JP2015197474A5 - - Google Patents

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光源装置10は、発光素子1,1Aと、回転軸J11を含むモータ11と、回転軸J11Aを含むモータ11Aと、励起光ELを発する光源部12と、レンズ13〜16と、ダイクロイックミラー17と、反射ミラー18とを有する。発光素子1は回転軸J11により回転可能に支持されており、発光素子1Aは回転軸J11Aにより回転可能に支持されている。光源部12は、第1のレーザ群12Aと第2のレーザ群12Bとを有する。第1および第2のレーザ群12A,12Bは、いずれも、励起光として青色レーザ光を発振する半導体レーザ素子121が複数配列されたものである。ここでは便宜上、第1のレーザ群12Aから発振される励起光をEL1とし、第2のレーザ群12Bから発振される励起光をEL2とする。
発光素子1は、第1のレーザ群12Aからレンズ13と、ダイクロイックミラー17と、レンズ14とを順に透過した励起光EL1が蛍光体層4(図3および図4では図示せず。)に入射されるように配置されている。発光素子1からの蛍光FL1はダイクロイックミラー17で反射されたのち、レンズ15を透過して外部、すなわち照明光学系20(後出)へ向かうようになっている。一方、発光素子1Aは、第2のレーザ群12Bから反射ミラー18を経由した励起光EL2が基材2を透過して蛍光体層4(図3および図4では図示せず。)に入射されるように配置されている。発光素子1Aからの蛍光FL2はダイクロイックミラー17を透過したのち、レンズ15を透過して外部、すなわち照明光学系20(後出)へ向かうようになっている。なお、光源装置10の動作時において、発光素子1,1Aは、それぞれ回転軸J11,J11Aを回転中心として回転するようになっている。発光素子1,1Aの直径は例えば50mm〜70mm程度であり、モータ11,11Aにより例えば4800rpm〜10800rpmの回転数で回転する。このように発光素子1,1Aを回転させるのは、励起光EL1,EL2の照射に伴う局所的な温度上昇を抑制し、構造安定性を維持すると共に変換効率の低下を防ぐためである。また、励起光EL1,EL2の照射に伴う蛍光体層4の発熱を冷却するため、冷却ファンを設けることが望ましい。
フライアイレンズ21(21A,21B)は、光源装置10のレンズ15からの白色光の照度分布の均質化を図るものである。偏光変換素子22は、入射光の偏光軸を所定方向に揃えるように機能するものである。例えば、P偏光以外の光をP偏光に変換する。レンズ23は、偏光変換素子22からの光をダイクロイックミラー24A,24Bへ向けて集光する。ダイクロイックミラー24A,24Bは、所定の波長域の光を選択的に反射し、それ以外の波長域の光を選択的に透過させるものである。例えばダイクロイックミラー24Aは、主に赤色光を反射ミラー25Aの方向へ反射させる。また、ダイクロイックミラー24Bは、主に青色光を反射ミラー25Bの方向へ反射させる。したがって、主に緑色光がダイクロイックミラー24A,24Bの双方を透過し、画像形成部30の反射型偏光板31C(後出)へ向かうこととなる。反射ミラー25Aは、ダイクロイックミラー24Aからの光(主に赤色光)をレンズ26Aに向けて反射し、反射ミラー25Bは、ダイクロイックミラー24Bからの光(主に青色光)をレンズ26Bに向けて反射する。レンズ26Aは、反射ミラー25Aからの光(主に赤色光)を透過し、ダイクロイックミラー27へ集光させる。レンズ26Bは、反射ミラー25Bからの光(主に青色光)を透過し、ダイクロイックミラー27へ集光させる。ダイクロイックミラー27は、緑色光を選択的に反射すると共にそれ以外の波長域の光を選択的に透過するものである。ここでは、レンズ26Aからの光のうち赤色光成分を透過する。レンズ26Aからの光に緑色光成分が含まれる場合、その緑色光成分を偏光板28Cへ向けて反射する。偏光板28A〜28Cは、所定方向の偏光軸を有する偏光子を含んでいる。例えば、偏光変換素子22においてP偏光に変換されている場合、偏光板28A〜28CはP偏光の光を透過し、S偏光の光を反射する。

Claims (20)

  1. 粗面を有する基材と、
    前記基材の粗面上に直接的にまたは間接的に形成され、バインダにより互いに結合された複数の蛍光体粒子を含む蛍光体層と
    を有する発光素子。
  2. 前記基材の粗面は、300nm以下の表面粗さRa値を有する
    請求項1記載の発光素子。
  3. 前記基材の粗面は、10nm以上の表面粗さRa値を有する
    請求項2記載の発光素子。
  4. 前記蛍光体層は、30μm以上120μm以下の厚さを有する
    請求項3記載の発光素子。
  5. 前記基材の線膨張係数と前記バインダの線膨張係数との差が7.6ppm/K以下である
    請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の発光素子。
  6. 前記基材は、構成元素としてMo(モリブデン),Si(ケイ素)およびW(タングステン)のうちの少なくとも1種を有する
    請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の発光素子。
  7. 前記バインダは、無機材料の架橋体を含む
    請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の発光素子。
  8. 前記無機材料の架橋体は、珪酸化合物からなる
    請求項7記載の発光素子。
  9. 前記基材の粗面と前記蛍光体層との間に形成された反射層をさらに有する
    請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の発光素子。
  10. 表面を有する基材と、
    前記基材の表面上に直接的にまたは間接的に形成され、バインダにより互いに結合された複数の蛍光体粒子を含む蛍光体層と
    を有し、
    前記基材の線膨張係数と前記バインダの線膨張係数との差が7.6ppm/K以下である
    発光素子。
  11. 光源部と、
    前記光源部からの光により励起されて蛍光を発する発光素子と
    を備え、
    前記発光素子は、
    粗面を有する基材と、
    前記基材の粗面上に形成され、バインダにより互いに結合された複数の蛍光体粒子を含む蛍光体層と
    を有する
    光源装置。
  12. 前記基材の粗面は、300nm以下の表面粗さRa値を有する
    請求項11記載の光源装置。
  13. 前記基材の粗面は、10nm以上の表面粗さRa値を有する
    請求項12記載の光源装置。
  14. 前記蛍光体層は、30μm以上120μm以下の厚さを有する
    請求項13記載の光源装置。
  15. 前記基材の線膨張係数と前記バインダの線膨張係数との差が7.6ppm/K以下である
    請求項11から請求項14のいずれか1項に記載の光源装置。
  16. 前記基材は、構成元素としてMo(モリブデン),Si(ケイ素)およびW(タングステン)のうちの少なくとも1種を有する
    請求項11から請求項15のいずれか1項に記載の光源装置。
  17. 前記バインダは、無機材料の架橋体を含む
    請求項11から請求項16のいずれか1項に記載の光源装置。
  18. 前記無機材料の架橋体は、珪酸化合物からなる
    請求項17記載の光源装置。
  19. 前記基材の粗面と前記蛍光体層との間に形成された反射層をさらに有する
    請求項11から請求項18のいずれか1項に記載の光源装置。
  20. 発光素子を有する光源装置と、
    前記光源装置から射出される光を変調する光変調素子と、
    前記光変調素子からの光を投影する投影光学系と
    を備え、
    前記発光素子は、
    粗面を有する基材と、
    前記基材の粗面上に形成され、バインダにより互いに結合された複数の蛍光体粒子を含む蛍光体層と
    を有する
    プロジェクタ。
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