にさらに同様の高屈折率層を設けたこと（保護層を６層構成としたこと）以外は、実施例５と同様にして光反射体を得た。得られた光反射体について上述と同様の評価を行った。結果を下記表３に示す。

＜比較例３＞
比較例１と同様にして得られた光反射体の反射層（銀薄膜層）の表面に、真空蒸着法によって低屈折率層であるＳｉＯ_２からなる層（光学厚み１１２．５ｎｍ）を形成し、その上にさらに、真空蒸着法により、ＴｉＯ_２からなる層（光学厚み１１２．５ｎｍ）を積層することによって、反射層の表面に２層構成の保護層を設けた。得られた光反射体について上述と同様の評価を行った。結果を下記表３に示す。

表３や図６に示す結果から明らかなように、保護層を設けることで、光反射体の反射性能を向上させることができた。特に、２層構成の保護層を形成した場合（実施例５）よりも、４層構成の保護層を形成した場合（実施例６）のほうが、効果が大きかった。一方で、保護層の厚みを大きくし過ぎた場合（実施例７）、反射率の低下が認められた。すなわち、保護層を構成する低屈折率層及び高屈折率層の光学厚みはそれぞれ１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下程度とすることが効果的であることが分かった。また、保護層の積層数を６層とした場合（実施例８）、反射率の低下がみられた。すなわち、保護層を構成する低屈折率層及び高屈折率層は、それぞれ２層ずつ合計４層程度とすることが効果的であることが分かった。

以上のように、基材層の表面にアンカーコート層を設けて、基材層のアンカーコート層側の表面粗さよりも、アンカーコート層の反射層側の表面粗さを小さくすることで、反射層を容易に平滑化でき、全反射率が高められた光反射体を容易に製造できることが分かった。

本発明に係る光反射体は、液晶ディスプレイにおけるバックライト反射材として好適に利用可能である。その他、鏡、照明器具、照明看板などの反射部材としても利用可能である。

１ 基材層
２ アンカーコート層
３ 反射層
４ 保護層
４ａ 低屈折率層
４ｂ 高屈折率層
１０、２０ 光反射体

Claims (11)

1. 基材層、アンカーコート層及び反射層をこの順に備え、
   前記反射層の厚みが６０ｎｍ以上であり、
   前記基材層の前記アンカーコート層側の表面粗さよりも、前記アンカーコート層の前記反射層側の表面粗さのほうが小さいことを特徴とする、
   光反射体。
2. 前記アンカーコート層の前記反射層側の表面粗さが３．０ｎｍ未満である、請求項１に記載の光反射体。
3. 前記基材層の前記アンカーコート層側の表面粗さが１００ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の光反射体。
4. 前記アンカーコート層の厚みが０．５μｍ以上１０μｍ未満である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光反射体。
5. 前記反射層の前記アンカーコート層とは反対側に保護層を備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光反射体。
6. 前記保護層が、屈折率０．５以上２．０以下の低屈折率無機物からなる低屈折率層と、屈折率１．８以上４．０以下の高屈折率無機物からなる高屈折率層との少なくとも２層で構成され、高屈折率無機物の屈折率が低屈折率無機物の屈折率よりも０．５以上大きい、請求項５に記載の光反射体。
7. 前記低屈折率層の光学厚みが１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、前記高屈折率層の光学厚みが１１０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下である、請求項６に記載の光反射体。
8. 前記低屈折率無機物がＳｉＯ_２であり、前記高屈折率無機物がＴｉＯ_２である、請求項６又は７に記載の光反射体。
9. 波長４５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光に対する平均反射率が１０３％以上である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光反射体。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の光反射体を備える電子デバイス用表示装置。
11. 波長３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の光を含む照射光を前記光反射体に照射可能なバックライトをさらに備えた液晶ディスプレイである、請求項１０に記載の電子デバイス用表示装置。