JP2015178845A5 - - Google Patents
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Description
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての振動低減装置は、基台上に支持された対象物体の振動を低減する振動低減装置であって、前記基台上に第1弾性体によって支持された第1物体と、前記第1物体の上に第2弾性体によって支持された第2物体と、前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを有するセンサと、前記センサを使って前記第1電極と前記第2電極との間の距離を求める処理部とを含む検出部と、前記基台と前記第1物体との間に配置され前記第1物体を駆動する第1駆動部と、前記検出部による検出結果に基づいて、前記第1電極と前記第2電極との間の距離が一定になるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、前記基台と前記対象物体との間に配置され前記対象物体を駆動する第2駆動部と、前記対象物体と前記第2物体との間の距離が一定になるように前記第2駆動部を制御する第2制御部と、を含み、前記第2電極と前記処理部とは、前記第2弾性体を介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする。
Claims (19)
- 基台上に支持された対象物体の振動を低減する振動低減装置であって、
前記基台上に第1弾性体によって支持された第1物体と、
前記第1物体の上に第2弾性体によって支持された第2物体と、
前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを有するセンサと、前記センサを使って前記第1電極と前記第2電極との間の距離を求める処理部とを含む検出部と、
前記基台と前記第1物体との間に配置され前記第1物体を駆動する第1駆動部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記第1電極と前記第2電極との間の距離が一定になるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、
前記基台と前記対象物体との間に配置され前記対象物体を駆動する第2駆動部と、
前記対象物体と前記第2物体との間の距離が一定になるように前記第2駆動部を制御する第2制御部と、
を含み、
前記第2電極と前記処理部とは、前記第2弾性体を介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする振動低減装置。 - 前記第2電極と前記処理部とは、前記第2弾性体と前記第1弾性体と前記第1物体の一部に設けられた導電部材とを介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項1に記載の振動低減装置。
- 前記第1弾性体と前記第2弾性体とは互いに電気的に接続され、
前記第2電極と前記処理部とは、前記第1弾性体と前記第2弾性体とを介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項1に記載の振動低減装置。 - 前記第2電極は、前記第2物体の前記第1物体側の面に設けられ、かつ前記第2弾性体に電気的に接続された導電膜によって形成されている、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の振動低減装置。
- 前記センサは、前記第1電極を有する第1プローブと前記第2電極を有する第2プローブとを含み、
前記第2電極は、前記第2物体に設けられた導電部材を介して前記第2弾性体に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の振動低減装置。 - 前記検出部は、静電容量センサまたは渦電流式変位センサを含む、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の振動低減装置。
- 基台上に支持された対象物体の振動を低減する振動低減装置であって、
前記基台上に第1弾性体によって支持された第1物体と、
前記第1物体の上に第2弾性体によって支持された第2物体と、
前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを有するセンサと、前記センサを使って前記第1電極と前記第2電極との間の距離を求める処理部とを含む検出部と、
前記基台と前記第1物体との間に配置され前記第1物体を駆動する第1駆動部と、
前記検出部の検出結果に基づいて、前記第1電極と前記第2電極との間の距離が一定になるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、
前記基台と前記対象物体との間に配置され前記対象物体を駆動する第2駆動部と、
前記対象物体と前記第2物体との間の距離が一定になるように前記第2駆動部を制御する第2制御部と、
を含み、
前記第2電極と前記処理部とはケーブル線によって互いに電気的に接続され、
前記ケーブル線は、前記第1物体に電気的に接続されずに前記第1物体に固定された固定部分を含む、ことを特徴とする振動低減装置。 - 前記ケーブル線は、前記第2電極に接続された接続部分と前記固定部分との間の長さが前記第1物体と前記第2物体との間の距離より長くなるように前記第1物体に固定されている、ことを特徴とする請求項7に記載の振動低減装置。
- 前記ケーブル線は、前記第2電極と前記第1物体との間の領域において撓むように前記第1物体に固定されている、ことを特徴とする請求項7又は8に記載の振動低減装置。
- 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板にパターンを形成するユニットと、
基台上に支持された対象物体の振動を低減する請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の振動低減装置と、
を含み、
前記パターンを形成する前記ユニットは、前記振動低減装置の前記対象物体の上に搭載されている、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項10に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 基台上に支持された対象物体の振動を制御する装置であって、
第1物体と、
前記基台上に前記第1物体を支持する第1弾性体と、
第2物体と、
前記第1物体上に前記第2物体を支持する第2弾性体と、
前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを含み、前記第1電極と前記第2電極との間の距離を得るための検出を行う検出部と、
