JP2009515107A - 振動分離システム及び方法 - Google Patents

振動分離システム及び方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009515107A
JP2009515107A JP2008538481A JP2008538481A JP2009515107A JP 2009515107 A JP2009515107 A JP 2009515107A JP 2008538481 A JP2008538481 A JP 2008538481A JP 2008538481 A JP2008538481 A JP 2008538481A JP 2009515107 A JP2009515107 A JP 2009515107A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control signal
position error
signal
mass
linear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008538481A
Other languages
English (en)
Inventor
イェー フェルフォールデルドンク,ミシール
スタウチェスデイク,ヘンリー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips NV
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips NV, Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips NV
Publication of JP2009515107A publication Critical patent/JP2009515107A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16FSPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
    • F16F15/00Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
    • F16F15/02Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Vibration Prevention Devices (AREA)

Abstract

振動から質量を分離するシステムは、質量32へ動作上接続され、複合制御信号46に応答する作動装置34と、質量32の位置を測定するよう動作上接続され、位置信号38を生成する位置センサ36と、位置信号38及び位置設定点信号58に応答して、位置誤差信号50を生成する比較器51と、位置誤差信号50に応答して、複合制御信号46を生成する結合制御装置40とを有する。結合制御装置40は、位置誤差信号50が動作範囲外にある場合にシステム特性を変更するよう複合制御信号46を調整する。

Description

本発明は、概して、振動分離システム、より具体的には、非線形制御を伴う振動分離システムに関する。
ある繊細な製造工程及び器具の使用は、それらの周囲の振動からの質量(mass)の分離を必要とする。繊細な製造工程の一例は、集積回路を作るためのフォトリソグラフィである。集積回路が作られるウェハは、床の振動に敏感なテーブルの上で結合(dock)される。如何なる振動も、フォトリソグラフィの精度に影響を及ぼし、集積回路の品質を低下させる。繊細な器具の使用の一例は、例えば受振器のような地震計である。地震計では、質量は、床の振動を検出すべく自由に動くようにされなければならない。繊細な器具の使用の他の例は、慣性基準質量を有するアクティブな振動分離のためのペイロード分離システムにおける基準質量としての当該質量の使用である。これは、Vervoordeldonk等によるWO2005/024266A1、「Actuator Arrangement for Active Vibration Isolation Comprising an Inertial Reference Mass(慣性基準質量を有するアクティブな振動分離のための作動装置配置)」(特許文献1)に記載される。特許文献1は、本願の指定代理人が担当しており、参照することによって本願に援用される。基準質量は、例えばフォトリソグラフィ用テーブルのようなペイロードまでの距離を測定するための定常点を与える。
図1は、標準的なサスペンションシステムのブロック図である。標準的なモデルは、剛性k及び減衰係数dを有する面上で支持された、分離されるべき質量Mを含む。振動分利用途では、剛性kは、低い共振周波数を提供するよう小さい。剛性kは、最良の振動分離を提供するよう可能な限り小さくされなければならない。しかし、これにより、質量Mが外乱によって励振される場合の性能は悪い。第1に、このようなシステムは、外力によって乱される場合に、大きな時間的及び空間的偏位をもたらす。第2に、このようなシステムは、外力によって乱された後に、柔軟につり下げられた質量のゆっくりとした安定化動作を示す。過度の外乱後の大きな偏位を低減するための1つのアプローチは、質量の運動を制限するよう物理的なエンドストップ(end stop)を組み込むことである。これは、エンドストップで質量への比較的大きな外乱力を生じさせ、安定するまでの時間を予測不可能なものとしうる。更に、柔軟につり下げられた質量がエンドストップによって制限される場合は、位置合わせが問題となりうる。
図2A及び2Bは、夫々、アクティブなサスペンションシステムに関するブロック図及び剛性k対位置Xrefのグラフである。図2Aに表されるアクティブなサスペンションシステムは、位置センサPによって検知された位置を有する質量Mを含む。位置センサPは、線形制御器CLへ与えられる位置信号を生成する。線形制御器CLは、質量Mを駆動する作動装置Fへ線形制御信号を供給する。制御ループは、位置誤差に関わらず同じ剛性及び減衰を提供し、図1に関して論じられた性能問題を生じさせる。
