JP2015211040A - パターン切削用マルチビーム・ツール - Google Patents
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Abstract
Description
−ビームが横断するそれぞれのビーム成形デバイスの最初の要素としての第1のフィールド境界デバイスであって、照光系の方に向けた第1の面を有する第1のフィールド境界デバイス、
−ビームが横断するそれぞれのビーム成形デバイスの最後の要素としての第2のフィールド境界デバイスであって、投影光学系の方に向けた第2の面を有する第2のフィールド境界デバイスを備え、
第1のフィールド境界デバイス及び/又は第2のフィールド境界デバイスは、それぞれのビーム成形デバイス内にフィールド・フリー空間区間を画定−即ち境界を画定し、このフィールド・フリー空間区間は、それぞれのビーム成形デバイスの偏光アレイ・デバイスを制御する供給ライン(即ちデータ経路ライン)を収容するように構成される。フィールド・フリー空間区間は、それぞれの第1のフィールド境界デバイス又は第2のフィールド境界デバイスと、ビーム成形デバイスの連続する構成要素デバイスとの間に形成した少なくとも1つのフィールド・フリー空間を含み、この連続する構成要素デバイスは、好ましくは上述したアパーチャ・アレイ・デバイス又は偏光アレイ・デバイス等、ビーム成形デバイスのプレート形状構成要素である。本明細書で「連続する構成要素デバイス」とは、ビーム成形デバイス内の関連するフィールド境界デバイスに隣接するが、ある距離で位置する構成要素デバイスを意味すると理解されたい。
9 粒子光学カラム
11 照光系
16 投影光学系
24 アパーチャ
100 帯電粒子マルチビーム処理装置
101 供給ライン
112 ビーム成形デバイス
120 遮蔽管
510 第1のフィールド境界デバイス
520 アパーチャ・アレイ・デバイス
530 偏光アレイ・デバイス
540 第2のフィールド境界デバイス
Claims (10)
- Z方向に沿って平行に配置しそれぞれの粒子ビームを対象物(7)に向けて誘導するように構成した複数の粒子光学カラム(9)を備える、複数の荷電粒子ビームで前記対象物(7)を露光するための帯電粒子マルチビーム処理装置(100)であって、前記各粒子光学カラムは:
−照光系(11)、
−ビーム成形デバイス(112、512、712、912)及び
−投影光学系(16)を備え、
前記照光系(11)は、それぞれのビームを生成し、前記ビームを、前記成形手段を照光する実質的にテレセントリックなビームにするように構成され、前記ビーム成形デバイス(112、512、712、912)は、前記照光ビームの形状を多数のサブビームから構成される所望のパターンにするように構成され、前記投影光学系(16)は、前記成形手段で画定した前記ビーム形状の画像を前記対象物(7)上に投影するように構成され、
前記各ビーム成形デバイス(112、512、712、912)は、
−アパーチャ・アレイを備えるアパーチャ・アレイ・デバイス(520、720、320)であって、前記アパーチャ・アレイは、多数のアパーチャ(24)を備え、前記多数のアパーチャ(24)のそれぞれは、前記対象物(7)に向かう名目上の経路を有するそれぞれのサブビームの形状を画定する、アパーチャ・アレイ・デバイス(520、720、320)、並びに
−選択した前記サブビームが前記対象物に到達しないように、選択した前記サブビームを前記それぞれの名目上の経路から偏光するように構成した偏光アレイ・デバイス(520、730、330)を含み、
前記各ビーム成形デバイス(112、512、712、912)は、
−前記ビームが横断する前記それぞれのビーム成形デバイスの最初の要素としての第1のフィールド境界デバイス(510、710、110)であって、前記照光系(11)の方に向けた第1の面(513、713)を有する第1のフィールド境界デバイス(510、710、110)、
−前記ビームが横断する前記それぞれのビーム成形デバイスの最後の要素としての第2のフィールド境界デバイス(540、740、140)であって、前記投影光学系(16)の方に向けた第2の面(514、714)を有する第2のフィールド境界デバイス(540、740、140)を備え、
前記第1のフィールド境界デバイス及び前記第2のフィールド境界デバイスのうち少なくとも1つは、前記それぞれのビーム成形デバイス(112、512、712)内にフィールド・フリー空間区間(h1,h2)の境界を画定し、前記フィールド・フリー空間区間は、前記それぞれのビーム成形デバイスの前記偏光アレイ・デバイスを制御する供給ライン(101、104)を収容するように構成される、帯電粒子マルチビーム処理装置(100)。 - 前記カラムの前記偏光アレイ・デバイスのための前記供給ライン(101、104)は、前記Z方向に対して多数の高さレベルで前記フィールド・フリー空間区間内に分配される、請求項1に記載の装置。
