CN204758855U

CN204758855U - 光反射体

Info

Publication number: CN204758855U
Application number: CN201520363255.4U
Authority: CN
Inventors: 多田博信; 堤健智; 柳原英人
Original assignee: Mitsubishi Plastics Inc
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp; Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date: 2014-05-30
Filing date: 2015-05-29
Publication date: 2015-11-11
Anticipated expiration: 2025-05-29
Also published as: JP2015227959A

Abstract

本实用新型提供一种光反射体(10)，其依次具备基材层(1)、结合层(2)及反射层(3)，其中，反射层的厚度为60nm以上，且结合层的反射层侧的表面粗糙度小于基材层的结合层侧的表面粗糙度。由此，可以得到全反射率高的光反射体。

Description

光反射体

技术领域

本实用新型涉及光反射体，其能够适合用作镜子、或液晶显示器、照明器具、照明广告牌等的反射构件。

背景技术

目前，已知有在塑料膜上形成由铝、银等金属的薄膜形成的金属反射层的光反射膜。光反射膜作为用于手机、电视机等的液晶显示器的背光、荧光灯的光反射体而被使用。

随着最近的液晶显示器的高亮度化的发展，对于提高光反射体的反射性的要求不断提高。即，如果不通过光反射体来使光线品质变好，则无法实现液晶显示器的高亮度。作为要求光反射体的特性，可以列举出全反射率高的特性。

作为提高光反射体的全反射率的技术，在专利文献1(日本特开2006-126236号公报)中提出了对光反射体的基材表面进行高平滑化处理。根据专利文献1，通过对基材表面进行高平滑化处理而使得该表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，能够使反射体的全反射率为80％以上。

然而，存在日本特开2006-126236号公报中记载的光反射体的全反射率不能满足最近的液晶显示器的高亮度化要求的问题。而且，在日本特开2006-126236号公报中对于基材表面的高平滑化处理没有详细记载，为了降低基材的表面粗糙度需要进行过多的试验。

实用新型内容

实用新型所要解决的问题

本实用新型的课题在于提供一种全反射率高的光反射体。

解决问题的方法

为了解决上述问题，本发明人等进行了深入研究，结果发现，通过在基材膜的表面设置结合层，能够容易地确保具有表面粗糙度比基材表面粗糙度小的表面，从而能够获得全反射率高的反射膜。本发明人等进一步深入研究还发现，通过对该结合层的厚度等进行限定，能够获得全反射率更高的反射膜。

即，本实用新型涉及一种光反射体，其依次具有基材层、结合层及反射层，其中，反射层的厚度为60nm以上，并且结合层的反射层侧的表面粗糙度小于基材层的结合层侧的表面粗糙度。

在本实用新型中，“基材层”是指能够成为用于形成反射层的支撑层的层。“结合层”是指设置在基材层表面的层，其是能够掩盖基材层表面的凹凸，从而降低设置反射层一侧的表面粗糙度的层。“反射层”是指对光反射体赋予高反射性的层，是由以金属为主体的薄膜形成的层。“作为主体”是指占层的构成成分的50质量％以上，优选占80质量％以上，更优选占90质量％以上。“表面粗糙度”是指算数平均粗糙度(Sa)。

在本实用新型中，优选结合层的反射层侧的表面粗糙度小于3.0nm。

在本实用新型中，优选基材层的结合层侧的表面粗糙度为100nm以下。

在本实用新型中，优选结合层的厚度为0.5μm以上且小于10μm。

在本实用新型中，优选在反射层的与结合层相反一侧具备保护层。

对于本实用新型而言，在具备上述保护层的情况下，优选该保护层由低折射率层和高折射率层至少2层构成，所述低折射率层是由折射率0.5以上且2.0以下的低折射率无机物形成的，所述高折射率层是由折射率1.8以上且4.0以下的高折射率无机物形成的，且高折射率无机物的折射率比低折射率无机物的折射率高0.5以上。

