JP2019113844A

JP2019113844A - 光反射材

Info

Publication number: JP2019113844A
Application number: JP2018234371A
Authority: JP
Inventors: 淳之介村上; Junnosuke Murakami; 匡徳寺田; Masanori Terada
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2017-12-20
Filing date: 2018-12-14
Publication date: 2019-07-11

Abstract

【課題】可視光領域中の短波長域での反射率が高く、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率が高い光反射材を提供する。【解決手段】基材２と、基材２の一方の表面上に配置された第１の光反射層３と、第１の光反射層３の基材側とは反対の表面上に配置された第２の光反射層４とを備え、第１の光反射層３が、アルミニウムを含み、第２の光反射層４が、銀を含む。第２の光反射層４の第１の光反射層側とは反対の表面上に配置された低屈折率層５と、低屈折率層５の第２の光反射層側とは反対の表面上に配置された高屈折率層６とをさらに備えることが好ましい。【選択図】図１

Description

本発明は、基材と光反射層とを備える光反射材に関する。

携帯電話、スマートフォン、パソコン、及びテレビ等の液晶表示ディスプレイには、通常、バックライト装置が備えられている。このバックライト装置には、発光ダイオード（ＬＥＤ）等の光源、拡散シート、導光板、及び光反射材（光反射フィルム）等が備えられている。

光反射材には、光源から発せられた光を効率よく液晶パネルに到達させるために、金属を含む層（光反射層）が備えられている。

下記の特許文献１には、基体と、該基体上に形成されており、かつ銀、銀合金、アルミニウム又はアルミニウム合金を含む光反射層とを備える光反射板が開示されている。この光反射板では、光反射層の表面における算術平均粗さが０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねりが０．３０〜２．５０μｍである。

ＷＯ２００９／０１３９４４Ａ１

従来の光反射材では、可視光領域中の短波長域での光の反射率が低いことがある。そのため、従来の光反射材を液晶ディスプレイのバックライト装置の部材として用いた場合、バックライトの青味の程度が低いことがある。また、近年、液晶ディスプレイのバックライトとして、青味を有する光が好まれている。

本発明者は、光反射材において可視光領域中の短波長域での光の反射率を高めた場合、中波長域〜長波長域での反射率が低くなるという課題を見出した。

本発明者は、従来の光反射材では、可視光領域中の短波長域での反射率と、中波長域〜長波長域での反射率との双方を高めることは困難であるという課題を見出した。

従来の光反射材において、可視光領域中の短波長域での反射率と、中波長域〜長波長域での反射率との双方を高めることには着目されていない。

本発明の目的は、可視光領域中の短波長域での反射率が高く、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率が高い光反射材を提供することである。

本発明の広い局面によれば、基材と、該基材の一方の表面上に配置された第１の光反射層と、該第１の光反射層の前記基材側とは反対の表面上に配置された第２の光反射層とを備え、前記第１の光反射層が、アルミニウムを含み、前記第２の光反射層が、銀を含む、光反射材が提供される。

本発明に係る光反射材のある特定の局面では、前記第１の光反射層の厚みが１５ｎｍ以上である。

本発明に係る光反射材のある特定の局面では、前記第２の光反射層の厚みが１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。

本発明に係る光反射材のある特定の局面では、前記光反射材は、前記第２の光反射層の前記第１の光反射層側とは反対の表面上に配置された低屈折率層と、該低屈折率層の前記第２の光反射層側とは反対の表面上に配置された高屈折率層とをさらに備え、前記低屈折率層は、前記高屈折率層よりも低い屈折率を有し、前記高屈折率層は、前記低屈折率層よりも高い屈折率を有する。

本発明に係る光反射材のある特定の局面では、前記低屈折率層の屈折率が１．３以上１．６以下であり、前記高屈折率層の屈折率が２．０以上２．４以下である。

本発明に係る光反射材は、液晶ディスプレイにおいて、光を反射するために好適に用いられる。

本発明によれば、可視光領域中の短波長域での反射率が高く、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率が高い光反射材を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係る光反射材を模式的に示す断面図である。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明に係る光反射材は、基材と、該基材の一方の表面上に配置された第１の光反射層と、該第１の光反射層の上記基材側とは反対の表面上に配置された第２の光反射層とを備える。本発明に係る光反射材では、基材と、第１の光反射層と、第２の光反射層とがこの順で積層されている。本発明に係る光反射材では、上記第１の光反射層が、アルミニウムを含み、上記第２の光反射層が、銀を含む。

