JP5104095B2 - 飛散粒子除去装置、飛散粒子の低減方法、光源装置、露光装置及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
この場合、前記飛散粒子除去装置は、前記EUV光を前記照明光学系に向けて導く光路に設けられることを特徴とする。
(1)ウェハを製造するウェハ製造工程(又はウェハを準備するウェハ準備工程)
(2)露光に使用するマスクを制作するマスク製造工程(又はマスクを準備するマスク準備工程)
(3)ウェハに必要な加工処理を行うウェハプロセッシング工程
(4)ウェハ上に形成されたチップを1個ずつ切り出し、動作可能にならしめるチップ組立工程
(5)チップを検査するチップ検査工程
なお、それぞれの工程はさらにいくつかのサブ工程からなっている。
(1)絶縁層となる誘電体薄膜や、配線部、あるいは電極部を形成する金属薄膜等を形成する薄膜形成工程(CVDやスパッタリングなどを用いる)
(2)この薄膜層やウェハ基板を酸化する酸化工程
(3)薄膜層やウェハ基板などを選択的に加工するためにマスク(レクチル)を用いてレジストのパターンを形成するリソグラフィー工程
(4)レジストパターンに従って薄膜層や基板を加工するエッチング工程
(例えばドライエッチング技術を用いる)
(5)イオン・不純物注入拡散工程
(6)レジスト薄利工程
(7)さらに加工されたウェハを検査する検査工程
なお、ウェハプロセッシング工程は必要な層数だけ繰り返し行い、設計通り動作する電子デバイスを製造する。
Claims (16)
- EUV光の光路内における飛散粒子を低減させる飛散粒子除去装置において、
前記光路内における荷電粒子の照射領域を拡大させるとともに、所定の立体角で前記荷電粒子を射出する射出部と、
照射された前記荷電粒子によって帯電した前記飛散粒子を前記光路内から回収する回収部と、を備え、
前記射出部及び前記回収部は、前記EUV光の進行方向に垂直な垂直方向とは異なり、かつ、前記進行方向に交差する方向に配置されることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項1記載の飛散粒子除去装置において、
前記光路内に射出される前記荷電粒子の照射領域を拡大させる第1の電子光学系を備えたことを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項2記載の飛散粒子除去装置において、
前記第1の電子光学系は、電磁レンズ又は静電レンズのいずれか一方を備えていることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項2又は3記載の飛散粒子除去装置において、
前記第1の電子光学系は、静電偏向器又は電磁偏向器のいずれか一方を備えていることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の飛散粒子除去装置において、
帯電した前記飛散粒子を偏向させる第2の電子光学系を備えていることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項5記載の飛散粒子除去装置において、
前記第2の電子光学系は、電磁レンズ又は静電レンズのいずれか一方を備えていることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項5又は6記載の飛散粒子除去装置において、
前記第2の電子光学系は、静電偏光器又は電磁偏光器のいずれか一方を備えていることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項5〜7のいずれか1項に記載の飛散粒子除去装置において、
前記回収部は、前記第2の電子光学系の近傍に配置されることを特徴とする飛散粒子除去装置。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の飛散粒子除去装置において、
前記回収部は、前記飛散粒子を前記EUV光の光路外へ回収する回収機構を有することを特徴とする飛散粒子除去装置。 - EUV光の光路内における飛散粒子を低減する方法において、
前記光路内における荷電粒子の照射領域を拡大させるとともに、前記EUV光の進行方向に垂直な垂直方向とは異なり、かつ前記進行方向に交差する方向から、所定の立体角で前記荷電粒子を射出することと、
前記交差する方向で、照射された前記荷電粒子によって帯電した前記飛散粒子を前記光路内から回収することと、
を備えることを特徴とする飛散粒子の低減方法。 - 請求項10記載の飛散粒子の低減方法において、
前記射出することは、前記光路内に射出される前記荷電粒子の照射領域を拡大させることを特徴とする飛散粒子の低減方法。 - 請求項10又は11記載の飛散粒子の低減方法において、
前記荷電粒子によって帯電した前記飛散粒子を偏向させることをさらに備えたことを特徴とする飛散粒子の低減方法。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の飛散粒子除去装置を備えるとともに、
ターゲット材料を供給する供給部と、
前記ターゲット材料からプラズマを生成し、当該プラズマから発生するEUV光を放出するプラズマ生成部と、
を備えたことを特徴とする光源装置。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の飛散粒子除去装置を備えるとともに、
ターゲット材料をプラズマ化し、生成されたプラズマからEUV光を放射させる光源部と、
前記光源部から放射されるEUV光を被照射面に照射する照明光学系と、
前記被照射面を介したEUV光を感光性基板に露光転写する投影光学系と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置において、
前記飛散粒子除去装置は、前記EUV光を前記照明光学系に向けて導く光路に設けられることを特徴とする露光装置。 - リソグラフィー工程を含む電子デバイスの製造方法であって、
前記リソグラフィー工程において、請求項14又は15記載の露光装置を用いる電子デバイスの製造方法。
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