JP2015216319A - セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、セラミック電子部品の製造方法であって、顔料体積濃度が60%以上95%以下の誘電体層用インクをインクジェット方式により吐出して誘電体層を形成する工程と、顔料体積濃度が70%以上95%以下の金属顔料インクをインクジェット方式により吐出して導体層を形成する工程と、誘電体層を形成する工程と導体層を形成する工程とを任意に組み合わせることで、導体回路を有する成形体を形成する工程と、形成された成形体の有機成分を除去する脱脂工程と、誘電体層および導体層を焼結させる焼成工程とを有する、セラミック電子部品の製造方法である。
【選択図】図1
Description
また、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法は、セラミック電子部品の製造方法において、成形体が、1つの個片、または複数の個片を同時に成形することが好ましい。
さらに、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法は、誘電体層用インクの固形分濃度が10vol%以上27vol%以下であることが好ましい。
また、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法は、金属顔料インクの固形分濃度が9vol%以上20.5vol%以下であることが好ましい。
さらに、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法は、誘電体層または導体層の成形厚が厚くなるのに応じて、誘電体層用インクまたは金属顔料インクの固形分濃度を高くすることが好ましい。
また、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法において、成形体が、1つの個片、または複数の個片を同時に成形する場合、従来の積層セラミックコンデンサの製造工程で行われるマザー積層体に対するカット工程を設けることなく積層セラミックコンデンサを作製することができる。
さらに、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法において、誘電体層用インクの固形分濃度が10vol%以上27vol%以下であると、誘電体層用インクや金属顔料インクを重ねて印刷したとき、互いの層が混ざることなく構造体を得ることができる。
また、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法において、金属顔料インクの固形分濃度が9vol%以上20.5vol%以下であると、誘電体層用インクや金属顔料インクを重ねて印刷したとき、互いの層が混ざることなく構造体を得ることができる。
さらに、この発明にかかるセラミック電子部品の製造方法において、誘電体層または導体層の成形厚が厚くなるのに応じて、誘電体層用インクまたは金属顔料インクの固形分濃度を高くすることで、焼成工程におけるクラックによる構造欠陥を抑制することができる。また、固形分濃度の高い誘電体層用インクまたは金属顔料インクによると厚い成形厚で印刷できるので、塗り重ねの回数を抑制することができることから、コストの増加を抑制することができる。
積層セラミックコンデンサ10は、直方体状に形成され、誘電体層12、外部電極14a,14bおよび内部電極16a,16bを含む。
また、インクの吐出距離、すなわち、各インクジェットヘッドの底面から印刷される対象となる印刷物の表面までの距離は、0.5mm以下が好ましい。インクの吐出距離が長い場合、印刷位置の精度が低下する問題を有する。
各インクジェットヘッドの温度は、25℃に設定されるのが好ましい。各インクジェットヘッドの温度が35℃を超えると、各インクジェットヘッドからのインクの吐出不良が目立つようになる。
ステージ32の温度は、60℃程度に設定されるのが好ましい。ステージの温度が80℃を超えると、各インクジェットヘッドからのインクの吐出不良が目立つようになる。
乾燥時間は3分程度が好ましい。一方、乾燥時間を1.5分に設定した場合、残留溶媒が生ずるため問題がある。
乾燥装置として、ランプ乾燥装置34を使用する場合、近赤外線ランプを使用することができる。このとき、ランプの高さは、印刷物の表面から50mmの距離に設定される。