本発明では、上記の構成が備えられているので、可視光領域中の短波長域での反射率を高くすることができ、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率を高くすることができる。

したがって、本発明に係る光反射材では、可視光領域での平均反射率を高くすることができる。

従来の光反射材では、可視光領域中の短波長域での反射率を高め、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率を高める検討は行われていなかった。

本発明者は、光反射材において、可視光領域中の短波長域での光の反射率を高めた場合、中波長域〜長波長域での反射率が低くなるという課題を見出した。

本発明者らは、鋭意検討した結果、可視光領域中の短波長域での反射率を高くすることができ、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率を高くすることができる光反射材の構成を見出した。

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。

図１に示す光反射材１は、基材２と、第１の光反射層３と、第２の光反射層４と、低屈折率層５と、高屈折率層６とを備える。

第１の光反射層３は、基材２の一方の表面上に配置されている。

第２の光反射層４は、第１の光反射層３の基材２側とは反対の表面上に配置されている。

低屈折率層５は、第２の光反射層４の第１の光反射層３側とは反対の表面上に配置されている。

高屈折率層６は、低屈折率層５の第２の光反射層４側とは反対の表面上に配置されている。

基材２と、第１の光反射層３と、第２の光反射層４と、低屈折率層５と、高屈折率層６とは、この順に並んで配置されている。

本発明に係る光反射材では、屈折率層は備えられていなくてもよく、低屈折率層と高屈折率層とは備えられていなくてもよい。

光反射材１は、１層の第１の光反射層３と、１層の第２の光反射層４とを備える。第１の光反射層及び第２の光反射層はそれぞれ、１層であってもよく、多層であってもよい。

光反射材１は、１層の低屈折率層５と、１層の高屈折率層６とを備える。低屈折率層及び高屈折率層はそれぞれ、１層であってもよく、多層であってもよい。

以下、光反射材を構成する各層の詳細を説明する。

（基材）
基材は、第１の光反射層と第２の光反射層とを支持する基材である。

基材は、基材本体と、該基材本体の表面上に下地層とを有してもよい。該下地層上に、第１の光反射層が積層されていてもよい。上記基材が下地層を有すると、基材本体の耐腐食性を高めることができ、また、基材と第１の光反射層との密着力を高めることができる。

上記基材は、樹脂フィルムであることが好ましい。上記基材が、上記基材本体と上記下地層とを有する場合には、上記基材本体は、樹脂フィルムであることが好ましい。

上記樹脂フィルムの材料としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、及びポリウレア樹脂等が挙げられる。上記樹脂フィルムの材料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

上記下地層の材料としては、無機酸化物層、無機亜酸化物層、及び樹脂層等が挙げられる。上記下地層の材料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

上記基材の厚みは、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２３μｍ以上、好ましくは１８８μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下である。上記基材の厚みが上記下限以上であると、光反射材の取扱性が高くなる。上記基材の厚みが上記上限以下であると、光反射材全体の厚みをより一層薄くすることができる。

上記基材が、上記基材本体と上記下地層とを有する場合には、上記基材本体の厚みは、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２３μｍ以上、好ましくは１８８μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下である。上記基材本体の厚みが上記下限以上であると、光反射材の取扱性が高くなる。上記基材本体の厚みが上記上限以下であると、光反射材全体の厚みをより一層薄くすることができる。

上記基材及び上記基材本体は、それぞれ、各種安定剤、白色顔料、アンチブロッキング剤、及び屈折率調整剤等を含んでいてもよい。

（第１の光反射層及び第２の光反射層）
第１の光反射層は、基材の一方の表面上に配置される層である。上記第１の光反射層は、アルミニウムを含む。上記第１の光反射層は、アルミニウムを含む層である。

