JP5332855B2 - 製膜装置 - Google Patents

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Description

本発明は、製膜装置に関する。
従来、基板上にカラーフィルター等の機能性薄膜を形成する方法としては、スピンコート法やフレキソ印刷法が一般に用いられている。これに対して近年では、インク使用量削減や工程数削減に効果的であるとして、液滴吐出法が種々の薄膜形成に用いられるようになってきている。液滴吐出法を用いた薄膜の形成方法では、機能性材料（固形分）を溶媒（分散媒）に溶解又は分散させてなるインク（液状体）を液滴として基板上に吐出し、所望位置に配置した後、この配置したインクを乾燥してインク中の溶媒（分散媒）を除去することにより、機能性材料からなる薄膜を形成している。
ところで、工業的に形成するカラーフィルターや配線等の機能性薄膜は、近年では益々精細化、微細化する傾向にあり、したがって液滴吐出法でこれら機能性薄膜を形成するにあたっては、より高い吐出精度が要求されるようになってきている。このような背景のもとに近年では、液滴吐出を行うための吐出ヘッドをチャンバー内に収容し、吐出ヘッドの環境を制御することにより、吐出精度の向上を図っている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
また、このように吐出ヘッドをチャンバー内に収容した製膜装置では、吐出ヘッドのノズル面がチャンバー内の雰囲気に晒された状態になるため、例えば、このノズル面に設けられた複数のノズルのうち吐出動作を行わないノズルにおいて、インクの乾燥が進み粘度が増すことなどにより、インクの吐出量にバラツキが生じたり、インクの着弾精度の低下を招いたりするなどの問題が生じることがあった。
そこで、このような製膜装置では、ノズルから吐出される液滴の良好な吐出状態を維持又は回復するため、メンテナンス処理を定期的に行っている。具体的には、インクの増粘が進まないように各ノズルからインクを吐出させるフラッシング動作、ノズル面にキャップを被着（キャッピング）し、このキャップを介して吸引することにより、ノズル内の増粘したインクを除去したり、キャビティ内の気泡を除去する吸引動作、ノズル面をワイプ部材で払拭することによってノズル面に付着した付着物を除去するワイピング動作、などがなされている。また、このようなメンテナンス処理は、通常は基板にインク（機能液）を吐出して製膜を行うための描画エリアとは別に設けられた、メンテナンスエリアで行うようにしている。
特開２００４−１６７４３１号公報 特開２００５−１４６７６８号公報
しかしながら、前記の製膜装置では以下に述べる改善すべき課題がある。
製膜装置に用いられる吐出ヘッドと、吐出ヘッドに電気信号（駆動信号）を印加するための電子回路を備えた制御装置とは、いずれも動作中に自己発熱を起こす。制御装置は、通常は吐出ヘッドの近傍に配置されることから、吐出ヘッドは自身の発熱と制御装置の発熱とによってその温度が周囲の温度（雰囲気温度）より高くなり、この吐出ヘッドの近傍の部材の温度も周囲の温度より高くなってしまう。
ところが、吐出ヘッドは、その駆動素子となる圧電素子（例えばピエゾ素子）が温度特性を有し、Ｖｈ変位特性などが温度変化に伴って変動するため、周囲の温度変化によって吐出量が変動してしまう。また、吐出ヘッド内のインクも、温度によって粘度が変動するため、これによっても吐出量が変動してしまう。したがって、この吐出ヘッドは、描画エリアで吐出（描画）を行った後、メンテンアンスを行うためにメンテナンスエリアに移動すると、自身の発熱や制御装置の発熱がないことなどによって自身の温度が低下し、その後描画エリアに戻って吐出（描画）を行った際、吐出初期とその後との間で吐出バラツキを生じることがある。
すなわち、吐出ヘッドをメンテナンスエリアに移動してメンテナンスを行うにあたり、例えばノズル面をキャッピングして吸引動作を行った場合、吐出ヘッドの駆動素子の駆動を停止させることなどにより、吐出ヘッドの発熱が停止して自身の温度が低下する。したがって、その後この吐出ヘッドを再度描画エリアに移動させ、直ちに吐出（描画）を行わせると、温度が低下した吐出ヘッドが再度適正な温度にまで暖まるまでの間、前記したように吐出バラツキを生じてしまうのである。
