JP2015167944A - 膜形成方法及び膜形成装置 - Google Patents
膜形成方法及び膜形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015167944A JP2015167944A JP2014047088A JP2014047088A JP2015167944A JP 2015167944 A JP2015167944 A JP 2015167944A JP 2014047088 A JP2014047088 A JP 2014047088A JP 2014047088 A JP2014047088 A JP 2014047088A JP 2015167944 A JP2015167944 A JP 2015167944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- outer edge
- film material
- forming
- substrate
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 79
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 75
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 11
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 91
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-IGMARMGPSA-N copper-64 Chemical compound [64Cu] RYGMFSIKBFXOCR-IGMARMGPSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/08—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
- B05C9/14—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation involving heating or cooling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
基板の表面の、膜材料を塗布すべき被塗布領域の縁に沿って、膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて外縁部を先に形成し、その後、前記外縁部よりも内側に、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させることにより、内奥部を形成することにより、前記外縁部及び前記内奥部からなり、上面が窪んでいる単位層を形成する工程と、
前記単位層の上に、さらに、各々が前記外縁部と前記内奥部とからなる別の単位層を、最上層の単位層の上面が窪んだ形状を維持しながら、積み重ねる工程と
を有する膜形成方法が提供される。
基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板の表面に、光硬化性の膜材料を
液滴化して吐出する複数のノズル孔を有するノズルヘッドと、
前記基板に塗布された前記膜材料に硬化用の光を照射する光源と、
前記ノズルヘッド及び前記光源に対して前記基板を相対的に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御して、
前記基板の表面の被塗布領域の縁に沿って、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて外縁部を先に形成し、その後、前記外縁部よりも内側に、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させることにより、内奥部を形成することにより、前記外縁部及び前記内奥部からなり、上面が窪んでいる単位層を形成し、
前記単位層の上に、さらに、各々が前記外縁部と前記内奥部とからなる別の単位層を、最上層の単位層の上面が窪んだ形状を維持しながら、積み重ねる膜形成装置が提供される。
ッド20が、昇降可能に支持されている。ノズルヘッド20は、基板50に対向する複数のノズル孔を有する。各ノズル孔から、基板50の表面に向かって光硬化性(例えば紫外線硬化性)の膜材料が液滴化されて吐出される。薄膜材料の吐出は、制御装置30によって制御される。
流れる。すなわち、膜材料61は、被塗布領域52の内側に向かって流れる。外縁部55の外側の側面には、膜材料61はほとんど流出しない。
11 移動機構
12 ステージ
20 ノズルヘッド
21 ノズルユニット
22 ベースプレート
23 ノズル孔
24 硬化用光源
30 制御装置
50 基板
52 被塗布領域
53 画素
53a 外縁部形成時の塗布対象の画素
53b 内奥部形成時の塗布対象の画素
55 外縁部
55a 外縁部の一部分
56 内奥部
56a 内奥部の一部分
57 単位層
58 平坦化層
60 膜
61 膜材料
63 厚銅を配置する領域
64 厚銅
Claims (6)
- 基板の表面の、膜材料を塗布すべき被塗布領域の縁に沿って、膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて外縁部を先に形成し、その後、前記外縁部よりも内側に、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させることにより、内奥部を形成することにより、前記外縁部及び前記内奥部からなり、上面が窪んでいる単位層を形成する工程と、
前記単位層の上に、さらに、各々が前記外縁部と前記内奥部とからなる別の単位層を、最上層の単位層の上面が窪んだ形状を維持しながら、積み重ねる工程と
を有する膜形成方法。 - 1つの前記単位層の前記外縁部を形成する工程において、前記被塗布領域の縁に沿って、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて前記外縁部の一部分を形成し、前記外縁部の一部分の上に、さらに前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて、前記外縁部の一部分を高くすることにより前記外縁部を形成する請求項1に記載の膜形成方法。
- 前記被塗布領域の形状が、複数の画素からなる画像データにより定義されており、
前記外縁部の一部分を高くするときに、下側の前記一部分を形成するときに前記膜材料を塗布した前記画素と同一の画素に、さらに、前記膜材料を塗布する請求項2に記載の膜形成方法。 - 基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板の表面に、光硬化性の膜材料を液滴化して吐出する複数のノズル孔を有するノズルヘッドと、
前記基板に塗布された前記膜材料に硬化用の光を照射する光源と、
前記ノズルヘッド及び前記光源に対して前記基板を相対的に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御して、
前記基板の表面の被塗布領域の縁に沿って、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて外縁部を先に形成し、その後、前記外縁部よりも内側に、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させることにより、内奥部を形成することにより、前記外縁部及び前記内奥部からなり、上面が窪んでいる単位層を形成し、