図2Bは、例えば0.5Hzといった極めて低い周波数で質量をつり下げようとする場合に、実際の作動装置に存在する寄生剛性によりアクティブなサスペンションシステムで生ずる安定性の問題を表す。0.2kgの質量に関し、アクティブなサスペンションシステムの剛性kは2N/m程度でなければならず、これは極めて低い。あいにく、実際の作動装置に存在する寄生剛性は約10N/mであり、これは、必要とされる2N/mの剛性の5から10倍である。
図2Bを参照して、基準質量の動作範囲20は、1.5mmの位置Xrefの周りで約100μmである。曲線Aは、作動装置Fの剛性が位置Xrefとともに変化する様子を表す。即ち、作動装置の剛性は、位置に関して一定ではない。曲線Bは、制御装置CLの剛性が位置Xrefとともに変化する様子を表す。即ち、制御装置の剛性は、位置に関して一定ではない。曲線Cは、曲線Aの作動装置の剛性及び曲線Bの制御装置の剛性を組み合わせることで得られる結合剛性を表す。
WO2005/024266A1、「Actuator Arrangement for Active Vibration Isolation Comprising an Inertial Reference Mass(慣性基準質量を有するアクティブな振動分離のための作動装置配置)」、Vervoordeldonk等
上記の例における問題は、位置Xrefが0から1mmの間にある場合に起こる。この場合に、曲線Cの結合剛性は負である。この負の領域で、質量Mの動作は不安定である。これは、負の領域が回避されうる場合には問題ではないが、質量Mは、システムが開始時に切り離されており(undock)、質量Mが動作範囲20を移動する場合は、負の領域を通らなければならない。質量Mは、また、質量に作用する床の振動及び外力からの過度な外乱により負の領域に入ることがある。安定性の問題を解決する1つのアプローチは、曲線Bの制御装置の剛性に剛性及び/又は減衰を加えることである。従って、曲線Cの結合剛性は、もはや、位置Xrefが0から1mmの間にある場合に負ではない。しかし、これは、振動分離性能が悪化するにつれ、更なる問題を生み出す。
このような欠点を解消する振動分離システム及び方法を有することが望ましい。
本発明の一の態様は、振動から質量を分離するシステムであって、前記質量へ動作上接続され、複合制御信号に応答する作動装置と、前記質量の位置を測定するよう動作上接続され、位置信号を生成する位置センサと、前記位置信号及び位置設定点信号に応答して、位置誤差信号を生成する比較器と、前記位置誤差信号に応答して、前記複合制御信号を生成する結合制御装置とを有し、前記結合制御装置は、前記位置誤差信号が動作範囲外にある場合にシステム特性を変更するよう前記複合制御信号を調整する、システムを提供する。
本発明の他の態様は、振動から質量を分離する方法であって、前記質量の位置を測定する段階と、前記位置及び位置設定点から位置誤差を計算する段階と、前記位置誤差が動作範囲内である場合に前記質量を制御するよう第1の利得を適用する段階と、前記位置誤差が前記動作範囲外である場合に前記質量を制御するよう第2の利得を適用する段階とを有し、前記第2の利得は前記第1の利得よりも大きい方法を提供する。
本発明の他の態様は、振動から質量を分離するシステムであって、前記質量の位置を測定する手段と、前記位置及び位置設定点から位置誤差を計算する手段と、前記位置誤差が動作範囲内である場合に前記質量を制御するよう第1の利得を適用する手段と、前記位置誤差が前記動作範囲外である場合に前記質量を制御するよう第2の利得を適用する手段とを有し、前記第2の利得は前記第1の利得よりも大きいシステムを提供する。
本発明の上記並びに他の特徴及び効果は、添付の図面に関連して読まれる目下好ましい実施例に関する以下の詳細な記載から更に明らかとなるであろう。詳細な記載及び図面は、添付の特許請求の範囲に定義される本発明及びその均等の適用範囲を限定するものではなくむしろ、本発明を説明しているにすぎない。
図3は、本発明に従って作られた振動分離システムの概要図である。質量32を分離する振動分離システム30は、作動装置34と、位置センサ36と、比較器51と、結合制御装置40とを有する。位置センサ36は、質量32の位置を測定し、位置信号38を生成する。この位置信号38は比較器51へ供給される。比較器51は、位置信号38を位置設定点信号58と比較して、位置誤差信号50を生成する。結合制御器40は、位置誤差信号50に応答して、複合制御信号46を生成する。作動装置34は、複合制御信号46に応答して、質量32を駆動する。一の実施例では、結合制御装置40は、線形制御器42及び非線形制御器44を有する。一の実施例では、比較器51は、結合制御装置40に含まれる。動作の間、質量32は、通常は、質量動作範囲内に位置付けられている。非線形制御器44は、位置信号38が質量動作範囲に対応する動作範囲の外側にある場合は、システム特性を変更するよう複合制御信号46を調整する。ここで使用されるように、システム特性は、システム剛性及び/又は減衰として定義される。
質量32は、分離が望ましい如何なる質量であっても良い。一の実施例では、質量32はフォトリソグラフィ用テーブルである。他の実施例では、質量32は受振器の質量である。更なる他の実施例では、質量32は、慣性基準質量を有するアクティブな振動分離のためのペイロード分離システムにおける基準質量である。質量32は、1よりも多い方向での移動を考慮するよう1よりも多い自由度を有してつり下げられ得る。例えば、質量32は、水平な又は垂直な運動を可能にするよう取り付けられ得る。
位置センサ36は、質量32の位置を測定し且つその測定に応答して位置信号38を生成する如何なる位置センサであっても良い。適切な位置センサの例は、容量センサ、干渉計、誘導センサ、エンコーダ等を含む。所謂当業者には明らかなように、必要に応じて、例えば質量速度又は質量加速度のような他の測定値から、位置は決定可能である。図3の例では、質量32の位置は面48に対して測定される。