对于本实用新型而言，在具备上述低折射率层及高折射率层的情况下，优选低折射率层的光学厚度为110nm以上且130nm以下，高折射率层的光学厚度为110nm以上且130nm以下。

对于本实用新型而言，在具备上述低折射率层及高折射率层的情况下，优选低折射率无机物为SiO₂，高折射率无机物为TiO₂。

优选本实用新型的光反射材料对于波长为450nm以上且550nm以下的光的平均反射率为103％以上。需要说明的是，在本实用新型中，“反射率”是指以用氧化铝制标准构成板校正后的反射率作为标准(100％)时的反射率，也有可能超过100％。

根据本实用新型，可以提供能够满足液晶显示器高亮度化要求的全反射率高的光反射体。

附图说明

图1是用于说明本实用新型的光反射体10的示意图。

图2是用于说明本实用新型的光反射体10中的层厚度示意图。

图3是用于说明本实用新型的光反射体20的示意图。

图4是示出实施例的光反射体的全反射率测定结果的图。

图5是示出实施例的光反射体的全反射率测定结果的图。

图6是示出实施例的光反射体的全反射率测定结果的图。

符号说明

1…基材层

2…结合层

3…反射层

4…保护层

4a…低折射率层

4b…高折射率层

10、20…光反射体

具体实施方式

以下，作为本实用新型的实施方式的一个例子，对于作为液晶显示器、照明器具、照明广告牌等的构成构件使用的光反射体进行说明。

需要说明的是，作为光反射体所采用的形态，优选为膜状或片状。一般而言，所述“膜”是指，与长度及宽度相比，厚度极小，且最大厚度可任意限定的薄且平的制品，其通常以卷的形式供给(日本工业标准JISK6900)；一般而言，所述“片”是指，在JIS定义上，薄、且相对于长度和宽度而言，其厚度通常较小的平坦的制品。但是，片与膜之间并无明显界限，在本实用新型中，没有必要在文字上将两者区分开，因此在本实用新型中，称作“膜”时也包括“片”，称作“片”时也包括“膜”。

1.光反射体

图1中示意性地示出了一个实施方式的本实用新型的光反射体10。如图1所示，本发明的光反射体10依次具有基材层1、结合层2及反射层3，其中，结合层2的反射层3侧的表面粗糙度小于基材层1的结合层2侧的表面粗糙度。

1.1.基材层1

作为基材层1，可以适当使用能够起到作为光反射体作用的基材。特别优选由塑料膜形成的层。作为塑料膜，只要能够保持反射性及优异的耐久性就没有特别限制，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、丙烯酸类膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺酰亚胺膜、含氟膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜等各种塑料膜。

基材层1的厚度优选为9μm以上且188μm以下。基材层1的厚度下限更优选为12μm以上，特别优选为38μm以上，其上限更优选为125μm以下，特别优选为100μm以下。需要说明的是，“基材层1的厚度”是指，如图2所示，从基材层1的表面凹凸的凸部(山)的顶点到基材层1的背面凹凸的凸部(山)的顶点为止的长度(L1)。

在厚度小于9μm的情况下，在加工光反射体时、或者在通过粘接剂层贴合光反射体与金属板并进行叠层时，有时会产生褶皱，根据情况还会破裂，因而使操作性变差。另一方面，在厚度大于188μm的情况下，有时由厚度不均、松弛导致基材层的平滑性变差，使得难以形成均匀的反射层。

基材层1的结合层2侧的表面粗糙度(算术平均粗糙度Sa)没有特别限定，优选为100nm以下。基材层1的结合层2侧的表面粗糙度的上限更优选为50nm以下，进一步优选为10nm以下。需要说明的是，对于其下限没有特别限定。