また、乾燥装置として、送風乾燥装置36も使用することができる。
まず、図3(a)に示すように、基材38上に誘電体層用インク26aが印刷され、誘電体層12aが形成される。誘電体層用インクは誘電体層用インクジェットヘッド26から吐出され、これが乾燥される。続いて、図3(b)に示すように、さらにその上に誘電体層用インクが印刷され、下外層部用誘電体層12aが形成され、さらに乾燥され、図3(a)ないし図3(b)に記載される工程が任意の回数繰り返される。これにより、積層セラミックコンデンサ10の下外層部18が形成される。
図4(a)に示すように、下外層部18の表面における両端部に外部電極用インク30aが印刷され、外部電極14a,14bが形成される。外部電極用インクは外部電極用インクジェットヘッド30から吐出される。そして、図4(b)に示すように、下外層部18の表面であって、外部電極14aおよび外部電極14bの間に誘電体層用インクが印刷され、内層用誘電体層12bが形成され、乾燥される。
図6(a)に示すように、内部電極16bおよび内層用誘電体層12cの表面に誘電体層用インク26aが印刷され、上外層部用誘電体層12dが形成され、乾燥される。さらに、図6(b)に示すように、その上に誘電体層用インク26aが印刷され、上外層部用誘電体層12dが形成され、さらに乾燥され、これが任意の回数繰り返される。これにより、積層セラミックコンデンサ10の上外層部22が形成される。
加えて、高PVCのインクにより作製された積層セラミックコンデンサは強度が低く、乾燥収縮による応力で亀裂が入る場合があるところ、各インクの固形分濃度20vol%以上のインクを用いることで、乾燥収縮を抑え、乾燥時の亀裂のない積層セラミックコンデンサを得ることができる。なお、成形厚が薄い場合には、固形分濃度を20vol%未満と低くしても乾燥時の亀裂を抑制することができる。
実施例では、上述の製造方法により積層セラミックコンデンサ10を作製した。条件は、以下のとおりとした。
すなわち、誘電体層用インクはCaTi,ZrO3顔料を用いた。CaTi,ZrO3顔料の平均粒径は、400nmとした。また、誘電体層用インクのPVCは80%とし、固形分濃度は27.0vol%とした。
金属顔料インクである内部電極用インクあるいは外部電極用インクは、Ni顔料とCaZrO3顔料とを用いた。Ni顔料の平均粒径は200nmとし、CaZrO3顔料の平均粒径は、200nmとした。また金属顔料インクのPVCは80%とし、固形分濃度は22.0vol%とした。
積層セラミックコンデンサの外形寸法は、長さ(L)13mm、幅(W)17mm、高さ(T)4.0mmの試料(サンプル1)と長さ(L)8mm、幅(W)6mm、高さ(T)4.0mmの試料(サンプル2)とした。また、焼成後の内層用誘電体層の厚さは、25μmとし、焼成後の内部電極の厚さは、3.5μmとした。内部電極の積層枚数は、118枚とした。また、下外層部および上外層部の厚さは、それぞれ300μmとした。そして、サンプル1、サンプル2は、それぞれの試料を6個ずつ作製した。
比較例では、誘電体層用インクのPVCを60%程度とし、金属顔料インクのPVCを60%程度とした以外は、実施例と同じ条件とした。
さらに、積層セラミックコンデンサの試料に対して以下に記載される評価(寸法変化率による評価、乾燥体充填率による評価、TG−DTAによる評価、共材量の変化による評価、固形分濃度の変化による評価)が行われた。
誘電体層用インクおよび金属顔料インクのそれぞれのPVCを変化させた場合の脱脂前後における寸法変化について評価を行った。評価に用いた積層セラミックコンデンサは、誘電体層用インクおよび金属顔料インクのPVCを除き、実施例と同じ条件とした。また、評価に用いた積層セラミックコンデンサは、モデルサンプルとして、5mm×5mm×1mmの単板を作製して実施した。
誘電体層用インクの寸法変化の評価は、内層用誘電体層における寸法変化率を用いて評価し、金属顔料インクの寸法変化の評価は、内部電極(導体層)の寸法変化率を用いて評価した。それぞれの寸法変化率=√((脱脂後の長さL×脱脂後の幅W)/(脱脂前の長さL×脱脂前の幅W))により算出した。また、寸法変化率は、それぞれ5個の平均値とした。
また、誘電体層用インクおよび金属顔料インクのそれぞれのPVCにより作製された積層セラミックコンデンサの構造欠陥の有無について評価を行った。