結合制御装置40は、位置誤差信号50に応答して複合制御信号46を生成する如何なる非線形制御器であっても良い。結合制御装置40は、累進的な剛性(progressive stiffness)及び/又は減衰(damping)を提供するようシステム特性を変更する。一の実施例では、結合制御装置40は、線形制御器42及び非線形制御器44を有する。線形制御器42は、複合制御信号46へ線形成分を与え、非線形制御器44は、複合制御信号46へ非線形成分を与える。一の実施例では、線形制御器42はPID(比例、積分、微分)制御器である。代替の実施例では、結合制御装置40は第1及び第2の非線形制御器を有する。第1の非線形制御器は、複合制御信号46へ第1の非線形成分を与え、第2の非線形制御器は、複合制御信号46へ第2の非線形成分を与える。一の実施例では、結合制御装置40は比較器51を含む。従って、結合制御装置40は、位置信号38及び位置設定点信号58に応答して、位置誤差信号50を生成する。一の実施例では、結合制御装置40は、コンピュータ、マイクロコンピュータ、マイクロプロセッサ等で実行される1又はそれ以上のプログラムとして実施され得る。他の実施例では、結合制御装置40は、デジタル回路及び/又はアナログ回路として実施され得る。
作動装置34は、質量32を移動させるよう動作可能な如何なるアクチュエータであっても良い。作動装置34の一例はローレンツモータである。一実施例では、作動装置34から出力される力は、複合制御信号46の入力電流に比例する。一実施例では、作動装置34はリニアドライブである。他の実施例では、作動装置34は、回転動作を線形動作に変換する適切な歯車装置を備えた回転駆動部である。所謂当業者には明らかなように、作動装置34は、通常は、作動装置を動作させるための所望のレベルへ複合制御信号46を高めるために、例えば電流増幅器又は電圧増幅器のような増幅器を含む。
動作において、位置センサ36は、質量32の位置を測定し、その位置を示す位置信号38を比較器51へ供給する。比較器51は、位置信号38及び位置設定点信号58から位置誤差信号50を計算する。位置誤差信号50に応答して、結合制御装置40は、質量32の位置を調整するために複合制御信号46を作動装置34へ供給する。位置誤差信号50が動作範囲内である場合は、結合制御装置40は、質量32を制御する、即ち、作動装置34によって質量32へ加えられる力を制御する第1の利得を有する。位置誤差信号50が動作範囲外にある場合は、結合制御装置40は、質量32を制御する、即ち、作動装置34によって質量32へ加えられる力を制御する第2の利得を制御する。第2の利得は第1の利得よりも大きい。
図4A及び4Bは、本発明に従って作られた振動分離システムの並列及び直列制御構造のブロック図である。結合制御装置内の非線形制御器は、位置誤差がその動作範囲外にある場合は振動分離システムのシステム特性を変更し、余分の剛性及び/又は減衰を線形制御器によって供給される剛性及び減衰に加える。
図4Aは並列制御構造を表す。比較器51では、位置設定点信号58(Xsetpoint)が、質量32の位置を示す位置信号38(Xr)と比較され、位置誤差信号50(ε)が生成される。位置誤差信号50は、結合制御装置40の線形制御器42及び非線形制御器44へ与えられる。線形制御器42は、位置誤差信号50に応答して、線形制御信号52を生成する。非線形制御器44は、位置誤差信号50に応答して、非線形制御信号54を生成する。線形制御信号52及び非線形制御信号54は、複合制御信号46を生成するために加算ノード56で足し合わされる。作動装置(図示せず。)は、複合制御信号46に応答して質量32へ力Fを加える。非線形制御信号54は、質量32がその動作範囲外にあることを位置誤差信号50が示す場合は、即ち、位置誤差信号50の絶対値が所定値を超える場合は、複合制御信号46に寄与する。
図4Bは直列制御構造を表す。比較器51では、位置設定点信号58(Xsetpoint)が、質量32の位置を示す位置信号38(Xr)と比較され、位置誤差信号50(ε)が生成される。位置誤差信号50は、結合制御装置40の非線形制御器44へ与えられる。非線形制御器44は、位置誤差信号50に応答して、非線形制御信号54を生成する。非線形制御信号54は線形制御器42へ与えられる。線形制御器42は、非線形制御信号54に応答して、複合制御信号46を生成する。作動装置(図示せず。)は、複合制御信号46に応答して質量32へ力Fを加える。非線形制御器44は、質量32がその動作範囲外にあることを位置誤差信号50が示す場合は、非線形性成分を複合制御信号46に与える。線形制御器42は、非線形制御信号54を変形して、複合制御信号46に線形成分を与える。所謂当業者には明らかなように、線形制御器42及び非線形制御器44の順序は、必要に応じて入れ替えることができる。
図5は、本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の剛性対位置誤差のグラフである。非線形制御器からの剛性は、線形制御器によって与えられる剛性に加えられる。この例では、制御構造は並列制御構造であり、非線形制御器は、位置誤算信号に応答して、非線形制御信号を生成する。各曲線は、位置誤差がその動作範囲内にある場合に適用される動作範囲部分と、位置誤差がその動作範囲内にある場合に適用される累進的な剛性部分とを含む。剛性は、動作範囲部分における基本的な剛性及び、累進的な剛性部分における増大する剛性である。剛性は、非線形制御器の利得を示す。
図5の曲線A乃至Dは、非線形制御曲線の様々な実施例を表す。各曲線は、動作範囲70において基本剛性k0を有する動作範囲部分(これは、この例では、0±100μmの位置誤差に対応する。)と、動作範囲70の外側の累進的な剛性部分とを有する。一実施例では、基本剛性k0は最小又は0である。他の実施例では、基本剛性k0は、振動分離システムにおいて所望の共振周波数を生成する所定の剛性値である。一実施例では、2N/mの小さい基本剛性k0は、柔軟につり下げられた(soft suspended)基準質量に関して0.5Hzを生じさせるために使用される。所謂当業者には明らかなように、線形制御器は、非線形制御器が動作範囲部分で所要の基本剛性を提供する場合は、必要に応じて削除され得る。