在基材层1的表面粗糙度过大的情况下，存在用于形成全反射率高的光反射体所必须的结合层2的厚度变得过厚的情况。

1.2.结合层2

结合层2是设置在基材层1表面的层，其是能够掩盖基材层1的表面凹凸、降低设置有反射层侧的表面粗糙度(实现表面的平滑化)的层。

结合层2可以为以各种固化树脂为主体的层、或者以各种无机氧化物(玻璃、陶瓷等)为主体的层。或者也可以为由硅晶片形成的层。特别是，从容易设置于基材层1的表面、能够赋予其某种程度的柔性而使操作性也优异的观点考虑，结合层2优选为以各种固化树脂为主体的层，特别优选为以丙烯酸类树脂、聚酯树脂、或三聚氰胺树脂中的任意一种以上为主体的层。

“作为主体”是指占层的构成成分中的50质量％以上，优选占80质量％以上，更优选占90质量％以上。在结合层2中，除了上述各种固化树脂、金属氧化物以外，还可以在不损害本实用新型效果的范围内含有公知的各种添加剂。

结合层2的厚度优选为0.5μm以上且10μm以下。结合层2的厚度的下限更优选为1.0μm以上，特别优选为2.0μm以上。需要说明的是，“结合层2的厚度”是指，如图2所示，从基材层1表面凹凸的凸部(山)的顶点(结合层2的基材层1侧的表面凹凸的凹部(谷)的底点)到结合层2的反射层3侧的凹凸的凸部(山)的顶点之间的长度(L2)。

在结合层2的厚度过小的情况下，有时不能使基材层1的表面充分地平滑化。在结合层2的厚度过大的情况下，有时由于涂布不匀、形成不匀反而会使平滑性变差。

在本实用新型中，重要的是使结合层2的反射层3侧的表面粗糙度(算术平均粗糙度Sa)小于基材层1的结合层2侧的表面粗糙度。由此，与在基材层1的表面直接形成反射层3的情况相比，能够获得更平滑的反射层3，形成全反射率优异的光反射体10。特别优选结合层2的反射层3侧的表面粗糙度小于3.0nm。结合层2的反射层3侧的表面粗糙度的上限更优选为2.0nm以下，特别优选为1.0nm以下。需要说明的是，对于其下限没有特别限定。

1.3.反射层3

反射层3是设置于结合层2表面的层，其是以能够赋予光反射体10高反射性的金属为主体的层。具体而言，优选以银或银合金为主体的层、或者以铝或铝合金为主体的层，特别优选以银为主体的层。

对于反射层3的厚度而言，只要能对光反射体10赋予反射性就没有特别限定，但其下限为60nm以上，其上限优选为200nm以下。反射层3的厚度的下限更优选为80nm以上、特别优选为100nm以上，其上限更优选为180nm以下、特别优选为150nm以下。需要说明的是，“反射层3的厚度”是指，如图2所示，从结合层2表面凹凸的凸部(山)的顶点(反射层3的结合层2侧的表面凹凸的凹部(谷)的底点)到反射层3的与结合层2相反一侧的凹凸的凸部(山)的顶点之间的长度(L3)。

在反射层3的厚度过小的情况下，有时不能得到足够的反射性，而且有时也不能获得足够的耐久性。特别是在小于60nm的情况下，光透射过去，反射率降低。另一方面，在反射层3的厚度过大的情况下，有时反射层3会产生裂纹而使反射性变差，而且有时所谓的烧焦现象会导致反射层着色为黄色，使黄色度增高。

需要说明的是，本实用新型的光反射体只要至少具备基材层、结合层及反射层即可，也可以进一步具备除此以外的层。在图3中示意性地示出了一个实施方式的本发明的光反射体20。如图3所示，本实用新型的光反射体20在反射层3的与结合层2相反一侧还具备保护层4。