そこで、メンテナンス後、再度描画エリアに移動させた際には、直ちに吐出（描画）を行わせることなく、描画エリアの雰囲気温度にまで吐出ヘッドが暖まるのを待ち、その後、吐出（描画）を行わせることが考えられる。しかし、その場合には、待ち時間によって生産性が損なわれるといった新たな課題を生じてしまう。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、待ち時間による生産性の低下を招くことなく、吐出ヘッドの温度変化に起因する吐出バラツキを防止した、製膜装置及び製膜方法を提供することにある。
本発明の製膜装置は、基板を載置するステージと、複数のノズルが設けられたノズル面を有し、該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス装置と、前記ステージと前記吐出ヘッドと前記メンテナンス装置とを収容するチャンバーとを備え、
前記チャンバー内には、前記ステージを配置してなる描画エリアと、前記メンテナンス装置を配置してなるメンテナンスエリアとが設けられ、かつ、前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間に前記吐出ヘッドを移動させる搬送装置が設けられ、
前記チャンバーには、少なくとも前記搬送装置によって前記吐出ヘッドが前記メンテナンスエリアに位置させられている間の前記メンテナンスエリアの温度を、前記搬送装置によって前記吐出ヘッドが前記描画エリアに位置させられている間の前記描画エリアの温度に対して、同じかこれより高くなるように調整する温度調整手段が設けられていることを特徴としている。
この製膜装置によれば、吐出ヘッドが位置させられている間のメンテナンスエリアの温度を、吐出ヘッドが位置させられている間の描画エリアの温度に対して、同じかこれより高くなるように調整する温度調整手段を設けているので、吐出ヘッドをメンテナンスエリアに移動してメンテンアンスを行い、その後描画エリアに戻って直ちに吐出（描画）を行っても、その吐出初期とその後との間で吐出バラツキが生じるのを抑えることができ。すなわち、メンテナンスエリアの温度を、温度調整手段によって描画エリアの温度と同等以上の所望温度にしておくことにより、吐出ヘッドをメンテナンスエリアに移動させてメンテンアンスを行わせている間、吐出ヘッドの温度低下を抑えることができる。その結果、この吐出ヘッドを描画エリアに戻しても、その温度が所望の温度に保持されているため、温度変化に起因する吐出バラツキを生じることなく、また、吐出ヘッドが所望温度になるまで待たせることなく、良好に吐出を行わせ、製膜を行うことができる。
また、前記製膜装置において、前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間には、仕切りシャッターが開閉可能に設けられているのが好ましい。
このようにすれば、メンテナンスエリアの温度を描画エリアの温度より高くしておきたい場合に、これらメンテナンスエリアと描画エリアとを仕切りシャッターで仕切っておくことにより、温度調整手段によって特にメンテナンスエリアの温度を所望温度に調整し、保持することができる。
また、前記製膜装置において、前記温度調整手段は、前記チャンバーに設けられた空調装置からなっていてもよい。
このようにすれば、メンテナンスエリアの温度をより良好に調整することができる。
また、前記製膜装置において、前記温度調整手段は、前記吐出ヘッドの駆動を制御するための制御装置が、前記メンテナンスエリアに配置されたことによって形成されていてもよい。
制御装置は、吐出ヘッドに電気信号（駆動信号）を印加するための電子回路を備えていることにより、その動作中に発熱する。したがって、この制御装置をメンテナンスエリアに配置することで、メンテナンスエリアの温度を高め、描画エリアの温度と同等以上の所望温度にしておくことができる。また、この制御装置の発熱を有効利用することで、省エネルギー化を図ることができる。