- 遮蔽管(120、129)を更に備える、請求項1又は2に記載の装置であって、前記各遮蔽管は、前記それぞれのビーム成形デバイス(512、712、912)内の前記それぞれのフィールド・フリー空間に位置し、全体が前記Z方向と同軸の円筒又は角柱形状を有し、前記それぞれのビーム成形デバイス(512、712、912)を横断する前記ビーム(50a、57、81)を完全に囲み、前記遮蔽管は、前記ビームを磁気的及び/又は電気的に遮蔽可能にするのに適した材料から作製される、装置。
- 前記第1のフィールド境界デバイス及び前記第2のフィールド境界デバイスのうち少なくとも1つは、前記それぞれのビーム成形デバイス(512、712)の他の構成要素に対して前記Z方向に沿ってある距離(h1、h2)で配置されて、前記それぞれのパターン画定デバイス内の電界に対してフィールド・フリー空間を実現する、請求項1から3のうちいずれか一項に記載の装置。
- 前記カラムのうち少なくとも1つのうちの前記第1のフィールド境界デバイス(510、610、110)は、前記それぞれのカラムの前記アパーチャ・アレイ・デバイス(520、620)とは別個のデバイスである、請求項1から4のうちいずれか一項に記載の装置。
- 前記カラムのうち少なくとも1つのうちの前記第1のフィールド境界デバイス(710)は、前記それぞれのカラムの前記アパーチャ・アレイ・デバイスである、請求項1から5のうちいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1のフィールド境界デバイス及び前記第2のフィールド境界デバイスは、全体がプレート形状の構成要素として実現され、前記Z方向に沿って互いに平行に、ある相互距離で配置される、請求項1から6のうちいずれか一項に記載の装置。
- 前記カラムの前記第1のフィールド境界デバイス(110)は、前記Z方向に対して均一な第1の高さ(T0)で配置され、
前記カラムの前記第2のフィールド境界デバイス(140)は、前記Z方向に対して均一な第2の高さ(T5)で配置され、
前記それぞれのビーム成形デバイス(912)の前記偏光アレイ・デバイスは、前記第1の高さと前記第2の高さとの間のいくつかの高さレベル(T1・・・T4)で配置され、前記各カラムに関して、前記それぞれの偏光アレイ・デバイスを含むブランキング・ユニット(200)は、前記それぞれのカラムに隣接するカラムのブランキング・ユニットの高さレベルとは異なる高さレベルで配置される、請求項1から7のうちいずれか一項に記載の装置。 - 前記第1のフィールド境界デバイス及び前記第2のフィールド境界デバイス(510、540;710、740)は、前記それぞれのカラムの前記アパーチャ・アレイ・デバイス(510、710)の前記アパーチャ(24)に対応するそれぞれの開口アレイ(511、541;711、741)を含み、前記第1の面及び前記第2の面は、前記それぞれの開口アレイ(511、541;711、741)を除いて平坦である、請求項1から8のうちいずれか一項に記載の装置。
- 請求項1から9のうちいずれか一項に記載の、対象物(7)を露光するための帯電粒子マルチビーム処理装置(100)に使用するビーム成形デバイス(112、512、712、912)であって、前記ビーム成形デバイス(112、512、712、912)は、荷電粒子の照光ビームによって照射され、前記照光ビームの形状を多数のサブビームから構成される所望のパターンにするように構成され、
前記各ビーム成形デバイス(112、512、712、912)は、
−アパーチャ・アレイを備えるアパーチャ・アレイ・デバイス(520、720、320)であって、前記アパーチャ・アレイは多数のアパーチャ(24)を備え、前記多数のアパーチャ(24)のそれぞれは、前記対象物(7)に向かう名目上の経路を有するそれぞれのサブビームの形状を画定する、アパーチャ・アレイ・デバイス(520、720、320)、並びに
−選択したサブビームが前記対象物に到達しないように、前記選択したサブビームを前記それぞれの名目上の経路から偏光するように構成した偏光アレイ・デバイス(520、730、330)を含み、
前記ビーム成形デバイス(112、512、712、912)は、
−前記ビームが横断する前記ビーム成形デバイスの最初の要素としての第1のフィールド境界デバイス(510、710、110)であって、前記照光系(11)の方に向けた第1の面(513、713)を有する第1のフィールド境界デバイス(510、710、110)、
−前記ビームが横断する前記ビーム成形デバイスの最後の要素としての第2のフィールド境界デバイス(540、740、140)であって、前記投影光学系(16)の方に向けた第2の面(514、714)を有する第2のフィールド境界デバイス(540、740、140)を備え、
前記第1のフィールド境界デバイス及び前記第2のフィールド境界デバイスのうち少なくとも1つは、前記ビーム成形デバイス(112、512、712)内に前記ビーム成形デバイス(112、512、712)内にフィールド・フリー空間区間(h1,h2)の境界を画定し、前記フィールド・フリー空間区間は、前記ビーム成形デバイスの前記偏光アレイ・デバイスを制御する供給ライン(101、104)を収容するように構成される、ビーム成形デバイス(112、512、712、912)。
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