1.4.保护层4

保护层4是用于保护反射层3的层。特别优选为在保护反射层3的同时还具有给定光学特性的层。具体而言，保护层4优选由低折射率层4a和高折射率层4b至少2层构成，所述低折射率层4a由折射率0.5以上且2.0以下的低折射率无机物形成，所述高折射率层4b由折射率1.8以上且4.0以下的高折射率无机物形成，且高折射率无机物的折射率比低折射率无机物的折射率高0.5以上。需要说明的是，本实用新型中，“折射率”是指D线的折射率。

低折射率层4a是折射率小于高折射率层4b的折射率的层。作为构成这样低折射率层4a的低折射率无机物，没有特别限定，可以从折射率为0.5以上且2.0以下的公知无机化合物中适当选择。例如，可以列举二氧化硅、氧化铝等各种氧化物，氟化镁、氟化钠等各种氟化物，等等。特别优选二氧化硅(SiO₂)。

低折射率层4a的厚度优选为110nm以上且130nm以下。通过使其为这样的厚度，能够获得高光泽度、以及特别是对波长450nm以上且550nm以下的光的高漫反射率。

作为被认为是提高反射率的方法之一，有增反膜这样的概念，其是通过将高折射率薄膜层和低折射率薄膜层分别以λ/4n的厚度进行叠层来实现的，已实现了以玻璃、铝为基体的增反膜。这里，上述λ为对象光的波长，n表示高折射率薄膜层或低折射率薄膜层在该波长的折射率。因此，为了提高对450nm以上且550nm以下波长的光的反射，低折射率层的光学厚度可以为110-130nm。

高折射率层4b与低折射率层4a相比，是折射率相对大的层。作为构成这样的高折射率层4b的高折射率无机物，没有特别限制，可以适当选择折射率为1.8以上且4.0以下的公知的无机化合物。例如，可以举出二氧化钛、氧化铟等各种金属氧化物，硫化锌等各种金属硫化物等。特别优选二氧化钛(TiO₂)。

高折射率层4b的厚度优选为110nm以上且130nm以下。通过使其为这样的厚度，能够获得高光泽度、以及特别是对波长450nm以上且550nm以下的光的高漫反射率。作为被认为是提高反射率的方法之一，有增反膜这样的概念，其是通过将高折射率薄膜层和低折射率薄膜层分别以λ/4n的厚度进行叠层来实现的，已实现了以玻璃、铝为基体的增反膜。这里，上述λ为对象光的波长，n表示高折射率薄膜层或低折射率薄膜层在该波长的折射率。因此，为了提高对450nm以上且550nm以下波长的光的反射，高折射率层的光学厚度可以为110-130nm。

在本实用新型中，可以将低折射率层4a和高折射率层4b交替地反复叠层在反射层3的表面。根据本实用新型发明人的见解，与各设置1层低折射率层4a和高折射率层4b的情况相比，将低折射率层4a和高折射率层4b分别叠层2层的情况下，光反射体的全反射率增大。但是，如果低折射率层4a和高折射率层4b的数量过多，则容易产生膜厚不均，反射率有时反而会降低。从该观点考虑，保护层4中的低折射率层4a和高折射率层4b的数量优选分别为4层以下。更优选分别为3层以下，特别优选分别为2层。需要说明的是，也可以是具备2层低折射率层4a、1层高折射率层4b这样的保护层，还可以是具备1层低折射率层4a、2层高折射率层4b这样的保护层。

如上所述，在光反射体10、20中，基材层1和反射层3之间设有结合层2，与基材层1的结合层2侧的表面粗糙度相比，结合层2的反射层3侧的表面粗糙度较小。由此，能够在结合层2的与基材层1相反一侧的表面形成平滑的反射层3。

需要说明的是，在本实用新型的光反射体中，在基材层的与结合层相反一侧的表面可以任意设置其它层。例如，可以设置粘接剂层而将光反射体粘接在金属板等上。

2.光反射体的制造方法

本实用新型的光反射体通过如上所述在基材层表面设置结合层，使基材层的表面部平滑化。通过在这样的经过平滑化的表面上设置反射层及任选设置保护层，能够获得具有优异的全反射率的光反射体。