また、前記製膜装置において、前記温度調整手段は、前記搬送装置の駆動源が、前記メンテナンスエリアに配置されたことによって形成されていてもよい。
搬送装置のモーター等の駆動源も、その動作に伴って発熱する。したがって、この駆動源をメンテナンスエリアに配置することで、メンテナンスエリアの温度を高め、描画エリアの温度と同等以上の所望温度にしておくことができる。また、この駆動源の発熱を有効利用することで、省エネルギー化を図ることができる。
また、前記製膜装置において、前記メンテナンス装置は、前記吐出ヘッドのノズル面にキャップを被着させるキャッピングユニットを備えていてもよい。
キャッピングユニットによって吐出ヘッドのヘッド面にキャップを被着し、吸引動作を行わせた際に吐出ヘッドの駆動素子の駆動を停止させると、吐出ヘッドはその発熱を停止する。しかし、メンテナンスエリアを温度調整手段によって所望温度にしておくことにより、吐出ヘッドの温度低下を抑え、温度変化に起因する吐出バラツキを防止することができる。
本発明の製膜方法は、基板を載置するステージと、複数のノズルが設けられたノズル面を有し、該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス装置と、前記ステージと前記吐出ヘッドと前記メンテナンス装置とを収容するチャンバーとを備え、前記チャンバー内に、前記ステージを配置してなる描画エリアと、前記メンテナンス装置を配置してなるメンテナンスエリアとを設け、かつ、前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間に前記吐出ヘッドを移動させる搬送装置を設けてなる、製膜装置を用い、前記吐出ヘッドから前記基板上に機能液の液滴を吐出し、前記基板に製膜を行うに際して、
少なくとも前記搬送装置によって前記吐出ヘッドを前記メンテナンスエリアに位置させている間の前記メンテナンスエリアの温度を、前記搬送装置によって前記吐出ヘッドを前記描画エリアに位置させている間の前記描画エリアの温度に対して、同じかこれより高くなるように調整することを特徴としている。
この製膜方法によれば、吐出ヘッドが位置させられている間のメンテナンスエリアの温度を、吐出ヘッドが位置させられている間の描画エリアの温度に対して、同じかこれより高くなるように調整するので、吐出ヘッドをメンテナンスエリアに移動してメンテンアンスを行い、その後描画エリアに戻って直ちに吐出（描画）を行っても、その吐出初期とその後との間で吐出バラツキが生じるのを抑えることができ。すなわち、メンテナンスエリアの温度を描画エリアの温度と同等以上の所望温度にしておくことにより、吐出ヘッドをメンテナンスエリアに移動させてメンテンアンスを行わせている間、吐出ヘッドの温度低下を抑えることができる。その結果、この吐出ヘッドを描画エリアに戻しても、その温度が所望の温度に保持されているため、温度変化に起因する吐出バラツキを生じることなく、また、吐出ヘッドが所望温度になるまで待たせることなく、良好に吐出を行わせ、製膜を行うことができる。
本発明の製膜装置の一実施形態の概略構成を示す側断面図である。 本発明の製膜装置の一実施形態の要部を示す斜視図である。 ステージの概略構成を示す斜視図である。 キャリッジに保持された複数の吐出ヘッドを下側から見た斜視図である。 吐出ヘッドの構造の一例を説明するための側断面図である。 着弾精度測定ユニットを説明するための図である。 着弾精度測定ユニットの使用方法明するための図である。 ワイピングユニットを説明するための図である。 ワイピングユニットの使用方法明するための図である。 キャッピングユニットを説明するための図である。 キャッピングユニットの使用方法明するための図である。
以下、本発明を詳しく説明する。
まず、本発明の製膜装置について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。図１、図２は、本発明の製膜装置の一実施形態を示す概略構成図であって、これらの図において符号１は製膜装置である。図１は、本実施形態に係る製膜装置１の側断面図、図２は、本実施形態に係る製膜装置１の要部を示す斜視図である。
