JP2005129944A - 帯電粒子マルチビーム露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ターゲット41を露光する帯電粒子マルチビーム露光装置1が、ターゲット41に向かう並行ビーム経路に沿って伝播する帯電粒子の複数のビームを使用する。各粒子ビームのために、照明システム10、成形手段20および投射光学系30が設けられている。照明システム10およびまたは投射光学系30は一つを超える粒子ビームに共通のレンズ素子を有する粒子光学レンズからなる。パターン規定手段20が、それぞれの粒子ビーム内にある多数のビームレットを規定し、アパーチャを透過するビームレットの形状を規定する複数のアパーチャのみの通過を許容することによってターゲット41上に投射される形状を所望のパターンとし、さらにそれぞれの経路から選択されたビームレットの通過をスイッチオフさせるブランキング手段からなる。
【選択図】図1
Description
1. 帯電粒子ビーム源(または複数のビーム源、事情に応じて、特にカラム当たり一つの源の場合)の信頼性、
2. (自由露光範囲を横断する)ビームに要求される均一性、
3. ビームのアライメント、
4. ウェハの加熱および磁気擾乱を含む必要安定性、
5. パターン発生のための必要データ、
6. 必要解像度、
7. 画像歪の必要欠乏、
8. 汚染問題に関する必要信頼性、
9. より高い露光ドーズおよび低い外形寸法に関する所望される伸張性。
従来技術に対する本実施例の主要な改良は、例えば一方でパターン発生工程に大きい冗長を提供し、他方で異なるカラム間のアライメント問題を回避することである。上述の米国特許第6,768,125号に基づくマルチ―カラムおよびマルチビーム(カラム当たり)アプローチの新規な装置を開示する。さらに、全てのサブシステム内に発生する技術的なリスクを部分的に低減または妨げることも許容し、特に、電子源、縮小システム、熱問題、MEMSブランカー/IC、アライメント、歪、汚染問題、データ率、冗長性、ステージ/静電走査、処理量、オーバーレイ、Z―マージン(焦点の深さ)に関する。
簡略化の目的で、外部から個々のPDデバイスまでのパスは図示していない。光学手段、例えば、光電検出器と組み合わされたファイバー・オプチックス・アレイは高いデータ定格で伝送するのに使用することができる。この種の機器は先行技術、特に通信技術において周知である。説明しなればならないことは、マルチ―カラム・アレイ内部の光線は低いまたはゼロ電位差で、あるいは高い電位差で保持されたプレート間の自由空間に投射されれば、保持された共通プレート間に配置されたファイバーによって案内されることである。データの伝送は、カラムに平行な方向に沿って実行することができ、十分な空間がカラムの矩形構成内で利用可能である。
1) アライメント・マーク62の付いたターゲット・チャック61、各カラムにつき少なくとも一つのアライメント・マーク、
2) 電子テスト・パターン、
3) ベスト・マッチの位置を決定するためにアライメント・マーク上でテスト・パターンを走査する走査デバイス325、
4) 超高時間解像度を有する第二電子(SE)検出器。
T1=G/J + 2vs/G
ここに、vsは走査速度、Gはステージの加速度、およびJはステージのジャークである。総方向転換、すなわち、無駄露光時間は一つのサブフィールド×時刻T1によるストライプ数である。
カラム数の上限に対する納得のいく値は、ウェハ当たりのチップ数であり、換言すれば各チップは一つのカラムによって露光されるのが好ましい。さらに、アパーチャ・プレートの既述した最小サイズに関するカラムの最小直径があり、これも300mmウェハ上のカラム密度に対する上限を規定している。ステージ必要条件を緩和するために、同じ数のカラムでストライプ幅を増やすこともできる。処理量に関する別のボトルネックは、確かに推計学的クーロン相関作用であるが、概してパターン依存歪につながり、さらに付加的な不明瞭さに寄与することにつながる空間―電荷関連歪でもあり、リトグラフには許容されない。カラム当たりの許容できる電流は決定することができ、従って任意の処理量に対して対応する数のカラムを、この処理量必要条件で任意のノードのための解像度を達成するために並列に使用しなければならない。ウェハに対して100keVの電子エネルギーで150mm直径の最適カラムの典型的な電流は、約5から10μAである。空間電荷の大きい影響を回避するために、カラム当たり約3から5μAが使用される。
Claims (23)
- 帯電粒子の複数のビームでターゲット(41)を露光する帯電粒子マルチビーム露光装置(1)であって、前記粒子ビームがターゲット(41)に向かって平行ビーム経路に沿って伝播し、
前記粒子ビームの各々のために、照明システム(10)、成形手段(20)および投射光学系(30)が設けられており、照明システム(10)がビームを生成するとともにこれを実質的にテレセントリック・ビームに変形し、成形手段を照明するように適用され、成形手段(20)が照明ビームの形状を所望のパターンに形成するように適用され、また投射光学系(30)が成形手段内に規定されたビーム形状の画像をターゲット(40)上に投射するように適用され、
各粒子ビームの成形手段(20)がそれぞれの粒子ビーム内にある多数のビームレットを規定するパターン規定手段として実現され、前記手段がアパーチャを透過するビームレットの形状を規定する複数の前記アパーチャのみを通る照射ビームを通過させるように適用されており、前記手段がさらにビームレットのそれぞれの経路から選択されたビームレットの通過をスイッチオフするブランキング手段からなり、