作为在基材层表面设置结合层的方法，可以列举例如下述方法：使用凹版涂布法、逆涂法、模涂法等涂敷方法将含有构成结合层的材料及溶剂(稀释溶剂)的油墨涂布于作为基材层的基材膜的表面，再使其干燥、固化。从能够更适当地使基材层的表面部平滑化的观点考虑，特别优选逆涂法或模涂法。

如上所述在基材层表面设置结合层时，优选对上述油墨的粘度进行调整。即，如果油墨的粘度过高或过低，则有时不能获得具有足够小的表面粗糙度的结合层。根据本实用新型发明人的见解，形成结合层时的油墨粘度优选为100mPa·s以上且100000mPa·s以下，其下限更优选为500mPa·s以上、特别优选为1000mPa·s以上，其上限更优选为50000mPa·s以下、特别优选为30000mPa·s以下。对油墨粘度进行调整时，例如可以调整上述溶剂(稀释溶剂)的种类、配合量。作为优选的溶剂(稀释溶剂)，可以列举乙酸乙酯、甲乙酮(MEK)等。

另外，在采用无机氧化物、硅晶片作为结合层的情况下，可以通过利用真空成膜法、化学气相生长法等在基材层表面形成无机氧化物层的方法、在基材层表面粘贴经过了镜面加工的无机氧化物成型体或硅晶片的方法等在基材层表面设置结合层。

作为在结合层表面设置反射层的方法，可以列举上述的涂敷法、真空成膜法(蒸镀法、溅射法、电子束蒸镀法等)、以及化学气相生长法，优选真空成膜法，特别优选溅射法。通过溅射法，能够容易地形成厚度为纳米级的薄反射层。

对于在反射层表面设置保护层的方法，可以采用上述的涂敷法、真空成膜法。

如上所述，本实用新型的光反射体能够通过各种成膜法容易地制造。即，不需要如以往那样对基材本身进行高平滑化处理，仅通过设置结合层就能获得具有高全反射性的光反射体。

3.光反射体的性能

根据本实用新型的光反射体，作为对波长450nm以上且550nm以下的光的平均反射率，能够实现103％以上这样的极高的反射率。需要说明的是，在本实用新型中，“反射率”是指以用氧化铝制标准构成板校正后的反射率作为标准(100％)时的反射率，其有可能超过100％。

4.光反射体的用途

如上所述，根据本实用新型，可以容易地得到能够满足液晶显示器的高亮度化要求的全反射率高的光反射体。但本实用新型的光反射体的用途并不限于液晶显示器，还能够适用于各种电子器件用显示装置。其中，从进一步突出本实用新型的效果的观点考虑，优选应用于进一步具备能够对光反射体照射包含波长300nm以上且800nm以下的光的照射光的背光的液晶显示器。

另外，除了电子器件用显示装置以外，本实用新型的光反射体还可以作为镜子、照明器具、照明广告板等的反射构件使用。

5.实施例

本实用新型不限于以下的实施例，可以在不脱离本实用新型的技术思想的范围内进行各种应用。

通过以下方法评价了光反射体的性能。

(1)表面粗糙度的测定

对光反射体的基材层和结合层(包括硅晶片、玻璃)的表面测定了表面粗糙度(算术平均粗糙度)Sa。具体而言，使用直接相位干涉型显微镜vertscan(RyokaSystemsInc.制造)对膜实施表面观察(模式：wave560M，观察视野：93.97×71.37μm²)，计算出算术平均表面粗糙度Sa。

(2)反射率测定

对于光反射体的反射率而言，使用HitachiHighTechnologies公司制造的分光光度计“UV-4000”(商品名)，以用氧化铝制标准构成板校正后的反射率作为标准(100％)的条件下于300nm-800nm的波长范围(0.5nm单位)测定了反射率。