製膜装置１は、図１に示すように基板Ｐを載置するステージ２と、複数のノズル（図示せず）が形成されたノズル面（図示せず）を有し、該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッド３と、該吐出ヘッド４を保持するキャリッジ４と、前記吐出ヘッド３のメンテナンスを行うメンテナンス装置５、６、７と、前記ステージ２、前記吐出ヘッド３、前記キャリッジ４、前記メンテナンス装置５、６、７を全て収容するチャンバー８と、を備えて構成されたものである。また、この製膜装置１は、本実施形態では機能液としてカラーフィルター材料を用い、その液滴を基板Ｐに吐出することにより、基板Ｐにカラーフィルターの薄膜を形成するものとなっている。なお、前記ステージ２、メンテナンス装置５、６、７は、全て、チャンバー８内に配置された直方体状の基台９上に、設けられている。
この製膜装置１においては、そのチャンバー８内に、前記ステージ２を配置してなる描画エリアＥ１と、前記メンテナンス装置５、６、７を配置してなるメンテナンスエリアＥ２とが設けられている。そして、これら描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２との間には、仕切りシャッター１０が開閉可能に設けられている。この仕切りシャッター１０は、例えば図１中二点鎖線で示すように、上方に引き上げられることで描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２との間を開放し、また、その状態から下降させられることにより、描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２との間を仕切るように構成されている。なお、この仕切りシャッター１０には、前記基台９や後述するキャリッジ４の搬送レールに干渉しないよう、これらを避けた状態に開口部（図示せず）が形成されている。
ステージ２は、図３に示すように基台９上に設置された固定部１１と、この固定部１１上に移動可能に設けられた可動部１２とからなるもので、モーター等の駆動源（図示せず）により、可動部１２が固定部１１上にて例えば＋Ｘ方向、−Ｘ方向に移動するよう、構成されたものである。可動部１２には、その上面に基板Ｐを保持する保持機構１３が設けられている。保持機構１３は、静電吸着、真空吸着、あるいは機械的に位置決めし保持する公知の機構からなるもので、基板Ｐを可動部１２の所定位置に着脱可能に保持するものとなっている。
また、可動部１２の上面には、前記保持機構１３が設けられた箇所の両側に、それぞれフラッシングエリア１４が設けられている。フラッシングエリア１４には、吐出ヘッド３のノズルから吐出された液滴を吸収する多孔部材が配設されている。多孔部材としては、例えばスポンジ状の部材が用いられる。このような構成のもとに吐出ヘッド３は、基板Ｐに液滴を吐出する前後に、フラッシングエリア１４上に移動してノズルより液滴を吐出する動作、いわゆるフラッシング動作を行うことができるようになっている。
吐出ヘッド３は、図４に示すように、キャリッジ４の下面側に複数（図４では１２個）設けられている。これら複数の吐出ヘッド３には、機能液の液滴を吐出するノズル１５を形成したノズル面１６が設けられている。ノズル面１６は、本実施形態で略矩形状になっている。ノズル１５は、ノズル面１６において、所定方向（ノズル面１６の長辺方向）に沿って複数形成されている。
また、この吐出ヘッド３は、その断面図である図５に示すように、ピエゾ素子（圧電素子）１７に所定の駆動信号が供給されると、このピエゾ素子１７が変形し、機能液を収容したキャビティ１８の圧力が可撓性の振動板１９を介して変動する。そして、この圧力の変動によってノズル１５より機能液の液滴Ｄを吐出する、いわゆる電気機械変換方式の吐出ヘッドとなっている。
すなわち、この吐出ヘッド３は、ヘッド本体２０と、ヘッド本体２０の下端に貼設されたノズルプレート２１とを有している。ノズルプレート２１にはノズル１５が形成されており、また、その下面がノズル面１６となっている。ノズル面１６は、前記ステージ２上に配置される基板Ｐに対向するように、下方に向いて配置されている。また、吐出ヘッド３は、ノズルプレート２１の上側に形成された前記キャビティ（空間）１８と、キャビティ１８の上側に配置された前記振動板１９と、振動板１９の上方に配置された前記ピエゾ素子１７とを有している。