第２の光反射層は、上記第１の光反射層の上記基材側とは反対の表面上に配置される層である。上記第２の光反射層は、銀を含む。上記第２の光反射層は、銀を含む層である。

本発明では、アルミニウムを含む上記第１の光反射層が備えられているので、可視光領域中の短波長域での反射率を高くすることができる。本発明では、銀を含む上記第２の光反射層が備えられているので、可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率を高くすることができる。本発明では、アルミニウムを含む上記第１の光反射層と、銀を含む上記第２の光反射層との双方が備えられているので、可視光領域中の短波長域での反射率を高くすることができ、かつ可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率を高くすることができる。

アルミニウムを含む上記第１の光反射層、又は銀を含む上記第２の光反射層が備えられない場合、可視光領域中の短波長域での反射率と、中波長域〜長波長域での反射率との双方を高めることは困難である。

上記第１の光反射層に含まれるアルミニウムは、アルミニウム単体であってもよく、アルミニウム合金であってもよい。上記第１の光反射層に含まれるアルミニウムとして、これらの化合物の内の１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記第１の光反射層に含まれるアルミニウムは、アルミニウム単体であることが好ましい。

上記第２の光反射層に含まれる銀は、銀単体であってもよく、銀合金であってもよい。上記第２の光反射層に含まれる銀として、これらの化合物の内の１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記第２の光反射層に含まれる銀は、銀単体であることが好ましい。

上記第１の光反射層は、本発明の効果を阻害しない限り、アルミニウム以外の金属元素を含んでもよい。上記アルミニウム以外の金属元素としては、例えば、Ｍｎ、Ｃｕ、及びＳｉ等が挙げられる。

上記第２の光反射層は、本発明の効果を阻害しない限り、銀以外の金属元素を含んでもよい。上記銀以外の金属元素としては、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、及びＡｕ等が挙げられる。

上記第１の光反射層１００重量％中、上記アルミニウムの含有量は、好ましくは９９重量％以上、より好ましくは９９．５重量％以上、好ましくは９９．９９重量％以下、より好ましくは９９．９重量％以下である。上記アルミニウムの含有量が上記下限以上であると、可視光領域中の短波長域での反射率を効果的に高めることができる。上記アルミニウムの含有量が上記上限以下であると、可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率の低下を抑えることができる。

上記第２の光反射層１００重量％中、上記銀の含有量は、好ましくは９９重量％以上、より好ましくは９９．５重量％以上、好ましくは９９．９９重量％以下、より好ましくは９９．９重量％以下である。上記銀の含有量が上記下限以上であると、可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率を効果的に高めることができる。上記銀の含有量が上記上限以下であると、可視光領域中の短波長域での反射率の低下を抑えることができる。

上記第１の光反射層の厚みは、好ましくは１５ｎｍ以上、より好ましくは３０ｎｍ以上、更に好ましくは４５ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下、更に好ましくは１００ｎｍ以下である。上記第１の光反射層の厚みが上記下限以上であると、可視光領域中の短波長域での反射率をより一層効果的に高めることができる。上記第１の光反射層の厚みが上記上限以下であると、可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率の低下を抑えることができる。

上記第２の光反射層の厚みは、好ましくは１５ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上、更に好ましくは３０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは４５ｎｍ以下、更に好ましくは４０ｎｍ以下である。上記第２の光反射層の厚みが上記下限以上であると、可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率をより一層効果的に高めることができる。上記第２の光反射層の厚みが上記上限以下であると、光が効果的に上記第１の光反射層に到達することができるので、可視光領域中の短波長域での反射率の低下を抑えることができる。

可視光領域中の短波長域での反射率をより一層効果的に高める観点からは、上記第１の光反射層の波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける反射率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、更に好ましくは９０％以上である。

可視光領域中の短波長域での反射率の低下を抑える観点からは、上記第２の光反射層の波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける反射率は、好ましくは２５％以上、より好ましくは４０％以上、更に好ましくは６０％以上である。

可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率の低下を抑える観点からは、上記第１の光反射層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、更に好ましくは９０％以上である。

可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率をより一層効果的に高める観点からは、上記第２の光反射層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率は、好ましくは４５％以上、より好ましくは７０％以上、更に好ましくは８５％以上である。

ここで、上記光反射材において、上記基材側の表面を第１の表面とし、上記第２の光反射層側の表面を第２の表面とする。上記第１の表面と上記第２の表面とは対向している。上記第１の表面は上記光反射材の一方の表面であり、上記第２の表面は上記光反射材の他方の表面である。