図5の曲線A乃至Dは、また、異なる累進的な剛性部分の例を表す。曲線Aは傾斜直線の累進的剛性部分を有し、剛性は動作範囲から離れるにつれて線形に増大する。曲線Bは放物線の累進的剛性部分を有し、剛性は動作範囲から離れるにつれて放物線状に増大する。曲線Cは複合型の累進的剛性部分を有し、累進的剛性部分の剛性は、最初、なだらかな移行部では動作範囲から離れるにつれて放物線状に増大し、次いで、線形部分では線形に増大する。曲線Dは階段状の累進的剛性部分を有し、累進的剛性部分の剛性は全ての位置誤差に関して一定である。所謂当業者には明らかなように、累進的な剛性部分の形状は、特定のシステムのシステムダイナミクスに関して望ましい如何なる形状であっても良い。例えば、累進的な剛性部分の形状は、階段状の部分、傾斜直線部分、放射線部分、双曲線部分、他の円錐曲線部分、及びそれらの組み合わせ等でありうる。一の実施例では、非線形制御器の曲線の累進的な剛性部分は所定の最大剛性で切り取られる(クリッピング)。故に、累進的な剛性部分の値は、位置誤差の絶対値が大きくなる場合は、即ち、位置誤差が所定範囲外にある場合は制限される。一の実施例では、非線形制御器の曲線は、システムが動作範囲の中及び外を通る場合に、移行の影響による望まないシステムの励振を回避するよう動作範囲部分と累進的な剛性部分との間をなだらかに移行する。
図6は、本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器のブロック図である。非線形制御器は、位置誤差信号に応答して、非線形制御信号を生成する。要素及び信号の近くに図示された小さなグラフは、位置誤差信号の関数として当該位置での信号を示す。
この例で、非線形制御器44は位置誤差信号50(ε)を受信する。位置誤差信号50は、第1の利得要素80及び第2の利得要素82へ供給される。第1の利得要素80は、第1のスケーリング位置誤差信号84を生成する。この信号84は、第1の関数発生器86及び第2の関数発生器88へ供給される。第1の関数発生器86は負の入力制御信号90を生成する。この信号90を、インバータ92は、反転された負の入力制御信号94へと変換する。第2の関数発生器88は正の入力制御信号96を生成する。この信号96は、正の制御信号100を生成するために、加算ノード98で、反転された負の入力制御信号94と足し合わされる。一の実施例では、正の制御信号100は、制限された制御信号104を生成するために、任意的なリミッタ102で切り取られる(クリッピング)。リミッタ102は、位置誤差が所定範囲外にある場合に、制限された制御信号104をクリップさせるために、即ち、制限された制御信号104の大きさを制限するために使用され得る。これは、幾つかの振動分離システムでは望まく、振動分離システムが大きな位置偏位に直面する場合に、剛性を制限して、潜在的な不安定性及び振動を回避することができる。他の実施例では、リミッタ102は削除され、正の制御信号100は直に乗算器108へ供給される。第2の利得要素82は、位置誤差信号50に応答して、第2のスケーリング位置誤差信号106を生成する。この信号106は、乗算器108へ供給される。乗算器108は、制限された制御信号104及び第2のスケーリング位置誤差信号106を掛け合わせて、非線形制御信号54を生成する。
非線形制御器44の要素及び値は、所望の性能に関して変更され得る。第1の利得要素80の利得K1は、位置誤差信号50を増減(スケーリング)することによって非線形制御器44の全体的な範囲を調整するよう選択され得る。第2の利得要素82の利得K2は、非線形制御器44の全体的な利得を調整するよう選択され得る。他の実施例で、第2の利得要素82は、図6の例では比例制御器であるが、動作範囲外の振動分離システムの減衰定数を増大させるために比例−微分(PD)制御器と置換され得る。一の実施例では、第1の関数発生器86及び第2の関数発生器88は、ダイオード−抵抗器回路であっても良く、第1の抵抗器の値は、非線形制御器の曲線の累進的な剛性部分の利得を決定する。当業者には明らかなように、関数発生器は、動作範囲においてゼロ又は最小の剛性を与え、動作範囲からの距離とともに剛性を増大させるアナログ回路及び/又はデジタル回路でありうる。第1の関数発生器86及び第2の関数発生器88は、同じであっても、あるいは、異なるものであっても良い。剛性は、動作範囲の中心(ゼロ位置誤差)に関して対称又は非対称でありうる。
図7A及び7Bは、夫々、本発明に従って作られた振動分離システムの関数発生器に関する剛性対位置誤差のグラフ及び回路図である。第2の関数発生器88は、第1のスケーリング位置誤差信号84を受信する第1の抵抗器R1と、ダイオードD1と、第2の抵抗R2と、正の入力制御信号96を供給する演算増幅器U1とを有するダイオード−抵抗器回路である。図7Aの剛性対位置誤差のグラフは、どのように非線形制御器の曲線の累進的剛性部分の利得が第1の抵抗器R1の抵抗によって決定され得るかを表す。剛性は、非線形制御器の利得を示す。第2の関数発生器88は、累進的な剛性部分において負の位置誤差に関してはほぼゼロであり、正の位置誤差に関しては正の値及び正の傾きを有する非線形制御器の曲線を与える。第1の抵抗器の抵抗が0Ωである場合に関する曲線Aは、累進的な剛性部分で指数関数的な利得を有する。第1の抵抗器R1の抵抗が3300Ωである場合に関する曲線Bは、累進的な剛性部分で約−R2/R1の一定の利得を有し、標準的な反転増幅器に類似する。第1の抵抗器R1及び第2の抵抗器R2の抵抗値は、特定の振動分離システムに関して望ましい利得を提供するよう選択され得る。当業者には明らかなように、ダイオードD1のダイオード方向(バイアス方向)は、図6の第1の関数発生器86を構成するために、即ち、累進的な剛性部分において正の位置誤差に関してはほぼゼロであり、負の位置誤差に関しては負の値及び正の傾きを有する非線形制御器の曲線を提供するために逆にされ得る。