前記単位層の上に、さらに、各々が前記外縁部と前記内奥部とからなる別の単位層を、最上層の単位層の上面が窪んだ形状を維持しながら、積み重ねる膜形成装置。 - 前記制御装置は、前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御して、1つの前記単位層の前記外縁部を形成するときに、前記被塗布領域の縁に沿って、前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて前記外縁部の一部分を形成し、前記外縁部の一部分の上に、さらに前記膜材料を液滴化して塗布し、硬化させて、前記外縁部の一部分を高くすることにより前記外縁部を形成する請求項4に記載の膜形成装置。
- 前記制御装置は、複数の画素からなる画像データにより定義された前記被塗布領域の形状を記憶しており、
前記外縁部の一部分を高くするときに、下側の前記一部分を形成するときに前記膜材料を塗布した前記画素と同一の画素に、さらに、前記膜材料を塗布する請求項5に記載の膜形成装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014047088A JP6085578B2 (ja) | 2014-03-11 | 2014-03-11 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
TW103140645A TWI564090B (zh) | 2014-03-11 | 2014-11-24 | Film forming method and film forming apparatus |
CN201410683427.6A CN104907227B (zh) | 2014-03-11 | 2014-11-24 | 膜形成方法及膜形成装置 |
KR1020140168740A KR101713813B1 (ko) | 2014-03-11 | 2014-11-28 | 막 형성방법 및 막 형성장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014047088A JP6085578B2 (ja) | 2014-03-11 | 2014-03-11 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015167944A true JP2015167944A (ja) | 2015-09-28 |
JP6085578B2 JP6085578B2 (ja) | 2017-02-22 |
Family
ID=54076909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014047088A Active JP6085578B2 (ja) | 2014-03-11 | 2014-03-11 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6085578B2 (ja) |
KR (1) | KR101713813B1 (ja) |
CN (1) | CN104907227B (ja) |
TW (1) | TWI564090B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190092240A (ko) * | 2018-01-30 | 2019-08-07 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 막형성방법, 막형성장치, 및 막이 형성된 복합기판 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6862041B2 (ja) * | 2016-08-10 | 2021-04-21 | 住友重機械工業株式会社 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
CN112437698A (zh) * | 2019-06-26 | 2021-03-02 | Abb瑞士股份有限公司 | 涂装机及涂装方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10138349A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-26 | Meiko:Kk | 積層光造形法 |
JP2010155926A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物およびインクジェット光造形法による立体造形物の製造方法 |
JP2012111226A (ja) * | 2010-11-01 | 2012-06-14 | Keyence Corp | インクジェット光造形法における、光造形品形成用モデル材、光造形品の光造形時の形状支持用サポート材および光造形品の製造方法 |
JP2014036171A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 基板製造方法及び薄膜形成装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3985545B2 (ja) * | 2002-02-22 | 2007-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | 薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体、及び電子機器 |
JP3988645B2 (ja) * | 2002-03-06 | 2007-10-10 | セイコーエプソン株式会社 | 吐出方法、吐出装置、カラーフィルタの製造方法、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP2003318133A (ja) | 2002-04-22 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | 膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、半導体チップの実装構造、半導体装置、発光装置、電気光学装置、電子機器、並びに非接触型カード媒体 |
JP4505191B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2010-07-21 | 日立ビアメカニクス株式会社 | 電子回路基板の製造装置 |
US20050048195A1 (en) * | 2003-08-26 | 2005-03-03 | Akihiro Yanagita | Dispensing system and method of controlling the same |
JP3874003B2 (ja) * | 2004-10-27 | 2007-01-31 | セイコーエプソン株式会社 | 配線パターン形成方法、及び膜パターン形成方法 |
JP2006126692A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Seiko Epson Corp | 薄膜パターン基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器 |
JP4179288B2 (ja) * | 2005-02-01 | 2008-11-12 | セイコーエプソン株式会社 | 膜パターン形成方法 |
KR100866323B1 (ko) * | 2007-02-05 | 2008-10-31 | 한국기계연구원 | 대면적 박막 코팅방법 및 그 장치 |
JP4501987B2 (ja) | 2007-10-30 | 2010-07-14 | セイコーエプソン株式会社 | 膜形成方法 |
US20100015322A1 (en) * | 2008-07-18 | 2010-01-21 | Cheng Uei Precision Industry Co., Ltd. | Method And Apparatus For Coating A Film On A Substrate |