(3)翘曲评价

对于结合层涂布后的翘曲而言，测定7cm×7cm的样品四个角的翘曲的平均值，按照下述标准进行了判断。

○：四个角的翘曲的平均值小于0.5mm

×：四个角的翘曲的平均值为0.5mm以上

5.1.有无结合层的效果确认

<实施例1>

将电子束固化性丙烯酸类树脂(NK-500；新中村化学株式会社制造)和稀释溶剂(MIBK；NacalaiTesque公司制造)以质量比率1:1进行混合，将树脂固体成分比率调整为50质量％，制成树脂溶液(油墨)，用棒涂器将该树脂溶液涂敷在厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面，使其干燥、固化，形成了厚度2μm的结合层。利用溅射法在结合层的表面形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层，从而得到了光反射体。将基材层和结合层的表面粗糙度的结果示于下述表1，将光反射体的反射率的结果示于图4。

<实施例2>

除了将结合层的厚度设为4μm以外，与实施例1同样地得到了光反射体。将基材层和结合层的表面粗糙度的结果示于下述表1，将光反射体的反射率的结果示于图4。

<参考例1>

用溅射法在硅晶片上形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层，得到了光反射体。将硅晶片的表面粗糙度的结果示于下述表1，将光反射体的反射率的结果示于图4。

<参考例2>

用溅射法在玻璃上形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层，得到了光反射体。将玻璃的表面粗糙度及反射层的表面粗糙度的结果示于下述表1，将光反射体的反射率的结果示于图4。

<比较例1>

用溅射法在厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层，得到了光反射体。将聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面粗糙度的结果及反射层的表面粗糙度示于下述表1，将光反射体的反射率的结果示于图4。

<比较例2>

除了将实施例1中的反射层厚度设为55nm以外，与实施例1同样地得到了光反射体。将结合层的表面粗糙度的结果示于下述表1，将光反射体的反射率的结果示于图4。

表1

由表1及图4～6所示的结果可知，对于实施例1、2而言，通过在基材层表面设置结合层，能够形成表面粗糙度小的表面，通过在其上设置反射层，能够得到具有极高全反射率的光反射体。

另外，在如参考例1、2那样在玻璃、硅晶片的表面形成反射层的情况下，也能够同样地获得具有极高全反射率的光反射体。即，暗示了在基材层的表面设置玻璃层、硅晶片层作为结合层是有效的。

另一方面，在未设置结合层的比较例1中，在表面粗糙度大的基材表面直接设置了反射层，其结果是未获得作为光反射体的足够的全反射率。

另外，在反射层厚度较薄的比较例2中，未获得足够的反射率。

<实施例3>

除了将结合层的厚度设为1μm以外，与实施例1同样地得到了光反射体。将结合层的表面粗糙度、以及光反射体的翘曲、是否发生破裂示于下述表2。

<实施例4>

除了将结合层的厚度设为15μm以外，与实施例1同样地得到了光反射体。将结合层的表面粗糙度、以及光反射体的翘曲、是否发生破裂示于下述表2。

表2

由表2及图5所示的结果可知，在厚度过小的情况下(实施例3)，存在表面粗糙度降低效果(平滑化效果)变小的隐患。但是，对于平均反射率而言，仅比实施例1、2略微下降，与比较例1相比为良好的值。鉴于实施例3的结果，从与比较例1相比实现了更好的平均反射率的观点考虑，可以认为结合层的厚度可以为0.5μm左右。另外，可以认为结合层的反射层侧的表面粗糙度优选小于3.0nm。另一方面，在厚度过大的情况下(实施例4)，虽然能够实现优异的平均反射率，但是存在光反射体产生翘曲、破裂的隐患。

5.2.有无保护层的效果确认

<实施例5>

通过真空蒸镀法在与实施例2同样地得到的光反射体的反射层(银薄膜层)的表面形成作为低折射率层的由SiO₂形成的层(光学厚度112.5nm)，再通过真空蒸镀法在其上叠层由TiO₂形成的层(光学厚度112.5nm)，由此，在反射层的表面设置了2层结构的保护层。对所得到的光反射体进行了与上述相同的评价。将结果示于下述表3。