キャビティ１８は、複数のノズル１５のそれぞれに対応するように複数形成されている。これらキャビティ１８は、フレキシブルチューブからなる流路（図示せず）を介して、図１に示した機能液収容部２２に接続されている。これによってキャビティ１８は、機能液収容部２２から機能液（カラーフィルター材料）が供給され、ノズル１５を通して吐出するようになっている。
振動板１９は、上下方向に振動することによってキャビティ１８の容積を変化させ、その内圧を変化させるものである。ピエゾ素子１７は、複数のノズル１５のそれぞれに対応して複数配置されたもので、制御装置２３からの駆動信号に基づいて振動板１９を振動させ、キャビティ１８の内圧を変化させることにより、ノズル１５から機能液の液滴Ｄを吐出させるものである。このような構成からなる吐出ヘッド３は、特にピエゾ素子（圧電素子）１７が駆動信号を受けて駆動（動作）することにより、自己発熱を起こすようになっている。
制御装置２３は、吐出ヘッド３に電気的に接続されたもので、吐出ヘッド３のピエゾ素子１７に電気信号（駆動信号）を印加するための電子回路を備えたものである。したがって。この制御装置２３は、その動作中に自己発熱を起こすようになっている。また、この制御装置２３には制御器２４が電気的に接続されている。制御器２４は、制御装置２３の電源として機能するとともに、後述する搬送装置やメンテナンス装置５、６、７の駆動源（図示せず）を制御するためのものである。したがって。この制御器２４も、その動作中に自己発熱を起こすようになっている。ここで、これら制御装置２３、制御器２４は、いずれもメンテナンスエリアＥ２に配置されている。
また、吐出ヘッド３を備えたキャリッジ４は、図１に示すように搬送装置２５により、基台９上面の長辺方向に沿って移動させられるようになっている。搬送装置２５は、キャリッジ４を吊架する梁状のレール２６と、このレール２６に沿ってキャリッジ４を進退可能に移動させるモーター等の駆動源２７と、を備えて構成されたものである。駆動源２７は、レール２６に設けられた移動体（図示せず）を、該レール２６に沿って移動させるもので、メンテナンスエリアＥ２に配設されたものである。移動体は、キャリッジ４を移動可能に保持するものであり、これによってキャリッジ４は、レール２６に沿って移動するようになっている。なお、この駆動源２７は、その動作中に自己発熱を起こすようになっている。また、駆動源２７は前記制御器２４に電気的に接続され、この制御器２４からの駆動信号によって動作するようになっている。
ここで、搬送装置２５のレール２６は、描画エリアＥ１からメンテナンスエリアＥ２に連続して配設されており、これによって搬送装置２５は、キャリッジ４とこれに設けられた吐出ヘッド３とを、描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２との間に移動可能にしている。なお、図示しないものの、キャリッジ４は移動体に対して移動可能に構成されており、これによって吐出ヘッド３は、前記ステージ２上の基板Ｐに対して移動可能になっている。すなわち、ステージ２における固定部１１に対する可動部１２の移動（例えばＸ方向への移動）と、吐出ヘッド３の移動体に対する移動（例えばＹ方向への移動）とにより、吐出ヘッド３はステージ２上の基板Ｐに対して、Ｘ方向とこれに直交するＹ方向とに、相対的に移動できるようになっている。また、図示しない昇降機構により、移動体に対して昇降可能になっており、これによってステージ２上の基板Ｐや、後述するメンテナンス装置５、６、７に対して接離可能になっている。
メンテナンス装置５は、図６に示すように着弾精度測定ユニット２８を有したものである。この着弾精度測定ユニット２８は、吐出ヘッド３のノズル１５から吐出される液滴Ｄの着弾精度を測定するためのもので、吐出ヘッド３のノズル面１６に対向し、かつノズル面１６に対して相対的に移動可能に設けられた記録面２９を有する帯状のシート部材３０と、シート部材３０の記録面２９を送るための送り機構３１と、シート部材３０及び送り機構３１を収容するハウジング部材３２と、を有したものである。