可視光領域中の短波長域での反射率をより一層効果的に高める観点からは、上記光反射材の上記第２の表面の波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける反射率は、好ましくは８３．５％以上、より好ましくは８４％以上、更に好ましくは８６％以上、特に好ましくは８８％以上である。

可視光領域中の中波長域〜長波長域での反射率をより一層効果的に高める観点からは、上記光反射材の上記第２の表面の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９２％以上、更に好ましくは９４％以上である。

上記波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける反射率、及び波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率は、分光光度計（例えば日立ハイテク社製「Ｕ−４１００」）を用いて測定することができる。

上記波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける反射率、及び波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率は、上記光反射材の上記第１の光反射層又は上記第２の光反射層と同等の厚みを有する第１の光反射層又は上記第２の光反射層をそれぞれ作製して、測定されてもよい。

上記光反射材の上記第２の表面の算術平均高さＳａは、好ましくは０．１ｎｍ以上、より好ましくは１ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。上記算術平均高さＳａが上記下限以上及び上記上限以下であると、可視光領域における短波長域の反射率をより一層効果的に高めることができる。

上記算術平均高さＳａは、三次元表面粗計（例えば菱化システム社製「ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０」）を用いて測定することができる。上記算術平均高さＳａは、ＩＳＯ２５１７８に準拠して測定される。

上記第１の光反射層及び上記第２の光反射層のそれぞれの形成方法としては、スパッタリング（反応性スパッタリング法、ＲＦスパッタリング法）、及び蒸着法（プラズマ蒸着法等、真空蒸着法（ＥＢ蒸着法、イオンプレーティング法、ＩＡＤ法））等が挙げられる。上記光反射材の上記第２の表面の算術平均高さを良好に上記の好ましい範囲とする観点からは、上記第１の光反射層及び上記第２の光反射層はそれぞれ、スパッタリングにより形成されていることが好ましく、スパッタリング膜であることが好ましい。スパッタリング法では、光反射層を適度に薄く形成することができ、厚みが薄くても、均一な光反射層を形成することができる。

（低屈折率層及び高屈折率層）
本発明に係る光反射材は、上記第２の光反射層の上記第１の光反射層側とは反対の表面上に配置された低屈折率層と、上記低屈折率層の上記第２の光反射層側とは反対の表面上に配置された高屈折率層とを備えることが好ましい。上記低屈折率層と上記高屈折率層とを備えることにより、光の干渉を利用して反射率を高めることができる。

上記低屈折率層は、上記高屈折率層よりも低い屈折率を有する。上記高屈折率層は、上記低屈折率層よりも高い屈折率を有する。

上記低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３以上、より好ましくは１．３５以上、好ましくは１．６以下、より好ましくは１．５５以下である。上記低屈折率層の屈折率が上記下限以上及び上記上限以下であると、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差を広げることができるので、より光の干渉の効果が得られ、反射率を高めることができる。

上記高屈折率層の屈折率は、好ましくは２．０以上、より好ましくは２．１以上、好ましくは２．４以下、より好ましくは２．３以下である。上記高屈折率層の屈折率が上記下限以上及び上記上限以下であると、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を広げることができるので、より光の干渉の効果が得られ、反射率を高めることができる。

上記高屈折率層の屈折率と上記低屈折率層の屈折率との差の絶対値は、好ましくは０．５以上、より好ましくは０．６以上、好ましくは１．２以下、より好ましくは１．０以下である。上記差の絶対値が上記下限以上及び上記上限以下であると、より光の干渉の効果が得られ、反射率を高めることができる。

上記低屈折率層及び上記高屈折率層の屈折率は、分光エリプソメーター（例えば日本セミラボ社製「ＳＥ−２０００」）を用いて分光エリプソメトリー法により測定することができる。

上記低屈折率層及び上記高屈折率層の材料としては、屈折率調整機能を有する限り特に限定されず、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、及びＭｇＦ_２などの無機材料；アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂及びシロキサンポリマーなどの有機材料；並びに、上記無機材料と上記有機材料との混合物が挙げられる。上記低屈折率層及び上記高屈折率層の材料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