<实施例6>

除了在高折射率层上进一步设置同样的低折射率层，并在其上再设置同样的高折射率层(将保护层制成4层结构)以外，与实施例5同样地得到了光反射体。对所得到的光反射体进行了与上述相同的评价。将结果示于下述表3。

<实施例7>

除了将低折射率层和高折射率层的光学厚度更改为137.5nm以外，与实施例5同样地得到了光反射体。对所得到的光反射体进行了与上述相同的评价。将结果示于下述表3。

<实施例8>

除了在高折射率层上进一步设置同样的低折射率层，并在其上再设置同样的高折射率层(将保护层制成6层结构)以外，与实施例5同样地得到了光反射体。对所得到的光反射体进行了与上述相同的评价。将结果示于下述表3。

<比较例3>

通过真空蒸镀法在与比较例1同样地得到的光反射体的反射层(银薄膜层)的表面形成作为低折射率层的由SiO₂形成的层(光学厚度112.5nm)，再通过真空蒸镀法在其上叠层由TiO₂形成的层(光学厚度112.5nm)，由此，在反射层的表面设置了2层结构的保护层。对所得到的光反射体进行了与上述相同的评价。将结果示于下述表3。

表3

由表3及图6所示的结果可知，通过设置保护层，能够提高光反射体的反射性能。特别是与形成了2层结构的保护层的情况(实施例5)相比，形成了4层结构的保护层的情况(实施例6)的效果更大。另一方面，在保护层的厚度过大的情况下(实施例7)，确认了反射率降低。即，可知构成保护层的低折射率层和高折射率层的光学厚度分别为110nm以上且130nm以下是有效的。另外，在保护层的叠层数为6层(实施例8)时，观察到反射率的降低。即，可知构成保护层的低折射率层和高折射率层分别各为2层、总计为4层左右是有效的。

如上所述，可知通过在基材层的表面设置结合层，并且使结合层的反射层侧的表面粗糙度小于基材层的结合层侧的表面粗糙度，能够容易地使反射层平滑化，从而能够容易地制造全反射率得到提高的光反射体。

Claims

1.一种光反射体，其依次具有基材层、结合层及反射层，其特征在于，

所述反射层的厚度为60nm以上，

所述结合层的所述反射层侧的表面粗糙度小于所述基材层的所述结合层侧的表面粗糙度。

2.根据权利要求1所述的光反射体，其特征在于，所述结合层的所述反射层侧的表面粗糙度小于3.0nm。

3.根据权利要求1所述的光反射体，其特征在于，所述基材层的所述结合层侧的表面粗糙度为100nm以下。

4.根据权利要求1所述的光反射体，其特征在于，所述结合层的厚度为0.5μm以上且小于10μm。

5.根据权利要求1所述的光反射体，其特征在于，在所述反射层的与所述结合层相反一侧具有保护层。

6.根据权利要求5所述的光反射体，其特征在于，所述保护层由低折射率层和高折射率层至少2层构成，所述低折射率层由折射率0.5以上且2.0以下的低折射率无机物形成，所述高折射率层由折射率1.8以上且4.0以下的高折射率无机物形成，且高折射率无机物的折射率比低折射率无机物的折射率高0.5以上。

7.根据权利要求6所述的光反射体，其特征在于，所述低折射率层的光学厚度为110nm以上且130nm以下，所述高折射率层的光学厚度为110nm以上且130nm以下。

8.根据权利要求6所述的光反射体，其特征在于，所述低折射率无机物为SiO₂，所述高折射率无机物为TiO₂。

9.根据权利要求1所述的光反射体，其特征在于，对于波长450nm以上且550nm以下的光的平均反射率为103％以上。