シート部材３０は、少なくともその一部がハウジング部材３２の上面に形成された開口３２ａ内に露出させられ、これによって吐出ヘッド３のノズル面１６と対向可能になっている。また、このシート部材３０は、吐出ヘッド３の各ノズル１５から吐出された液滴Ｄの着弾位置を記録することが可能な記録媒体（測定部材）からなっており、例えばロール紙などの記録紙が好適に用いられている。
送り機構３１は、シート部材３０を供給する供給リール３３と、供給リール３３から供給されたシート部材３０を巻き取る巻取リール３４と、これら供給リール３３及び巻取リール３４を回転させる回転モーター等のアクチュエーター３５と、を有して構成されている。このような構成のもとに送り機構３１は、制御器２４によってアクチュエーター３５が駆動制御されることにより、シート部材３０を供給リール３３から巻取リール３４に送るようになっている。
このような着弾精度測定ユニット２８によって吐出ヘッド３の各ノズル１５から吐出される液滴Ｄの着弾精度を測定するには、まず、制御器２４によって搬送装置２５を駆動させ、キャリッジ４をメンテナンス装置５の着弾精度測定ユニット２８上に移動させる。そして、図７に示すように吐出ヘッド３のノズル面１６を着弾精度測定ユニット２８のハウジング部材３２の開口３２ａに対向させる。
次に、制御装置２３によって吐出ヘッド３に吐出動作を行わせ、開口３２ａ内に露出したシート部材３０の記録面２９に液滴Ｄを着弾させる。その後、この記録面２９に記録された液滴Ｄの着弾位置から、各ノズル１５から吐出される液滴Ｄの着弾精度を測定する。そして、この測定結果に基づき、吐出ヘッド３の吐出精度を確認し、正常であれば基板Ｐへの薄膜形成を行うようにする。また、異常である場合には、例えば以下のメンテナンス装置６、７によるメンテナンスを再度行うようにする。
メンテナンス装置６は、図８に示すようにワイピングユニット３６を有したものである。このワイピングユニット３６は、吐出ヘッド３のノズル面１６に付着した付着物（異物）を除去するためのもので、吐出ヘッド３のノズル面１６に対向し、かつノズル面１６に対して相対的に移動可能に設けられたワイピング面３７ａを有する帯状のワイプ部材３７と、前記ワイピング面３７ａを移動（走行）させるための駆動機構３８と、ワイプ部材３７及び駆動機構３８を収容するハウジング部材３９と、を有したものである。なお、吐出ヘッド３のノズル面１６に付着した付着物（異物）とは、ノズル面１６に付着した機能液の液滴Ｄも含んでいる。
また、ワイピングユニット３６は、ワイプ部材３７のワイピング面３７ａと反対の側の面を支持する払拭ローラー４３と、供給リール４０と払拭ローラー４３との間でワイプ部材３７の張力を調整する一対のテンションローラー４４と、巻取リール４１と払拭ローラー４３との間でワイプ部材３７の移動（走行）を案内するガイドローラー４５と、を備えている。ワイプ部材３７は、例えば不織布などの、液体を吸収可能な材料からなっている。
駆動機構３８は、ワイプ部材３７を供給する供給リール４０と、供給リール４０から供給されたワイプ部材３７を巻き取る巻取リール４１と、これら供給リール４０及び巻取リール４１を回転させる回転モーター等のアクチュエーター４２と、を有して構成されている。このような構成のもとに駆動機構３８は、制御器２４によってアクチュエーター４２が駆動制御されることにより、ワイプ部材３７を供給リール４０から巻取リール４１に向けて所定速度で移動（走行）させるようになっている。
このようなワイピングユニット３６によって吐出ヘッド３のノズル面２を払拭するためには、まず、制御器２４によって搬送装置２５を駆動させ、キャリッジ４をメンテナンス装置６のワイピングユニット３６上に移動させる。そして、図９に示すように吐出ヘッド３のノズル面１６をワイピングユニット３６のハウジング部材３９の開口３９ａに対向させる。
次に、制御器２４によって供給リール４０及び巻取リール４１を駆動させ、図９に示すように吐出ヘッド３のノズル面１６上にワイプ部材３７のワイピング面３７ａを移動（走行）させる。すなわち、吐出ヘッド３のノズル面１６にワイプ部材３７のワイピング面３７ａを接触させ、その状態で移動（走行）させることにより、ノズル面１６をワイプ部材３７で払拭する。これにより、ノズル面１６に付着した付着物（異物）を除去することができる。
メンテナンス装置７は、図１０に示すようにキャッピングユニット４６を有したものである。このキャッピングユニット４６は、吐出ヘッド３のノズル面１６にキャップ４７を被着させ、キャッピングするためのものである。キャップ４７は、吐出ヘッド３に対向する上面に形成された凹部からなるキャップ部４８を有したものである。キャップ部４８は、その凹部によって吐出ヘッド３のノズル面１６との間に空間を形成可能にしたもので、複数の吐出ヘッド３に対応して、これら複数の吐出ヘッド３と同じ数設けられている。
また、キャッピングユニット４６は、キャップ部４８の底面に形成されて凹部内の流体を吸引するための吸引口４９と、吸引口４９に連通する流路５０と、流路５０に接続された真空プンプ等の吸引手段５１と、を有している。
そして、このキャッピングユニット４６は、図１１に示すように吐出ヘッド３のノズル面１６側をキャップ部（凹部）４８の開口に嵌合させ、ノズル面１６側の外周面をキャップ部（凹部）４８の内側面の上端部に当接させることにより、キャップ部４８に閉空間５２を形成するようになっている。
このようなキャッピングユニット４６によって吐出ヘッド３のノズル面１６をキャッピングし、吸引動作を行わせるには、まず、制御器２４によって搬送装置２５を駆動させ、キャリッジ４をメンテナンス装置６のキャッピングユニット４６上に移動させる。そして、吐出ヘッド３のノズル面１６をそれぞれキャッピングユニット４６のキャップ部４８に対向させる。
次に、制御器２４によって前記昇降機構を動作させ、吐出ヘッド３（キャリッジ４）を下降させる。これにより、図１１に示すように吐出ヘッド３のノズル面１６をキャップ部（凹部）４８の開口に嵌合させ、キャップ部４８に閉空間５２を形成する。続いて、吸引手段５１を作動することにより、閉空間５２内を吸引し、減圧する。
すると、吐出ヘッド３は、そのノズル面１６の各ノズル１５に連通する閉空間５２内が減圧されたことにより、吐出ヘッド３のキャビティ１８等の機能液が、ノズル１５を介して吸引される。これにより、吐出前においてキャビティ１８内の気泡を除去したり、前記のメンテナンス装置５（着弾精度測定ユニット２８）やメンテナンス装置６（ワイピングユニット３６）においてメンテナンスを行っている間、乾燥により増粘したノズル１５内等の機能液を吐出し、ノズル１５内に適正な粘度の機能液を供給することができる。
ここで、このように吐出ヘッド３をキャッピングし、吸引動作を行う際には、通常、吐出ヘッド３に与えている微振動駆動の駆動信号（微振動電圧波形）を停止させる。すなわち、通常の吐出待機時においては、吐出ヘッド３に微振動を付与することにより、ノズル１５内の機能液の増粘が進まないようにしている。しかし、吸引動作を行う際には、ノズル１５内等の機能液を円滑に流出させるなどのため、微振動駆動の駆動信号の供給を停止させる。したがって、通常の吐出待機時においてはこの微振動駆動の駆動信号によって自己発熱を起こしているが、このキャッピングユニット４６による吸引動作時においては、自己発熱が起こらなくなるのである。
なお、キャップ部４８には、ノズル面１６（ノズル１５）の乾燥を抑制する機能（保湿機能）を備えさせてもよい。具体的には、キャップ部４８の内側に湿った多孔部材（メッシュ部材）を配置し、その湿った多孔部材を含むキャップ部４８と吐出ヘッド３のノズル面１６とを対向させることにより、ノズル面１６の乾燥を抑制する。つまり、ノズル面１６とキャップ部４８とで形成される閉空間５２の内側に、湿った多孔部材を配置することにより、ノズル面１６の乾燥を抑制するようにしてもよい。
また、図１に示すようにチャンバー８内において、描画エリアＥ１側には、前記ステージ２の側方に、基板搬送装置５３が設けられている。基板搬送装置５３は、前記ステージ上の基板Ｐを該ステージ２上から受け取り、該基板搬送装置５３の近傍に配設された基板収容装置５４に搬送してここに収容させるようになっている。基板収容装置５４は、チャンバー８の側壁に設けられたもので、この側壁に設けられた開閉ドア（図示せず）により、チャンバー８の外側から、基板収容装置５４内に収容された基板Ｐを取り出せるようになっている。