図8は、本発明に従って作られた振動分離システムに関する制限された制御信号対位置誤差のグラフである。図8は、図6の非線形制御器44の位置誤差信号50の関数として、制限された制御信号104の測定値を示す。なお、制限された制御信号104は反転されている。この例では、第1の関数発生器86及び第2の関数発生器88は、図7A及び7Bに関して論じられたように、ダイオード−抵抗器回路である。図8の曲線Aでは、第1の抵抗器R1は0Ωの抵抗を有し、リミッタは使用されず、累進的な剛性部分では指数関数的な利得が得られる。曲線Bでは、第1の抵抗器R1は2.3kΩの抵抗を有し、リミッタ102は使用されず、累進的な剛性部分ではクリッピングを伴わずに、即ち、制限された制御信号の大きさが制限されることなく、線形に近い利得が得られる。曲線Cでは、第1の抵抗器R1は2.3kΩの抵抗を有し、リミッタ102が使用され、累進的な剛性部分ではクリッピングを伴った線形な利得が得られる。
図9は、本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の回路図である。図9で、図6と同じ要素は同じ参照番号を付されている。この例で、第1の関数発生器86及び第2の関数発生器88はダイオード−抵抗器回路である。
図10は、本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の他の実施例のブロック図である。非線形制御器は、位置誤差信号に応答して、非線形制御信号を生成する。非線形制御信号は、線形制御器からの線形制御信号と結合されて、複合制御信号が生成される。
この例で、非線形制御器144は位置誤差信号50(ε)を受信する。位置誤差信号50は、第1の利得要素180へ供給される。第1の利得要素80は、スケーリング位置誤差信号184を生成する。この信号184は、関数発生器186へ供給される。関数発生器186は入力制御信号190を生成する。この信号190は、第2の利得要素182へ供給される。関数発生器186の近くに示された小さなグラフは、スケーリング位置誤差信号184の関数として当該点での信号を表す。第2の利得要素182は、非線形制御信号54を生成する。
他の実施例では、非線形制御器144は、非線形制御信号54をクリップさせる、即ち、位置誤差が所定範囲外にある場合に非線形制御信号54の大きさを制限するリミッタを有することができる。第1の利得要素180の利得K1は、位置誤差信号50を増減(スケーリング)することによって非線形制御器144の全体的な範囲を調整するよう選択され得る。第2の利得要素182の利得K2は、非線形制御器144の全体的な利得を調整するよう選択され得る。
図11A及び11Bは、夫々、本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の他の実施例に関する非線形制御信号対位置誤差のグラフ及び回路図である。この例では、非線形制御器144は、第1の抵抗器R11と、第1のダイオードD11と、第2のダイオードD12と、第2の抵抗器R12と、演算増幅器U11とを有するダブルダイオード−抵抗器回路である。第1のダイオードD11及び第2のダイオードD12は、ダブルダイオード(双二極管)構造で実装され、各ダイオードの陰極は他方のダイオードの陽極へ接続されている。これは、非線形制御器曲線の動作範囲部分を提供する。第1のダイオードD11又は第2のダイオードD12のどちらも、位置誤差信号50の絶対値が十分な順方向バイアス電圧を供給するまでは導通しない。非線形制御器曲線の累進的剛性部分の利得は、第1の抵抗器R11の抵抗によって決定され得る。非線形制御器の曲線Aは、第1の累進的剛性部分192と、動作部分194と、第2の累進的剛性部分196とを有する。曲線Aは、累進的な剛性部分で約−R12/R11の一定の利得を有する。当業者には明らかなように、制御器曲線Aは、更に、特定の使用に関して望まれるように適合され得る。
図12は、本発明に従って作られた振動分離システムを用いるアクティブな振動分離のためのペイロード分離システムのブロック図である。振動分離システムは、固定基準質量を提供する。ペイロード202を分離するペイロード分離システム200は、作動装置208と、エアマウント(airmount)210と、質量32と、振動分離システム30とを有する。一例において、ペイロード202は、リソグラフィ装置に備わるメトロフレーム(metroframe)である。例えばローレンツモータのような作動装置208は、ペイロード202と地面216との間に配置され得る。エアマウント210は、ピストン212及びガスが充満した筐体214を有し、筐体214の中をピストン212が動くことができる。バルブ220は、導管221によって筐体214へ接続されている。
ペイロード分離システム200に対して柔軟につり下げられた固定基準質量である質量32を分離する振動分離システム30は、質量32を駆動する作動装置34と、質量32の位置を測定する位置センサ36とを有する。位置センサ36は、質量32と地面216との間の距離Z3を測定し、位置信号38を生成する。位置信号38は結合制御装置40へ供給される。結合制御装置40は、位置信号38に応答して、複合制御信号46を生成する。作動装置208は、複合制御信号46に応答して、質量32を駆動する。一の実施例では、結合制御装置40は線形制御器及び非線形制御器を有する。動作の間、質量32は、通常は、質量動作範囲内に位置付けられている。非線形制御器44は、位置信号38が質量動作範囲に対応する動作範囲外にある場合は、システム特性を変更するよう複合制御信号46を調整する。ここで使用されるように、システム特性は、システム剛性及び/又は減衰として定義される。当業者には明らかなように、結合制御装置40は、位置誤差信号50に応答して、複合制御信号46を生成し、システム特性を変更する如何なる非線形制御器であっても良い。