JP2010184214A (ja) | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Seiko Epson Corp | 成膜方法 |
JP5332855B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2013-11-06 | セイコーエプソン株式会社 | 製膜装置 |
KR101322198B1 (ko) * | 2011-07-08 | 2013-10-28 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 박막형성방법 및 박막형성장치 |
KR101794803B1 (ko) * | 2011-07-15 | 2017-11-07 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 박막형성방법 및 박막형성장치 |
-
2014
- 2014-03-11 JP JP2014047088A patent/JP6085578B2/ja active Active
- 2014-11-24 CN CN201410683427.6A patent/CN104907227B/zh active Active
- 2014-11-24 TW TW103140645A patent/TWI564090B/zh active
- 2014-11-28 KR KR1020140168740A patent/KR101713813B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10138349A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-26 | Meiko:Kk | 積層光造形法 |
JP2010155926A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物およびインクジェット光造形法による立体造形物の製造方法 |
JP2012111226A (ja) * | 2010-11-01 | 2012-06-14 | Keyence Corp | インクジェット光造形法における、光造形品形成用モデル材、光造形品の光造形時の形状支持用サポート材および光造形品の製造方法 |
JP2014036171A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 基板製造方法及び薄膜形成装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190092240A (ko) * | 2018-01-30 | 2019-08-07 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 막형성방법, 막형성장치, 및 막이 형성된 복합기판 |
JP2019130447A (ja) * | 2018-01-30 | 2019-08-08 | 住友重機械工業株式会社 | 膜形成方法、膜形成装置、及び膜が形成された複合基板 |
KR102563456B1 (ko) | 2018-01-30 | 2023-08-03 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 막형성방법 및 막형성장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104907227B (zh) | 2017-04-19 |
KR101713813B1 (ko) | 2017-03-09 |
TW201534402A (zh) | 2015-09-16 |
CN104907227A (zh) | 2015-09-16 |
TWI564090B (zh) | 2017-01-01 |
KR20150106322A (ko) | 2015-09-21 |
JP6085578B2 (ja) | 2017-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI704016B (zh) | 油墨塗佈裝置及油墨塗佈方法 | |
US10293554B2 (en) | Three-dimensional object forming device and three-dimensional object forming method | |
TWI815089B (zh) | 用於以改良的均勻度和列印速度來製造薄膜的技術 | |
US10864675B2 (en) | Method for the layered construction of a shaped body | |
JP6085578B2 (ja) | 膜形成方法及び膜形成装置 | |
TWI594804B (zh) | Touch panel manufacturing method | |
US20180117835A1 (en) | Method for the layered construction of a shaped body | |
JP5638137B2 (ja) | 基板製造方法及び基板製造装置 | |
KR102563456B1 (ko) | 막형성방법 및 막형성장치 | |
JP6952243B2 (ja) | 印刷方法および印刷装置 | |
JP6289880B2 (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
JP2012133137A5 (ja) | 配向膜形成液の塗布装置および配向膜形成基板の製造方法 | |
JP2015100748A (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
JPWO2017077603A1 (ja) | 印刷硬化方法、印刷硬化装置、及びプリント配線基板の製造方法 | |
JP2014104385A (ja) | 基板製造方法及び基板製造装置 | |
JP7464378B2 (ja) | インク塗布制御装置及びインク塗布方法 | |
JP7488108B2 (ja) | インク塗布装置、その制御装置、及びインク塗布方法 | |
US20060292293A1 (en) | Method and apparatus for forming multi-layered circuit pattern | |
JP2014099520A (ja) | 基板製造方法及び基板製造装置 | |
JP2014067984A (ja) | 基板製造方法及び薄膜形成装置 | |
JP2014100636A (ja) | 基板製造方法及び基板製造装置 | |
JP2016190187A (ja) | 液滴吐出方法、有機半導体素子の製造方法、プログラム | |
JP2019055495A (ja) | 造形物の形成方法および三次元造形物製造装置 | |
JP2013016633A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2011147926A (ja) | 線の描画方法及びインクジェット描画装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20160401 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160401 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160608 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6085578 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |