JP2001523835A - 特に反射器用の複合材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、帯材状金属支持体（１）と、中間層と、この中間層（２）の上部に付けられた光学多層組織（３）とを備える、特に反射器用の、複合材に関する。前記光学多層組織（３）の上部には、低吸収性材料から成る非金属保護層（４）が貼付され、この保護層は５ないし２０ｎｍ、好ましくは５ないし１０ｎｍの厚み（Ｄ₄）を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 記載 本発明は、帯材状の金属支持体と、中間層と、この中間層に付けられた多層光
学組織とを備える、特に反射器用の、複合材に関する。

【０００２】 この種の複合材の反射特性を特徴付けるために、全反射のスペクトル係数と拡
散反射のスペクトル係数が測定される（ＤＩＮ５０３６）。反射器の光学特性に
は様々な要求が課せられる。多くの場合、その目的は、高い全反射率、即ち反射
損失の低い複合材を得ることにある。更に、ミラー性、即ち反射器表面に於ける
低いレベルの光拡散、が必要な場合には、そのような複合材を生産するためには
、非常に高レベルの生産技術が必要とされる。場合によっては、より高いレベル
の拡散反射も望まれ、或る種の状況下では全反射率に関する吸収作用すら望まれ
る。いくつかの特殊な用途に於いては、反射されるべき電磁放射波長が、ＵＶ又
はＩＲ域にあることがある。

【０００３】 高い全反射率と低い拡散成分を備える反射器用のベース材は、一般に、最低純
度９９．８％の圧延アルミニウムであるが、粗アルミニウムは繊細な表面を有す
るため、機械的及び化学的作用に対して保護し、それによってその使用適合性を
維持するべく、これに中間層を付けなければならない。このような保護中間層は
、陽極処理と総称されるウェット化学処理によって形成され、これは、電気艶だ
し加工と、陽極酸化とから構成される。純度と粗さ深さ（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ
ｄｅｐｔｈ）とを変えることによって、全反射のレベルを調節することが可能で
あり、他方、前記圧延構造体に対して制御された変化を与えることによって、拡
散反射レベルを調節することが可能である。可視光の波長域（３８０ないし７８
０ｎｍ）に於いて、この種の複合材の全反射率は、８３％から８７％である。低
レベルの拡散反射率、特に４％以下、を達成するためには、かなりの加工技術、
主として高度なローリング技術と、更に使用される原料の高レベル純度、とが必
要となり、その結果、コストが高くなる。これらの欠点にも拘わらず、このタイ
プの帯材状の半製品が、光産業用の標準製品として世界的に定着している。

【０００４】 更に、帯材状の低グレードのアルミニウム支持材を使用する場合、この支持材
にＡｌ₂Ｏ₃から成るエロキサル層を、約１ないし３ｎｍの厚みで塗布し、次に、
これを多層光学組織に塗布することが知られている。この厚みの小さなエロキサ
ル層によって、表面を十分にラフで硬質、かつ欠陥の無いものとすることが可能
となる。このエロキサル層上に高反射率の高純度アルミニウム層を付着させる。
この高純度アルミニウム層は、約５０ないし８０ｎｍの厚みで光学的に密であり
、可視光域に於いて９１％以上の全反射率を有する。この反射層に、反射率を高
める更に追加の層を付着塗布することが可能である。例えば定期刊行物“Ｍｅｔ
ａｌｌｏｂｅｒｆａｅｃｈｅ”５０（１９９６），１０に記載されている後続の
連続ストリップ塗装によってそのようなアルミ帯材の光学効率は全反射率約９５
％にまで改善させる。しかしながら、鏡特性を有する材料の拡散光反射率は、僅
かしか改善されない。光学活性表面は、反射器材料としての使用のために良好な
荷重負担能力と、十分な耐化学性を有する。しかし、スムージング層として作用
する前記中間エロキサル層は、比較的脆弱であり、極端な機械的変形加工処理の
場合にクラックが形成される虞がある。

【０００５】 上述した二つのタイプの公知の光学活性複合材の重要な欠点は、それらは支持
材としてアルミニウムに限定されることにある。これにより、その製造中に於い
て、ウェット艶だし加工等の陽極処理といった複雑で、時として環境的に有害な
加工工程が必要となるとともに、適当な場合には、真空コーティング、或いは、
高純度で、特殊圧延された、従って高価な出発材料を使用する必要性が生じる。

【０００６】 米国特許第５，５２７，５６２号には、前記中間層として、基材として作用す
るアルミニウム支持体に、その後の光学反射層組織による真空コーティングのた
めに、レベリング塗布を行うことが記載されている。この塗布層は、前処理され
たアルミニウムに適切に塗布される有機シリコンゾルである。この特殊なゾルは
、前記アルミニウム帯材表面の良好なレベリングと、Ａｌ，ＳｉＯ₂，ＴｉＯ₂の
スパッタリングによる真空コーティング後に於ける高い全反射率とを得るための
ものである。この構成の欠点は、前記ゾル層用の製剤が非常で特殊であることに
よって、高度な加工処理技術が必要とされることにある。

【０００７】 更に、湾曲したリジッドな反射器体（例えばヘッドライト）に、レベリングコ
ーティング層を備えさせ、これに、次に、アルミニウムの単層の反射性塗布層を
真空塗布し、これに更に保護層を設けることも知られている。この構成の欠点は
、全反射率がアルミニウム層のそれ、即ち約９０％を超えず、それによって得ら
れる表面の機械的強度が不十分であることにある。特にその表面は、成形作業に
よって課せられる負荷に耐えるにはあまりにも不安定で、標準的な工業条件下で
はそれ以上加工することは不可能である。

【０００８】 本発明は、導入部に記載されたタイプの、特に反射器用の、複合材であって、
所望の全反射率、特に９５％以上の全反射率と、所望のレベルの拡散反射率、特
に４％以下の値（ＤＩＮ５０３６に依る）の拡散反射率、をより単純で従って低
コストに達成することが可能で、機械強度及び耐化学性が高い複合材を提供する
という課題に基づくものである。前記複合材は、アルミニウムから成る支持材に
限定されるべきではなく、高度に変形可能なものであることが必要である。

【０００９】 本発明に依れば、これは、低吸収性材から成り、５ないし２０ｎｍ、好ましく
は５ないし１０ｎｍの厚みを有する非金属保護層が前記多層光学組織に付けられ
るという事実によって達成される。

【００１０】 前記保護層は、好ましくは、スパッタリング層、特に反応スパッタリングによ
って形成される層、ＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ層、或いは、蒸着、特に電子ボンバー
ド又は熱源による蒸着、によって形成される層、とすることができる。この保護
層は、ＳｉＯ₂等の屈折率の低い材料から主に構成することができる。

【００１１】 本発明によって、複合反射器材の製造に関して新たな技術的及び経済的可能性
が開かれる。特に必要性に応じて、複合材の強度を低下させることなく、エロキ
サル層、特に前記支持材の粗さに適合された厚み、特徴的に前記中間層に対して
約２ないし２０μｍの範囲とすることができる厚み、のコーティング層を塗布す
ることが可能である。このコーティング層は、単数又は複数種のモノマーをベー
スにして作られる重縮合体、或いは、特に自由基重合によって作られるポリアダ
クツ（ｐｏｌｙａｄｄｕｃｔ）又はポリマーとすることができる。前記コーティ
ング材混合物の製造の前記ベース材の如何に拘わらず、前記混合物および／又は
前記塗布プロセスおよび／又はキュアリングパラメータを適切に選択することに
よって、前記支持体表面を軽く、又は、可能な限り完全にレベリングして、最小
粗さ深さ、又は、所望の凹凸又はラフ構造を有する平坦面を形成することが可能
である。このように、反射率に対するその影響に関して、前記コーティング材は
、公知のアルミニウム帯材の圧延表面と同じ重要性を有する。

【００１２】 この場合、前記保護層が主要な役割を演じる。光物理学の分野に於ける現在の
科学的知識に依れば、例えば金属反射層とその上に配置される二つの介在層を有
する、多層光学組織に塗布される各追加層は、その層組織の光学特性に対してか
なり悪影響を与えるものとされている。しかし意外なことに、本発明に依れば、
この一般的に認識された科学的知識に反して、荷重負担能力値（ＤＩＮ５８１６
５，パート５）を大幅に増加させるのみならず、反射率を約１％ポイント増加さ
せることも可能であることが判った。

【００１３】 本発明の更に別の重要な側面は、単純な工業的に圧延されたアルミニウムから
構成可能な安価な金属支持体を使用することが可能であることにある。しかしな
がら、本発明に依れば、マグネシウム、銅、チタン、モリブデン、タンタル、ス
テンレス鋼等のスチール、或いは、真鍮等のこれらの物質を含有する合金等のそ
の他の金属支持体材料も使用することが可能であり、これによって一方では、複
合材の機械的特性を改善してより高い機械強度値を達成することが可能になると
ともに、他方では、アルミニウムよりも安価な材料を使用することも可能となる
。本発明に依る前記複合材の表面構造は、主に前記中間層によって決まり、この
中間層の厚みは、支持材料の粗さに適合させることが可能である為、これらの材
料の表面粗さはもはや重要ではなくなる。

【００１４】 好適には、本発明の複合材を製造するプロセスの全体を、連続的プロセスとし
て行うことができ、前記多層光学組織と前記保護層とは連続真空ストリップ塗装
加工処理を使用して前記中間層に塗布することができ、これに対して前記中間層
に関しては、コイル塗装加工処理を使用して塗布され、乾燥、構造化することが
可能である。これらの組成物は、具体的には有機又は無機溶剤によってプリセッ
ト可能な靱性を備え、約２５０℃以下の温度でキュアリングされ、アクリル樹脂
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、又はポリエチレ
ン樹脂等をベースとするストービングエナメル塗料である。前記キュアリングは
、主として、前記モノマー中に存在する二重結合の活性化に依る架橋化反応によ
って行われる。このように形成されたエナメル層は、高い耐引っかき性と、伸展
性、及び腐食に対する非感受性とによって際立っている。

【００１５】 前記構造形成層用に使用されるコーティング材料は、主に、０．４ｍｍの材料
厚の支持体が、直径２ｍｍのマンドレルの周りに巻き付けられ、それに予め粘着
され、同じく前記マンドレルの周りに巻き付けられた３Ｍ社製造のＳｃｏｔｃｈ
６７０ ＣＦＭタイプの粘着帯材が引き剥がされた時に、前記中間層の層間剥離
が起こらないような、前記支持材に対する屈折粘着性を備えるものでなければな
らない。

【００１６】 更に、前記中間層の塗布後に行われる真空コーティングに関して、１００℃以
上のガラス転移温度と、１・１０^-4ｍｂａｒ １ｓ^-1ｍ^-2以下のガス放出率を有
するコーティング材を使用することが有利である。

【００１７】 本発明のその他の有利な実施例は、サブクレームと以下の詳細説明とに記載さ
れている。本発明は、添付の図面に図示されている複数の実施例を参照して更に
詳細に説明される。図中、 図１は、最初の三つの実施例の特徴である、本発明の複合材の略断面図を示し
、 図２は、第４の実施例の特徴である、本発明の複合材の略断面図を示している
。 これらの様々な図面を通じて、同じパーツには常に同じ参照番号が使用されて
いるので、一般的にそれらも各ケースに於いて一度だけ説明される。

【００１８】 全ての実施例に於いて、特に反射器用の、本発明に依る複合材は、帯材状で、
特に変形可能である金属製支持材１と、反射特性に関して決定的要因である表面
構造のより単純な調節のために適した中間層２と、前記中間層２に付けられた多
層光学組織３と、この多層光学組織３に付けられ、低吸収性材から成る非金属保
護層４と、を有する。コーティング材から構成される前記中間層２は、連続加工
処理によって塗布される。

【００１９】 前記帯材状支持材１は、マグネシウム、銅、チタン、モリブデン、タンタル、
ステンレス鋼等のスチール、或いは、真鍮等のこれらの物質を含有する合金から
構成することができる。

【００２０】 具体的には、前記各層は、この本発明の複合材が、１６００ｍｍ以下の幅と約
０．１ないし１．５ｍｍの厚みとを有するコイルとして形成されるように寸法構
成される。具体的には、前記支持材１は、好ましくは、約０．１ないし０．７ｍ
ｍの厚みＤ₁を有するものとすることができる。

【００２１】 第４実施例に図示されているように（図２）、クロメート処理、リン酸処理、
陽極処理、めっき等によって作られる接着促進境界層５を、前記支持材１に前記
中間層２の下方に付けることができる。又、クリーニング、特に脱脂の目的で、
前記コーティング材の塗布又は陽極酸化に先立って、前記支持材１を、ウェット
化学的および／又はプラズマ化学的手段によって前処理することも便宜的に可能
である。

【００２２】 前記支持材１に対して、コーティング材から成る中間層２が塗布される。この
中間層２のコーティング材は、単数又は複数種のモノマーをベースにして作られ
る重縮合体、或いは、特に自由基重合によって作られるポリアダクツ又はポリマ
ーとすることができる。前述したように、前記中間層２のコーティング材が真空
に適したもの、即ち１００℃以上のガラス転移温度と、１・１０^-4ｍｂａｒ １
ｓ^-1ｍ^-2以下のガス放出率を有するものとすれば特に有利である。

【００２３】 前記中間層２の連続塗布に関して、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール
樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、又はポリエチレン樹脂等をベースとし、コイ
ル塗装を使用して加工することが可能で、約２５０℃以下の温度でキュアリング
可能で、その粘度を適当な溶剤によって設定することが可能なコーティング材を
使用することが可能となる。

【００２４】 この場合、前記コーティング材は、下記の様々な方法によってキュアリングす
ることが可能である。即ち、 ランプ又はレーザおよび／又は電子ビームからのＵＶ放射を利用した多段階キ
ュアリング、 ランプ又はレーザ及び熱空気からのＵＶ放射を利用したキュアリング、 ランプ又はレーザ及びＩＲ放射からのＵＶ放射を利用したキュアリング、 ランプ又はレーザ及びレーザからのＩＲ放射と、熱空気との組み合わせを利用
したキュアリング。

【００２５】 前記中間層２の厚みＤ₂は、前記支持材１の粗さに適合させることができ、約 ２ないし２０μｍの範囲の値が特徴的である。

【００２６】 前記中間層２上には、前記多層光学組織３が配設され、これは本発明の全ての
実施例に於いて、連続真空ストリップ塗装加工処理を利用して前記中間層２に付
けられる。同様にすべての実施例に於いて、この多層光学組織３は、三つの層、
即ち誘電性層である二つの上層６，７と、前記中間層２に貼付される金属、特に
アルミニウムの層である下層８、とから構成される。この金属層は、好ましくは
、スパッタリング又は、具体的には電子ボンバード又は熱源による蒸着によって
形成することができる。

【００２７】 前記多層光学組織３の二つの上層６，７の材料は、化学的には、金属酸化物、
金属窒化物、金属炭化物、金属フッ化物又は金属硫化物から成るグループに属す
るものとすることができ、これら二つの上層６，７は、互いに異なる屈折率を有
するべきである。前記下層８と同様に、前記多層光学組織３の前記二つの上層６
，７も、スパッタリング層、特に反応スパッタリングによって形成される層、電
子ボンバード又は熱源に依る蒸着によって形成される層とすることができる。更
に、これらの層を形成するのにＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ貼付プロセスを利用するこ
とができる。この種の貼付プロセスは、低い、層−厚み許容誤差を達成可能であ
る点で際立っており、具体的には、これらの許容誤差は、約±５％の範囲内での
変動を超えることがない。

【００２８】 全ての実施例に於いて、前記多層光学組織に貼付される前記保護層４は、屈折
率の低い誘電性材、特にＳｉＯ₂から成る。この保護層４の厚みＤ₄は、５ないし
２０ｎｍ、好ましくは、５ないし１０ｎｍ、であり、これは、連続真空ストリッ
プ塗装プロセスによって前記多層光学組織３に貼付することができる。

【００２９】 図１から理解されるように、前記中間層２は、最初の三つの実施例に於いては
平面形状である。前記層表面の算術粗さ平均Ｒ_aは、この場合、約１ないし１０ ０ｎｍの範囲である。

【００３０】 第１実施例は、特にＤＩＮ５０３６に依る測定での全光反射率が少なくとも９
５％で、拡散光反射率は４％以下である、可視光用の反射器材に関する。前記多
層光学組織３の下層８は、アルミニウムから成り、その厚みＤ₈は、反射帯域の 中心波長に於けるこの層８の透過率が０．５％以下であるように設定されている
。この厚みＤ₈は、約６０ｎｍである。その上方の前記層７は、低い屈折率と約 ９０ｎｍの厚みＤ₇とを有するＳｉＯ₂層であり、他方、その上方に位置する前記
上層６も、同様に、高い屈折率を有して、ＴｉＯ₂から成り、約６０ｎｍの厚み Ｄ₆を有する。これら両層６，７は、低い吸収率を示す。これら二つの上層６， ７の各光学厚みＤ₆，Ｄ₇は、それらが前記所望の光反射帯域のスペクトル中心の
真空波長の約１／４に対応するように設定される。これにより、完成した層組織
３は事実上色的に中性のものになる。これら二つの層６，７は、材料技術的には
、具体的には、それらの屈折率の差が、可能な限り高くなるように選択される。
前記保護層４の厚みＤ₄は、約１０ｎｍである。

【００３１】 第２実施例は、特にＤＩＮ５０３６に依る測定での全反射率が少なくとも９５
％で、拡散反射率が１０％以下である、紫外線光用の反射器材に関する。この複
合材の第１実施例との違いは、前記多層光組織３の上層６に使用される材料にあ
る。この場合、ＴｉＯ₂の代りに、約４０ｎｍの最適層厚Ｄ₆を有するＺｒＯ₂， ＨｆＯ₂、或いは、約４５ｎｍの最適層厚Ｄ₆を有するＡｌ₂Ｏ₃を好適に使用する
ことが可能であり、ＺｒＯ₂の場合、その短波用途の限界は約２４０ｎｍであり 、ＨｆＯ₂の場合は約２００ｎｍ、そしてＡｌ₂Ｏ₃の場合は、約２００ｎｍであ る。この層の下方に位置する低屈折率の前記ＳｉＯ₂層は、好ましくは、約５０ ｎｍの厚みＤ₇を有し、これに対して、前記多層光組織３の下側側アルミニウム 層８は、約９０ｎｍの厚みＤ₈を有する。ＳｉＯ₂から成る前記保護層４の厚みＤ ₄ は約６ｎｍである。

【００３２】 本発明の第３実施例に依れば、本発明の複合材は、図１に図示されているよう
に、更に、ＤＩＮ５０３６に依る測定で高い吸収性が達成されるように構成され
た多層光組織３を備えたものとすることができる。前記コーティング材表面上の
、高い吸収率を有する前記下側金属層８と、更に、その上方に位置する反射低減
誘電層６，７とは、連続真空ストリップ塗装加工処理によって塗布することがで
きる。この場合、前記層６，７，８は、それらが高い総吸収性を示すように選択
することができる。前記最初の二つの実施例と第４実施例と同様に、前記複合材
の表面の、ＤＩＮ５８１９６に依る測定での荷重負担能力は、Ｈ５０−１よりも
良好である。

【００３３】 図２に図示されている本発明の第４実施例に於いて、前記中間層２は、凹凸又
はラフ表面を有する。前記層表面の算術粗さ平均Ｒ_aは、この場合、約０．１な いし５μｍの範囲である。この構造は、前記キュアリング加工処理、又は、適当
な場合には、追加エネルギの導入によって、前記コーティング材のキュアリング
中又はキュアリング後に行われる機械的処理によって直接的に形成することがで
きる。この場合、前記エネルギは、コーティング材をキュアリングするための前
述したオプション、例えば電子ビーム、熱空気および／又はＩＲ放射を利用した
、単一段階、多段階、あるいはオプションとしてこれらを組み合わせたキュアリ
ング法、等によって導入することができる。このように構成された本発明の複合
材は、ＤＩＮ５０３６に依る測定で、４ないし約９５％の範囲の拡散光反射率を
有する。

【００３４】 前記中間層２を形成するのにコーティング材又はエロキサル材を使用すること
が可能であることに依り、前記支持材１に対して高い耐腐食性が与えられ、かつ
、同時に、前記コーティング材によって、少なくともエロキサル層の表面特性に
対応する高い表面硬さと耐ひっかき性、とを達成することが可能となる。コーテ
ィング材から成る中間層２は、更に、フレキシビリティが高く、これにより、本
発明の複合材は、なんらクラックを生じることなく、特に微小クラックを生じる
ことなく、かなり機械的変形させることが可能である。このように、４つの全て
の実施例に於いて、使用されたコーティング材は、前記支持材１に対する屈曲粘
着性を示し、材料厚みが０．４ｍｍの支持材１を、直径２ｍｍのマンドレルの周
囲に湾曲させたマンドレル屈曲テストに於いて、そのマンドレルに予め接着させ
その周囲に同様に巻回させておいた３Ｍ社製のＳｃｏｔｃｈ６７０ＣＦＭタイプ
の粘着ストリップを剥ぎ取った時に、中間層２の層間剥離は発生しなかった。本
発明のコーティングは、洗浄可能であり、照明技術に於けるその後の加工、特に
行う必要がある成形プロセス中、に課せられる応力に問題無く耐えることができ
る。

【００３５】 本発明は、例示した実施例に限定されるものではなく、本発明のコンテキスト
に於いて同様な作用を有する全ての手段及び方法を含むものである。例えば本発
明の前記保護層４は、必ずしもＳｉＯ₂から構成する必要はなく、前記多層光組 織３の二つ上層６，７にも使用可能な材料と同じ化学物質グループも他の適当な
材料である。更に、特に本発明の前記中間層２は、必ずしも透明なものでなくて
もよく反射光のスペクトル特性はこの中間層とは無関係である為、例えば着色す
ることも可能であることが指摘される。市販されている標準的な工業用コーティ
ング材料を使用することができる。本発明の複合材の更に別の利点は、そのエッ
ジ部が腐食に対して保護されていることにある。

【００３６】 又、本発明は、クレーム１に記載された特徴構成の組み合わせに限定されるも
のではなく、全体として開示された実質的にすべての個々の特徴構成のその他い
なかる所望の組み合わせとしても構成することが可能である。これは、原則とし
て、クレーム１の実質的にすべての具体的特徴構成を省略したり、又は、本出願
中の他の箇所で開示された少なくとも一つの特徴構成によって置換することが可
能であるということを意味している。この範囲に於いて、クレーム１は、単に本
発明を構成する最初の試みに過ぎないものとして理解されるべきである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 最初の三つの実施例の特徴である、本発明の複合材の略断面図

【図２】 第４の実施例の特徴である、本発明の複合材の略断面図

【符号の説明】

１ 支持材 ２ 中間層 ３ 多層光組織 ４ 保護層 ５ 境界層 ６ ３の上層 ７ ３の中間層 ８ ３の下層 Ｄ₁ １の厚み Ｄ₂ ２の厚み Ｄ₃ ３の厚み Ｄ₄ ４の厚み Ｄ₅ ５の厚み Ｄ₆ ６の厚み Ｄ₇ ７の厚み Ｄ₈ ８の厚み Ｒ_a 算術粗さ平均

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ， ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，Ｌ Ｖ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ， ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，Ｕ Ｓ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ゲンツ，クラウス ドイツ連邦共和国 デー‐42389 ヴッパ タール ルドルフ‐ホンベルク‐ヴェーク ５ Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA08 DA10 DA14 DA15 DA18 DC01 DC02 DC03 DC04 2K009 AA06 BB06 CC02 CC03 CC06 CC14 CC24 CC33 DD03 DD04 DD12

Claims (28)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 帯材状の金属支持材（１）と、中間層と、前記中間層（２）
   に貼付された多層光学組織（３）とを備える、特に反射器用の複合材であって、
   低吸収性材から成り、５ないし２０ｎｍ、好ましくは５ないし１０ｎｍの厚み（
   Ｄ₄）を有する、非金属保護層（４）が前記多層光学組織（３）に貼付されてい ることを特徴とする複合材。
2. 【請求項２】 前記中間層（２）はエロキサルから成る請求項１の複合材。
3. 【請求項３】 前記中間層（２）の厚み（Ｄ₂）は、約２ないし２０μｍの 範囲であり、前記中間層は、単数又は複数種のモノマーをベースにして作られる
   重縮合体、或いは、特に自由基重合によって作られるポリアダクツ又はポリマー
   から成るコーティング材である請求項１の複合材。
4. 【請求項４】 前記コーティング材は、コイル塗装法を使用して加工可能で
   あり、詳しくは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂
   、ユリア樹脂、又はポリエチレン樹脂等をベースとし、プリセット可能な靱性を
   備え、約２５０℃以下の温度でキュアリング可能な、ストービングエナメル塗料
   である請求項３の複合材。
5. 【請求項５】 前記コーティング材は、材料厚みが０．４ｍｍの前記支持材
   （１）を、直径２ｍｍのマンドレルの周囲に湾曲させたマンドレル屈曲テストに
   於いて、そのマンドレルに予め接着させその周囲に同様に巻回させておいた３Ｍ
   社製のＳｃｏｔｃｈ６７０ＣＦＭタイプの粘着ストリップを剥ぎ取った時に、前
   記中間層（２）の層間剥離が発生しないような、前記支持材（１）に対する屈曲
   粘着性を有する請求項３又は４の複合材。
6. 【請求項６】 前記コーティング材は、真空に適したもの、即ち１００℃以
   上のガラス転移温度と、１０^-4ｍｂａｒ １ｓ^-1ｍ^-2以下のガス放出率を有する
   請求項３から５の何れかの複合材。
7. 【請求項７】 前記支持材（１）は、マグネシウム、銅、チタン、モリブデ
   ン、タンタル、ステンレス鋼等のスチール、或いは、真鍮等のこれらの物質を含
   有する合金から成る請求項１から６の何れかの複合材。
8. 【請求項８】 クロメート処理、リン酸処理、陽極処理、めっき等によって
   作られる境界層（５）が、前記支持材（１）に前記中間層（２）の下方に貼付さ
   れている請求項１から７の何れかの複合材。
9. 【請求項９】 １６００ｍｍ以下の幅と約０．１ないし１．５ｍｍの厚みと
   を有するコイルとして形成されている請求項１から８の何れかの複合材。
10. 【請求項１０】 前記多層光学組織（３）は、三つの層（６，７，８）、即
    ち、誘電性層である二つの上層（６，７）と、前記中間層（２）に予め貼付され
    る金属、特にアルミニウムの、層である下層（８）とから構成されている請求項
    １から９の何れかの複合材。
11. 【請求項１１】 前記多層光学組織（３）の前記金属層は、スパッタリング
    層、或いは、蒸着、特に電子ボンバード又は熱源に依る蒸着、によって形成され
    た層である請求項１０の複合材。
12. 【請求項１２】 前記多層光学組織（３）の前記下層（８）の厚み（Ｄ₈） は、入射スペクトル域の中心波長に於けるその透過率が０．５％以下となるよう
    に設定されている請求項１０又は１１の複合材。
13. 【請求項１３】 前記多層光学組織（３）の前記二つの上層（６，７）の材
    料は、化学的には、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属フッ化物又は金
    属硫化物から成るグループに属し、これら二つの上層（６，７）は、互いに異な
    る屈折率を有する請求項１０から１２の何れかの複合材。
14. 【請求項１４】 前記多層光学組織（３）の前記上層（６）は、ＺｒＯ₂， ＨｆＯ₂、或いは、Ａｌ₂Ｏ₃等の屈折率が高い材料から成り、その下の前記層（ ７）は、ＳｉＯ₂等の屈折率の低い材料から成る請求項１０から１３の何れかの 複合材。
15. 【請求項１５】 前記多層光学組織（３）の前記二つの上層（６，７）は、
    反応スパッタリングによって形成される層、ＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ層、或いは、
    蒸着、特に電子ボンバード又は熱源に依る蒸着、によって形成される層である請
    求項１０から１４の何れかの複合材。
16. 【請求項１６】 前記多層光学組織（３）の前記二つの上層（６，７）の各
    光学厚み（Ｄ₆，Ｄ₇）は、それらが真空中での入射スペクトル域の中心波長の約
    １／４に対応するように設定される請求項１０から１５の何れかの複合材。
17. 【請求項１７】 前記多層光学組織（３）の前記二つの上層（６，７）は、
    低い吸収率を有する請求項１０から１６の何れかの複合材。
18. 【請求項１８】 前記中間層（２）は、平面状、即ち約１ないし１００ｎｍ
    の範囲の算術粗さ平均（Ｒ_a）を有する請求項１から１７の何れかの複合材。
19. 【請求項１９】 ＤＩＮ５０３６に依る測定の拡散反射率は、４％以下であ
    る請求項１８の複合材。
20. 【請求項２０】 前記中間層（２）は、凹凸および／又はラフ表面、即ち約
    ０．１ないし５μｍの範囲の算術粗さ平均（Ｒ_a）を有する請求項１から１７の 何れかの複合材。
21. 【請求項２１】 前記中間層（２）の前記凹凸および／又はラフ表面は、前
    記コーティング材のキュアリング作業中に形成される請求項２０の複合材。
22. 【請求項２２】 前記中間層（２）の前記凹凸又はラフ表面は、前記コーテ
    ィング材のキュアリング中又はキュアリング後に、適当な場合には、追加エネル
    ギの導入によって、行われる機械的処理によって形成される請求項２０又は２１
    の複合材。
23. 【請求項２３】 ＤＩＮ５０３６に依る測定の拡散光反射率は、４ないし約
    ９５％の範囲である請求項２０ないし２２の複合材。
24. 【請求項２４】 前記保護層（４）は、ＳｉＯ₂等の屈折率の低い材料から 成る請求項１から２３の何れかの複合材。
25. 【請求項２５】 前記保護層（４）は、反応スパッタリングによって形成さ
    れる層、ＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ層、或いは、蒸着、特に電子ボンバード又は熱源
    に依る蒸着、によって形成される層である請求項１から２４の何れかの複合材。
26. 【請求項２６】 ＤＩＮ５０３６に依る測定の全光反射率は、少なくとも９
    ５％である請求項１から２５の何れかの複合材。
27. 【請求項２７】 前記表面のＤＩＮ５８１９６測定での荷重負担能力は、Ｈ
    ５０−１よりも良好である請求項１から２６の何れかの複合材。
28. 【請求項２８】 その製造が連続加工処理によって行われる請求項１から２
    ７のいずかれの複合材。