センサ226は、基準質量32とペイロード202との間の距離Z2を測定する。センサ226は、出力信号を比較器228へ送る。比較器228は、また、基準信号Zrefを受信し、センサ226から受信した出力信号を基準信号Zrefから減ずる。この比較に基づく出力信号は、比較器228によって制御器206へ加えられる。制御器206は、作動装置208へ接続されており、バルブ220へ接続され得る。当業者には明らかなように、制御器206は、累進的な剛性及び/又は減衰を提供するようシステム特性を変化させる非線形な結合制御装置でありうる。一の実施例では、制御器206は、線形制御器及び非線形制御器を有する。
ここで開示される本発明の実施例は、現在のところは好ましいものと考えられるが、様々な変形及び改良が、本発明の適用範囲を逸脱することなく行われ得る。一の実施例で、ここで論じられる様々な信号を生成及び処理する電子装置は、アナログ回路、デジタル回路、又はアナログ回路及びデジタル回路の組み合わせでありうる。他の実施例で、ここで記載される制御ループは、また、例えば低域通過フィルタ、一般的な2次フィルタ、及び/又はノッチフィルタのようなフィルタを有することができる。フィルタの使用に関する一例は、システムダイナミクスを調整するためにフィルタを使用すること、例えば、システム不安定を引き起こす機械的な共振を除く(notch away)ためにフィルタを用いることである。フィルタの使用に関する他の例は、センサ雑音の影響を低減するために低域通過フィルタを使用することである。本発明の適用範囲は添付の特許請求の範囲で示され、均等の意味及び範囲にある全ての変形はその中に包含されるよう意図される。
標準的なサスペンションシステムのブロック図である。 アクティブなサスペンションシステムに関するブロック図である。 アクティブなサスペンションシステムに関する剛性k対位置Xrefのグラフである。 本発明に従って作られた振動分離システムのブロック図である。 本発明に従って作られた振動分離システムの並列制御構造のブロック図である。 本発明に従って作られた振動分離システムの直列制御構造のブロック図である。 本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器に関する剛性対位置誤差のグラフである。 本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御部のブロック図である。 本発明に従って作られた振動分離システムの関数発生器に関する剛性対位置誤差のグラフである。 本発明に従って作られた振動分離システムの関数発生器の回路図である。 本発明に従って作られた振動分離システムに関する制限された制御信号対位置誤差のグラフである。 本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の回路図である。 本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の他の実施例に関するブロック図である。 本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の他の実施例に関する非線形制御信号対位置誤差のグラフである。 本発明に従って作られた振動分離システムの非線形制御器の他の実施例の回路図である。 本発明に従って作られた振動分離システムを用いるアクティブな振動分離のためのペイロード分離システムのブロック図である。

Claims (24)

  1. 振動から質量を分離するシステムであって:
    前記質量へ動作上接続され、複合制御信号に応答する作動装置;
    前記質量の位置を測定するよう動作上接続され、位置信号を生成する位置センサ;
    前記位置信号及び位置設定点信号に応答して、位置誤差信号を生成する比較器;及び
    前記位置誤差信号に応答して、前記複合制御信号を生成する結合制御装置;
    を有し、
    前記結合制御装置は、前記位置誤差信号が動作範囲外にある場合にシステム特性を変更するよう前記複合制御信号を調整する、システム。
  2. 前記作動装置はローレンツモータである、請求項1記載のシステム。
  3. 前記結合制御装置は線形制御器及び非線形制御器を有し、
    前記線形制御器は、前記複合制御信号へ線形成分を与え、
    前記非線形制御器は、前記複合制御信号へ非線形成分を与える、請求項1記載のシステム。
  4. 前記線形制御器及び前記非線形制御器は、直列制御構造及び並列制御構造を含むグループから選択される制御構造で接続される、請求項3記載のシステム。
  5. 前記非線形成分は、前記動作範囲外で累進的な剛性部を有する、請求項3記載のシステム。
  6. 前記非線形成分は、ゼロ剛性、最小剛性、及び所定の剛性を含むグループから選択される基本剛性を有する前記動作範囲内で動作範囲部を有する、請求項3記載のシステム。
  7. 前記累進的な剛性部は、階段状の部分、傾斜直線部分、放射線部分、双曲線部分、円錐曲線部分、及びそれらの組み合わせを含むグループから選択される、請求項5記載のシステム。
  8. 前記累進的な剛性部はなだらかな移行部を有する、請求項5記載のシステム。
  9. 前記動作範囲は、ゼロ位置誤差に関してプラス又はマイナス100μmである、請求項1記載のシステム。
  10. 線形制御信号及び非線形制御信号に応答して、前記複合制御信号を生成する加算ノードを更に有し、
    前記非線形制御器は:
    前記位置誤差信号に応答して、第1のスケーリング位置誤差信号を生成する第1の利得要素;
    前記第1のスケーリング位置誤差信号に応答して、負の入力制御信号を生成する第1の関数発生器;
    前記負の入力制御信号に応答して、反転された負の入力制御信号を生成するインバータ;
    前記第1のスケーリング位置誤差信号に応答して、正の入力制御信号を生成する第2の関数発生器;
    前記反転された負の入力制御信号及び前記正の入力制御信号に応答して、正の制御信号を生成する加算ノード;
    前記位置誤差信号に応答して、第2のスケーリング位置誤差信号を生成する第2の利得要素;及び
    前記正の制御信号及び前記第2のスケーリング位置誤差信号に応答して、前記非線形制御信号を生成する乗算器;
    を有する、請求項3記載のシステム。
  11. 前記正の制御信号に応答して、制限された制御信号を生成するリミッタを更に有し、
    前記制限された制御信号は、前記正の制御信号として前記乗算器へ与えられる、請求項10記載のシステム。
  12. 前記第1の関数発生器及び前記第2の関数発生器のうちの少なくとも1つはダイオード−抵抗器回路である、請求項10記載のシステム。
  13. 前記第2の利得要素は比例−微分(PD)制御器である、請求項10記載のシステム。
  14. 線形制御信号及び非線形制御信号に応答して、前記複合制御信号を生成する加算ノードを更に有し、
    前記非線形制御器は:
    前記位置誤差信号に応答して、スケーリング位置誤差信号を生成する第1の利得要素;
    前記スケーリング位置誤差信号に応答して、入力制御信号を生成する関数発生器;及び
    前記入力制御信号に応答して、前記非線形制御信号を生成する第2の利得要素;
    を有する、請求項3記載のシステム。
  15. 前記非線形制御信号に応答して、前記非線形制御信号を制限するリミッタを更に有する、請求項14記載のシステム。
  16. 前記関数発生器はダブルダイオード−抵抗器回路である、請求項14記載のシステム。
  17. 前記質量は、アクティブな振動分離のためのペイロード分離システムにおける基準質量である、請求項1記載のシステム。
  18. 振動から質量を分離する方法であって:
    前記質量の位置を測定する段階;
    前記位置及び位置設定点から位置誤差を計算する段階;
    前記位置誤差が動作範囲内である場合に前記質量を制御するよう第1の利得を適用する段階;及び
    前記位置誤差が前記動作範囲外である場合に前記質量を制御するよう第2の利得を適用する段階;
    を有し、
    前記第2の利得は前記第1の利得よりも大きい方法。
  19. 前記位置誤差が所定範囲外である場合に前記第2の利得を制限する段階を更に有する、請求項18記載の方法。
  20. 前記第2の利得は、前記位置誤差の絶対値とともに増大する、請求項18記載の方法。
  21. 振動から質量を分離するシステムであって:
    前記質量の位置を測定する手段;
    前記位置及び位置設定点から位置誤差を計算する手段;
    前記位置誤差が動作範囲内である場合に前記質量を制御するよう第1の利得を適用する手段;及び
    前記位置誤差が前記動作範囲外である場合に前記質量を制御するよう第2の利得を適用する手段;
    を有し、
    前記第2の利得は前記第1の利得よりも大きいシステム。
  22. 前記位置誤差が所定範囲外である場合に前記第2の利得を制限する手段を更に有する、請求項21記載のシステム。
  23. 前記第2の利得は、前記位置誤差の絶対値とともに増大する、請求項21記載のシステム。
  24. 前記第2の利得は、階段状の部分、傾斜直線部分、放射線部分、双曲線部分、円錐曲線部分、及びそれらの組み合わせを含むグループから選択される関数に従って増大する、請求項23記載のシステム。
JP2008538481A 2005-11-08 2006-11-02 振動分離システム及び方法 Pending JP2009515107A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US73445505P 2005-11-08 2005-11-08
PCT/IB2006/054066 WO2007054860A2 (en) 2005-11-08 2006-11-02 Vibration isolation system and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009515107A true JP2009515107A (ja) 2009-04-09

Family

ID=38023649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008538481A Pending JP2009515107A (ja) 2005-11-08 2006-11-02 振動分離システム及び方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20080246200A1 (ja)
EP (1) EP1948962A2 (ja)
JP (1) JP2009515107A (ja)
KR (1) KR20080066013A (ja)
CN (1) CN101305206A (ja)
WO (1) WO2007054860A2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009253287A (ja) * 2008-04-08 2009-10-29 Asml Netherlands Bv ステージシステム、および当該ステージシステムを備えるリソグラフィ装置
JP2015010705A (ja) * 2013-07-02 2015-01-19 キヤノン株式会社 除振装置、除振方法、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8279401B2 (en) * 2008-04-25 2012-10-02 Asml Netherlands B.V. Position control system, a lithographic apparatus and a method for controlling a position of a movable object
EP2119938A1 (en) * 2008-05-15 2009-11-18 Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO A vibration sensor and a system to isolate vibrations.