照明システム(10)および(または)投射光学系(30)が一つを超える粒子ビームに対して共通のレンズ素子(L1,L2,L3,L4,L5)を有する粒子光学レンズからなる帯電粒子マルチビーム露光装置。 - 共通レンズ素子が、粒子ビームの各々のために設けられるとともに単独の電源に接続された個々のレンズ素子として実現される請求項1に記載の装置。
- 共通レンズ素子が、粒子ビームの各々を取り巻く共通の構造部材によって実現される請求項1または2に記載の装置。
- 照明システム(10)と投射光学系(30)の粒子―光学レンズが、一つを超える粒子ビームに対して共通のレンズ素子(L1,L2,L3,L4,L5)だけでなく、個々にそれぞれ一つの粒子ビームであり、個々の電源に接続されたレンズ素子(LB1,LB2,LB3,LB4,LB5)からなる請求項1から3のいずれか一つに記載の装置。
- 照明システム(10)と投射光学系(30)の粒子―光学レンズが、マルチ粒子ビームに対して共通の静電レンズ(L1,L2,L3,L4,L5)だけでなく、個々にそれぞれ一つの粒子ビームであり、共通の静電レンズ(L1,L2,L3,L4,L5)の個々の修正を導入する静電レンズ素子(LB1,LB2,LB3,LB4,LB5)からなる請求項1から4のいずれか一つに記載の装置。
- パターン規定手段(20)内のアパーチャが、同じ形状である請求項1から5のいずれか一つに記載の装置。
- パターン規定手段(20)内のアパーチャが、ターゲット(41)上に同じ形状の画像を生成する形状を有する請求項1から5のいずれか一つに記載の装置。
- 投射システムが、二つの連続するクロスオーバーを有する縮小投射光学部を実行する三つまたはそれ以上の合焦素子からなる請求項1から7のいずれか一つに記載の装置。
- 2ステージ縮小システムを実現する4レンズを有する投射レンズ系からなり、ビームの一部が第一と第二クロスオーバー間に配置された中間画像の位置でビーム調整とビーム分析のために使用される請求項1から8のいずれか一つに記載の装置。
- 露光工程のコース内に露呈されるべきターゲットの全域をカバーするビームに基づいて予め規定された走査動作によるマルチビーム下でターゲット(41)を移動するように適用されたターゲット・ステージ(40)からなる請求項1から9のいずれか一つに記載の装置。
- ターゲット・ステージ(40)が、ターゲットのサブフィールドの全域をカバーする各ビームにより走査動作を実行するように適用され、サブフィールドが露呈されるべき全域に完全に総計される請求項10に記載の装置。
- ターゲット・ステージ(40)が、ターゲットのサブフィールドの全域をカバーする各ビームにより走査動作を実行するように適用され、ビームのサブフィールドが露呈されるべきターゲットの全域の分かれた部分をカバーする請求項10または11に記載の装置。
- ターゲット・ステージ(40)が、単一パス走査ストライプ露光パターン(図5)内のターゲットのサブフィールド全域をカバーする各ビームにより走査動作を実行するように適用される請求項10から12のいずれか一つに記載の装置。
- 各粒子ビームに対して、アパーチャが配備されたパターン・フィールド(pf)を有するパターン規定手段が設けられ、前記パターン・フィールドがアパーチャのサイズ(w)の少なくとも500倍の長さ(L)を有する請求項1から13のいずれか一つに記載の装置。
- 各粒子ビームに対して、パターン規定手段が少なくとも20000アパーチャを備えており、その粒子ビームに対する透過度がスイッチオンとスイッチオフ状態間で電気的に制御可能である請求項1から14のいずれか一つに記載の装置。
- それぞれのビーム経路を取り巻く実質上回転対称(EFR,EM,EFN)の実質的に等価形状の少なくとも三つの電極シリーズとして実行された電極カラムを有する静電レンズ(ML)からなり、前記電極がビーム経路の中心を表わす光軸に沿って同心的に連続する順に配列されている請求項1から15のいずれか一つに記載の装置。
- 静電レンズの全電極の外径がレンズ内の前記粒子ビーム経路の最大半径の5倍より大きくない請求項16に記載の装置。
- 電極カラムの電極(EM)が環境条件で比透磁率が100より大きい軟磁気材料で少なくとも一部が作られている請求項16または17に記載の装置。
- 比透磁率が300より大きい請求項18に記載の装置。
- 電極カラムを取り巻くとともに電極カラムの少なくとも長さ全体に渡り光軸の方向に沿って延長している軟磁気材料で作られている磁気シールド管(MS,3)をさらに含む請求項16から19に記載の装置。
- 一つまたは複数の電極カラムの電極(EM)の外方部(OR)が次の電極と前の電極のそれぞれに向いて対面している対応する対応面(f1,f2)を有している請求項16から20のいずれか一つに記載の装置。
- 電極カラムの各電極(EM)が、次の電極と前の電極のそれぞれに向いて対面している対応する対応面(f1,f2)を備えたシリンダー形状を有する外方部材リング(OR)からなり、さらに光軸に向かう方向に円形(ed)を付けた内方部材リング(IR)を含む請求項16から20のいずれか一つに記載の装置。
- 内方部材リング(IR)が円形エッジ(cd)から外方に延長するとともに帯電粒子が電極カラムに進入する方向に向けて対面している(cv)を備えている請求項22の静電レンズ。
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