前記第1物体を駆動する第1駆動部と、
前記検出部での検出結果に基づいて、前記距離を目標距離に近づけるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、
前記対象物体を駆動する第2駆動部と、
前記対象物体と前記第2物体との間の距離に基づいて、前記第2駆動部を制御する第2制御部と、
を含み、
前記第2電極と前記第1制御部とは、前記第2弾性体を介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする装置。 - 基台上に支持された対象物体の振動を制御する装置であって、
第1物体と、
前記基台上に前記第1物体を支持する第1弾性体と、
第2物体と、
前記第1物体上に前記第2物体を支持する第2弾性体と、
前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを含み、前記第1電極と前記第2電極との間の距離を得るための検出を行う検出部と、
前記第1物体を駆動する第1駆動部と、
前記検出部での検出結果に基づいて、前記距離を目標距離に近づけるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、
前記対象物体を駆動する第2駆動部と、
前記対象物体と前記第2物体との間の距離に基づいて、前記第2駆動部を制御する第2制御部と、
を含み、
前記第2電極と前記第1制御部とは、ケーブル線を介して互いに電気的に接続され、
前記ケーブル線は、前記第1物体に電気的に接続されずに前記第1物体に固定されている、ことを特徴とする装置。 - 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板にパターンを形成するユニットと、
前記パターンを形成する前記ユニットが搭載された対象物体の振動を制御する請求項12に記載の装置と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板にパターンを形成するユニットと、
前記パターンを形成する前記ユニットが搭載された対象物体の振動を制御する請求項13に記載の装置と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項14に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 請求項15に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 第1物体と、
基台上に前記第1物体を支持する第1弾性体と、
第2物体と、
前記第1物体上に前記第2物体を支持する第2弾性体と、
前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを含み、前記第1電極と前記第2電極との間の距離を得るための検出を行う検出部と、
前記第1物体を駆動する第1駆動部と、
前記検出部での検出結果に基づいて、前記距離を目標距離に近づけるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、
を含み、
前記第2電極と前記第1制御部とは、前記第2弾性体を介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする装置。 - 第1物体と、
基台上に前記第1物体を支持する第1弾性体と、
第2物体と、
前記第1物体上に前記第2物体を支持する第2弾性体と、
前記第1物体に設けられた第1電極と前記第2物体に設けられた第2電極とを含み、前記第1電極と前記第2電極との間の距離を得るための検出を行う検出部と、
前記第1物体を駆動する第1駆動部と、
前記検出部での検出結果に基づいて、前記距離を目標距離に近づけるように前記第1駆動部を制御する第1制御部と、
を含み、
前記第2電極と前記第1制御部とは、ケーブル線を介して互いに電気的に接続され、
前記ケーブル線は、前記第1物体に電気的に接続されずに前記第1物体に固定されている、ことを特徴とする装置。
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JP2000173884A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-23 | Canon Inc | デバイス製造装置および方法ならびにデバイス製造装置の配線・配管実装方法 |
JP3631045B2 (ja) * | 1999-06-16 | 2005-03-23 | キヤノン株式会社 | 駆動装置、光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
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JP2004100953A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-04-02 | Nikon Corp | 制振装置及び露光装置 |
EP1664587B1 (en) * | 2003-09-05 | 2010-11-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Actuator arrangement for active vibration isolation comprising an inertial reference mass |
US7571793B2 (en) * | 2004-01-26 | 2009-08-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Actuator arrangement for active vibration isolation using a payload as an inertial reference mass |
US7726452B2 (en) * | 2005-06-02 | 2010-06-01 | Technical Manufacturing Corporation | Systems and methods for active vibration damping |
JP2009515107A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 振動分離システム及び方法 |
WO2007072357A2 (en) * | 2005-12-20 | 2007-06-28 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Blended sensor system and method |
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