誘電体層用インクおよび金属顔料インクのそれぞれのPVCを変化させた場合の乾燥体の充填率の変化について評価を行った。評価に用いた積層セラミックコンデンサは、誘電体層用インクおよび金属顔料インクのPVCを除き、実施例と同じ条件とした。また、評価に用いた積層セラミックコンデンサは、モデルサンプルとして、5mm×5mm×1mmの単板を作製して実施した。
乾燥体の充填率の変化は、画像により樹脂や空隙の部分の面積を求め、画像全体の面積に対する画像全体の面積から樹脂や空隙部分の面積を除いた面積の割合を乾燥体充填率として求めた。評価に用いた画像の条件としては、上記単板断面を、日立製FE−SEM S−4800を用いて、倍率10,000倍で観察した。
誘電体層用インクに含まれる樹脂と金属顔料インクに含まれる樹脂との違いによる評価をTG−DTAにより行った。評価に用いた積層セラミックコンデンサは、誘電体層用インクおよび金属顔料インクのPVCおよび含まれる樹脂を除き、実施例と同じ条件とした。また、評価に用いた積層セラミックコンデンサは、モデルサンプルとして、5mm×5mm×1mmの単板を作製して実施した。
誘電体層用インクに含まれる樹脂は、アクリル樹脂およびPVB樹脂を準備し、金属顔料インク(Ni顔料)に含まれる樹脂は、アクリル樹脂を準備した。なお、TG−DTAの測定条件は、以下のとおりである。装置の社名・型番:株式会社リガク製ThermoPlus TG8120、試料重量:150mg、雰囲気ガス:N2、雰囲気ガスの流量:50cc/min、昇温速度:3.0℃/min。
金属顔料インクに含まれる共材量を変化させた場合の積層セラミックコンデンサに生ずる構造欠陥の有無について評価を行った。評価に用いた積層セラミックコンデンサは、金属顔料インクに含まれる共材量を除き、実施例と同じ条件とした。また、評価に用いた積層セラミックコンデンサは、5mm×5mm×2mmの2層品を作製して実施した。
金属顔料インクに含まれるPVC80%のNi顔料とPVC80%のCaZrO3顔料(共材顔料)との体積比(CaZrO3顔料の体積/Ni顔料の体積)について、0(重量比0)、0.39(重量比0.2)、0.77(重量比0.4)の3パターンを準備した。
固形分濃度と誘電体層用インクにより成形される成形厚との関係を評価するため、誘電体層用インクにより成形される誘電体層の成形厚を1μmと25μmの2種類を作製した。このとき、誘電体層用インクにより1μmの成形厚を作製する場合は、誘電体層用インクに含まれるCaTi,ZrO3顔料の平均粒径を120nmとし、PVCが80%、固形分濃度10vol%の誘電体層用インクを使用した。また、誘電体層用インクにより25μmの成形厚を作製する場合は、実施例と同じ条件とした。
表1は、誘電体層用インクおよび金属顔料インク(内部電極用インクおよび外部電極用インク)のそれぞれのPVCに対する内層用誘電体層における寸法変化率および内部電極の寸法変化率の値が示され、図7は、その結果をグラフ化したものである。
従来の積層セラミックコンデンサの製造工程においては、誘電体層および内部電極(導体層)の寸法変化が起こる領域(たとえば、誘電体層用インクのPVCが50%程度、金属顔料インクのPVCが60%程度)の組み合わせで製造を行っており、この場合、焼成工程における焼成プロファイルの工夫により、構造欠陥を抑制していた。
表1に示されるように、PVCを高くすることで、寸法変化が起こりにくくなることが確認された。具体的には、表1あるいは図7に示されるように、誘電体層用インクはPVC60%以上95%以下の範囲で、寸法変化がほぼ起きなくなったことが確認された。また、金属顔料インクはPVC70%以上95%以下の範囲で、寸法変化がほぼ起きなくなった。
したがって、誘電体層用インクのPVCが60%以上95%以下とし、金属顔料インクのPVCが70%以上95%以下とすることで、寸法変化がほとんど生じず、脱脂工程における収縮のミスマッチによる構造欠陥に関して、脱脂プロファイルにおける工夫の必要がなくなることが示唆された。
乾燥体の充填率が高ければ、脱脂・焼成工程の全熱処理工程を通じた寸法変化が小さくなる。表3あるいは図8に示すように、誘電体層用インクのPVCおよび金属顔料インクのPVCが95%になるまでは、内層用誘電体層の乾燥体および内部電極の乾燥体のそれぞれの充填率は向上した。
一方、誘電体層用インクのPVCおよび金属顔料インクのPVC100%とした場合、それぞれの乾燥体の充填率が低下した。