JP5641878B2 (ja) * 2010-10-29 2014-12-17 キヤノン株式会社 振動制御装置、リソグラフィー装置、および、物品の製造方法
NL2009902A (en) 2011-12-27 2013-07-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
JP6278676B2 (ja) * 2013-11-29 2018-02-14 キヤノン株式会社 振動低減装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP6302305B2 (ja) * 2014-03-18 2018-03-28 キヤノン株式会社 振動低減装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
CN106224425B (zh) * 2016-08-16 2018-04-17 江苏大学 一种基于混合励磁的半主动馈能悬架减振器及其尺寸确定方法
US20220112934A1 (en) * 2020-10-09 2022-04-14 Nikon Corporation Vibration isolation systems with reaction masses and actuators

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4680741A (en) * 1981-10-13 1987-07-14 Geosource, Inc. Method and apparatus for seismic exploration using non-linear sweeps
IL77057A (en) * 1985-03-26 1990-03-19 Wright Barry Corp Active vibration isolation system
US4706226A (en) * 1985-11-08 1987-11-10 Azygous Seismic line amplifier
JP3224489B2 (ja) * 1995-03-28 2001-10-29 キヤノン株式会社 空気バネ式除振装置
JP2001023882A (ja) * 1999-07-07 2001-01-26 Canon Inc 振動センサ付きペデスタルおよびこれを用いた露光装置
US6511035B1 (en) * 1999-08-03 2003-01-28 Newport Corporation Active vibration isolation systems with nonlinear compensation to account for actuator saturation
EP1225482A1 (en) * 2001-01-19 2002-07-24 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1664587B1 (en) * 2003-09-05 2010-11-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Actuator arrangement for active vibration isolation comprising an inertial reference mass
US7571793B2 (en) * 2004-01-26 2009-08-11 Koninklijke Philips Electronics N.V. Actuator arrangement for active vibration isolation using a payload as an inertial reference mass

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009253287A (ja) * 2008-04-08 2009-10-29 Asml Netherlands Bv ステージシステム、および当該ステージシステムを備えるリソグラフィ装置
US8279407B2 (en) 2008-04-08 2012-10-02 Asml Netherlands B.V. Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system
JP2015010705A (ja) * 2013-07-02 2015-01-19 キヤノン株式会社 除振装置、除振方法、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20080246200A1 (en) 2008-10-09
KR20080066013A (ko) 2008-07-15
WO2007054860A3 (en) 2007-10-18
WO2007054860A2 (en) 2007-05-18
CN101305206A (zh) 2008-11-12
EP1948962A2 (en) 2008-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009515107A (ja) 振動分離システム及び方法
US8091694B2 (en) Actuator arrangement for active vibration isolation comprising an inertial reference mass
KR101300024B1 (ko) 절대 변위 검출 방법 및 그 방법을 이용한 절대 변위 센서
EP2075484A1 (en) An active vibration isolation system having an inertial reference mass
US9678444B2 (en) Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article
JP2011185943A (ja) 地震計などのデバイスに用いられる、マイクロ機械加工により製作され、プルーフマスが一体的に形成された、改良したサスペンション・プレート
US9665108B2 (en) Vibration reduction apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article
JP2007240396A (ja) 振動検出センサ、防振装置、及び露光装置
JP4940472B2 (ja) アクティブ除振装置及び制振装置
US9394966B2 (en) Vibration suppression apparatus and vibration suppression method
JP2011247314A (ja) アクティブ除振装置
NL2004415C2 (en) Active vibration isolation system, arrangement and method.
JP2012041983A (ja) アクティブ除振装置
JP6401598B2 (ja) アクティブ除振装置
JP2011132990A (ja) アクティブ除振装置
JP2004138523A (ja) アクティブ防振システムの加速度検出装置
JP2021056096A (ja) センサシステム、および該センサシステムを備える除振装置
JP2019124265A (ja) アクティブ除振装置
JP7288841B2 (ja) センサシステム、および該センサシステムを備える除振装置
JP2005114492A (ja) アクティブ制御パルス推力測定装置
JPH11271830A (ja) ブレ検出装置、ブレ補正装置及びブレ補正カメラ
JP2003328940A (ja) ターボ分子ポンプを用いた真空排気装置
JP5453054B2 (ja) アクティブ・マスダンパの制御方法及び制御装置
KR20170042247A (ko) 진동 제어 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법
JP2013044711A (ja) 力測定装置