可視光領域での反射率が高いことから、上記低屈折率層及び上記高屈折率層の材料は、ＴｉＯ_２、又はＳｉＯ_２であることが好ましい。

上記低屈折率層及び上記高屈折率層の厚みはそれぞれ、上記の好ましい屈折率の範囲を満足するように適宜調整されることが好ましい。

上記低屈折率層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは７０ｎｍ以上、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１２５ｎｍ以下である。上記低屈折率層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、可視光領域での反射率の低下を抑えることができる。

上記高屈折率層の厚みは、好ましくは３０ｎｍ以上、より好ましくは４５ｎｍ以上、好ましくは９５ｎｍ以下、より好ましくは８０ｎｍ以下である。上記高屈折率層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、可視光領域での反射率の低下を抑えることができる。

上記低屈折率層及び上記高屈折率層のそれぞれの形成方法としては、スパッタリング（反応性スパッタリング法、ＲＦスパッタリング法）、及び蒸着法（プラズマ蒸着法等、真空蒸着法（ＥＢ蒸着法、イオンプレーティング法、ＩＡＤ法））等が挙げられる。上記光反射材の上記第２の表面の算術平均高さを良好に上記の好ましい範囲とする観点からは、上記低屈折率層及び上記高屈折率層はそれぞれ、スパッタリングにより形成されていることが好ましく、スパッタリング膜であることが好ましい。スパッタリング法では、屈折率層を適度に薄く形成することができ、厚みが薄くても、均一な屈折率層を形成することができる。

（光反射材）
本発明に係る光反射材は、液晶ディスプレイの部材として好適に用いられる。本発明に係る光反射材は、液晶ディスプレイにおいて、光を反射するために好適に用いられる。本発明に係る光反射材は、液晶ディスプレイのバックライト装置において、光源から発せられた光を液晶パネルに到達させるための光反射材として好適に用いられる。近年、液晶ディスプレイのバックライトとして、青味を有する光が好まれている。本発明に係る光反射材を液晶ディスプレイの部材として用いると、青みを有するバックライトを得ることができる。

上記液晶ディスプレイとしては、携帯電話、スマートフォン、パソコン、及びテレビ等が挙げられる。

上記光源としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）等が挙げられる。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は以下の実施例に限定されない。

（実施例１）
第１の光反射層の形成：
基材として、ポリエチレンフィルム（東レ社製「ルミラーＴ６０」、厚み７５μｍ）を用いた。基材を真空装置内に設置し、５．０×１０^−４Ｐａ以下となるまで真空排気した。続いて、アルゴンガスを導入して、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、基材の表面上に、第１の光反射層としてＡｌ層（厚み１５ｎｍ）を形成して、基材と第１の光反射層との積層体を得た。

第２の光反射層の形成：
基材と第１の光反射層との積層体を真空装置内に設置し、５．０×１０^−４Ｐａ以下となるまで真空排気した。続いて、アルゴンガスを導入して、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、第１の光反射層の基材側とは反対の表面上に、第２の光反射層としてＡｇ層（厚み１５ｎｍ）を形成して、光反射材を得た。

（実施例２〜５）
第１の光反射層及び第２の光反射層の厚みを表２に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして光反射材を得た。

（実施例６）
実施例１と同様にして、基材と第１の光反射層と第２の光反射層との積層体を得た。

低屈折率層の形成：
基材と第１の光反射層と第２の光反射層との積層体を真空装置内に設置し、５．０×１０^−４Ｐａ以下となるまで真空排気した。続いて、アルゴンガスを導入して、ＭＦマグネトロンスパッタリング法により、第２の光反射層の第１の光反射層側とは反対の表面上に、低屈折率層としてＳｉＯ_２層（厚み４５ｎｍ、屈折率１．４８）を形成して、低屈折率層を備える積層体を得た。

高屈折率層の形成：
得られた低屈折率層を備える積層体を真空装置内に設置し、５．０×１０^−４Ｐａ以下となるまで真空排気した。続いて、アルゴンガスを導入して、ＭＦマグネトロンスパッタリング法により、低屈折率層の第２の光反射層側とは反対の表面上に、高屈折率層としてＴｉＯ_２層（厚み５５ｎｍ、屈折率２．２０）を形成して、光反射材を得た。