以上の結果より、誘電体層用インクのPVCおよび金属顔料インクのPVCの上限は95%が好ましいことが示唆された。
図9は、誘電体層用インクと金属顔料インク(内部電極用インクおよび外部電極用インク)のTG−DTAによる計測結果を示す図である。
誘電体層用インクと金属顔料インクとの間で重量減少温度が異なる場合、収縮のミスマッチが生じ、構造欠陥が発生する原因となる。すなわち、誘電体層用インクと金属顔料インクとに含まれる樹脂の種類が異なる場合や樹脂の相溶性が悪い場合、誘電体層と導体層との間の密着が悪く、デラミネーションが生じる場合がある。
図9より、誘電体層用インクの樹脂をPVB樹脂からアクリル樹脂に変えることで、アクリル樹脂を用いた金属顔料インクと同じ温度領域に重量減少ピークを持つインクを作製することができた。したがって、誘電体層用インクと金属顔料インクとに含まれる樹脂の種類を同種とすることで、重量減少温度を合わせることができ、その結果、構造欠陥の発生を抑制することができることが確認された。
特に、コファイア(同時焼成)により形成される外部電極の成形用に金属顔料インクとしてNi顔料を用いる場合、一般的に、通常の内部電極を形成する場合よりも厚い膜を形成するため、クラックの発生が顕著になる。
金属顔料インクに含まれる共材量として、体積比(CaZrO3顔料(共材顔料)の体積/Ni顔料の体積)が0の場合、積層セラミックコンデンサが大きく湾曲した状態で破壊することが確認され、また、体積比が0.2の場合、誘電体層において、小さなクラックが発生することが確認された。
誘電体層用インクに含まれるCaTi,ZrO3顔料の平均粒径を120nmとし、PVCが80%、固形分濃度10vol%の誘電体層用インクを使用することで、1μmの成形厚の誘電体層を作製することができた。また、誘電体層用インクに含まれるCaTi,ZrO3顔料の平均粒径を400nmとし、PVCが80%、固形分濃度27.0vol%の誘電体層用インクを使用することで、25μmの成形厚の誘電体層を作製することができた。
10’ 脱脂・焼成前の積層セラミックコンデンサ
12 誘電体層
12a 下外層部用誘電体層
12b、12c 内層用誘電体層
12d 上外層部用誘電体層
14a、14b 外部電極
16a、16b 内部電極
18 下外層部
20 内層部
22 上外層部
24 印刷装置
26 誘電体層用インクジェットヘッド
26a 誘電体層用インク
28 内部電極用インクジェットヘッド
28a 内部電極用インク
30 外部電極用インクジェットヘッド
30a 外部電極用インク
32 ステージ
34 ランプ乾燥装置
36 送風乾燥装置
38 基材
40 ギャップ
Claims (5)
- セラミック電子部品の製造方法であって、
顔料体積濃度が60%以上95%以下の誘電体層用インクをインクジェット方式により吐出して誘電体層を形成する工程と、
顔料体積濃度が70%以上95%以下の金属顔料インクをインクジェット方式により吐出して導体層を形成する工程と、
前記誘電体層を形成する工程と前記導体層を形成する工程とを任意に組み合わせることで、導体回路を有する成形体を形成する工程と、
形成された前記成形体の有機成分を除去する脱脂工程と、
前記誘電体層および前記導体層を焼結させる焼成工程とを有する、セラミック電子部品の製造方法。 - 前記セラミック電子部品の製造方法において、
前記成形体が、1つの個片、または複数の個片を同時に成形することを特徴とする、請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法。 - 前記誘電体層用インクの固形分濃度が10vol%以上27vol%以下であることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のセラミック電子部品の製造方法。
- 前記金属顔料インクの固形分濃度が9vol%以上20.5vol%以下であることを特徴とする、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方法。
- 前記誘電体層または前記導体層の成形厚が厚くなるのに応じて、前記誘電体層用インクまたは前記金属顔料インクの固形分濃度を高くすることを特徴とする、請求項3または請求項4に記載のセラミック電子部品の製造方法。
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