（実施例７〜１０）
第１の光反射層及び第２の光反射層の厚みを表２に示すように変更したこと以外は、実施例６と同様にして光反射材を得た。

（実施例１１）
基材をポリエチレンフィルム（東洋紡社製「コスモシャインＡ４１００」、厚み７５μｍ）に変更したこと以外は、実施例１０と同様にして光反射材を得た。

（実施例１２）
基材をポリエチレンフィルム（東洋紡社製「東洋紡エステルＥ５１００」、厚み７５μｍ）に変更したこと以外は、実施例１０と同様にして光反射材を得た。

（実施例１３）
第２の光反射層の材料をＡｇ−Ｐｄ合金（Ａｇ９８重量％，Ｐｄ２重量％）に変更したこと以外は、実施例２と同様にして光反射材を得た。

（実施例１４）
第１の光反射層の厚みを表３に示すように変更したこと以外は、実施例１３と同様にして光反射材を得た。

（実施例１５）
第２の光反射層の材料をＡｇ−Ｐｄ合金（Ａｇ９８重量％，Ｐｄ２重量％）に変更したこと以外は、実施例１０と同様にして光反射材を得た。

（実施例１６）
第２の光反射層の材料をＡＰＣ−ＴＲ（フルヤ金属社製、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金）に変更したこと以外は、実施例２と同様にして光反射材を得た。

（比較例１，２）
第１の光反射層を形成しなかったこと、単層の第２の光反射層の厚みを表４に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして光反射材を得た。

（比較例３）
第２の光反射層を形成せず、単層の第１の光反射層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして光反射材を得た。

（比較例４，５）
第１の光反射層を形成しなかったこと、単層の第２の光反射層の厚み（比較例５）を表４に示すように変更したこと以外は、実施例６と同様にして光反射材を得た。

（比較例６）
第２の光反射層を形成せず、単層の第１の光反射層を形成したこと以外は、実施例６と同様にして光反射材を得た。

（比較例７）
単層の第２の光反射層の材料をＡｇ−Ｐｄ合金（Ａｇ９８重量％，Ｐｄ２重量％）に変更したこと以外は、比較例２と同様にして光反射材を得た。

（比較例８）
単層の第２の光反射層の材料をＡＰＣ−ＴＲ（フルヤ金属社製、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金）に変更したこと以外は、比較例２と同様にして光反射材を得た。

（評価）
（１）反射率
上記光反射材の上記第２の表面（第２の光反射層側の表面、又は高屈折率層側の表面）の波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍおける反射率、及び波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける反射率を、分光光度計（日立ハイテク社製「Ｕ−４１００」）を用いて測定した。

反射率は以下の表１の判定基準に従って、Ａ〜Ｅの５段階で評価した。Ａ＞Ｂ＞Ｃ＞Ｄ＞Ｅの順で、反射率の結果に優れている。

（２）算術平均高さＳａ
上記光反射材の上記第２の表面（第２の光反射層側の表面、又は高屈折率層側の表面）の算術平均高さＳａを、三次元表面粗計（菱化システム社製「ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０」）を用いて、ＩＳＯ２５１７８に準拠して評価した。

光反射材の構成及び結果を下記の表２〜４に示す。

１…光反射材
２…基材
３…第１の光反射層
４…第２の光反射層
５…低屈折率層
６…高屈折率層

Claims

基材と、
該基材の一方の表面上に配置された第１の光反射層と、
該第１の光反射層の前記基材側とは反対の表面上に配置された第２の光反射層とを備え、
前記第１の光反射層が、アルミニウムを含み、
前記第２の光反射層が、銀を含む、光反射材。
前記第１の光反射層の厚みが１５ｎｍ以上である、請求項１に記載の光反射材。
前記第２の光反射層の厚みが１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の光反射材。
前記第２の光反射層の前記第１の光反射層側とは反対の表面上に配置された低屈折率層と、
該低屈折率層の前記第２の光反射層側とは反対の表面上に配置された高屈折率層とをさらに備え、
前記低屈折率層は、前記高屈折率層よりも低い屈折率を有し、
前記高屈折率層は、前記低屈折率層よりも高い屈折率を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光反射材。
前記低屈折率層の屈折率が１．３以上１．６以下であり、
前記高屈折率層の屈折率が２．０以上２．４以下である、請求項４に記載の光反射材。
液晶ディスプレイにおいて、光を反射するために用いられる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光反射材。