前記メンテナンス装置５、６、７や吐出ヘッド３、搬送装置２５等を収容してなるチャンバー８には、空調装置５５、５６が設けられている。空調装置５５は、チャンバー８内の前記描画エリアＥ１の空調を行うもので、チャンバー８の天井部の描画エリアＥ１に対応した位置に配設され、この描画エリアＥ１に所定温度の空気を、図１中破線の矢印で示すようにダウンフローさせるものである。空調装置５６は、チャンバー８内の前記メンテナンスエリアＥ２の空調を行うもので、チャンバー８の天井部のメンテナンスエリアＥ２に対応した位置に配設され、このメンテナンスエリアＥ２に所定温度の空気を、図１中破線の矢印で示すようにダウンフローさせるものである。
ここで、空調装置５５と空調装置５６とは、それぞれ独立して制御されるようになっており、特に空調装置５６は、本発明における温度調整手段の一つとなっている。すなわち、この空調装置５６（温度調整手段）は、少なくとも搬送装置２５によって吐出ヘッド３がメンテナンスエリアＥ２に位置させられている間のメンテナンスエリアＥ２の温度を、搬送装置２５によって吐出ヘッド３が描画エリアＥ１に位置させられている間の描画エリアＥ１の温度に対して、同じかこれより高くなるように、温度調整を行うようになっている。
つまり、描画エリアＥ１に吐出ヘッド３が位置しているときには、吐出動作を行ったり、また吐出動作を行っていない場合にも、前述した微振動駆動の駆動信号を供給し続けているので、自己発熱を起こし続けている。その結果、ある程度の時間を経過した後には、吐出ヘッド３は所定温度に漸近した状態になり、空調装置５５で温度調整された描画エリアＥ１の温度より大きく低下することなく、これと同じかこれより少し高い状態に保持される。したがって、機能液の粘度変化がほとんど生じないようになっている。
一方、メンテナンスエリアＥ１では、例えば吐出ヘッド３がメンテナンス装置７のキャピングユニット４６上に位置し、キャッピングユニット４６によって吸引動作がなされている間では、前述したように自己発熱が起こらなくなっている。したがって、従来ではある程度の時間が経過すると、吐出ヘッド３は前記の所定温度、すなわち液滴吐出を行う際の適正温度より大きく低下していた。
しかし、本実施形態では空調装置５６により、メンテナンスエリアＥ２の温度を、描画エリアＥ１の温度と同じかこれより高くなるように温度調整するので、吐出ヘッド３の温度が、前記の所定温度（適正温度）より大きく低下することが防止される。
また、このメンテナンスエリアＥ２には、前述したように制御装置２３、制御器２４が共に配置され、さらに搬送装置２５の駆動源２７も配設されている。したがって、これらも本発明における温度調整手段として機能し、その発熱によってメンテナンスエリアＥ２の温度が所定温度（適正温度）に保持されるようになっている。なお、本発明における温度調整手段は、本実施形態のように空調装置５４、制御装置２３、制御器２４、駆動源２７の全てから構成されているのが好ましいが、いずれか一つによって構成されていてもよい。
このような構成の製膜装置１によって基板Ｐにカラーフィルターを製膜するには、まず、仕切りシャッター１０を閉じた状態で空調装置５５、空調装置５６を作動させ、チャンバー８内の描画エリアＥ１の温度、メンテナンスエリアＥ２の温度を、それぞれ所望の温度、すなわち、メンテナンスエリアＥ２の温度が、描画エリアＥ１の温度と同じかこれより高くなるように、調整しておく。また、これとは別に、基板Ｐをステージ２上にセットしておく。そして、吐出ヘッド３から機能液（カラーフィルター材料）を吐出して基板Ｐ上に製膜を行うに先立ち、吐出ヘッド３を、メンテナンスエリアＥ２において必要なメンテナンスを行っておく。
具体的には、メンテナンス装置７のキャッピングユニット４６において吐出ヘッド３のノズル面１６に対し吸引動作を行い、また、メンテナンス装置６のワイピングユニット３６において吐出ヘッド３のノズル面１６を払拭し、さらに、メンテナンス装置５の着弾精度測定ユニット２９において着弾精度を測定する。そして、吐出ヘッド３の着弾精度（吐出精度）が正常であることを確認したら、搬送装置２５によって吐出ヘッド３を描画エリアＥ１に移動させる。
次に、吐出ヘッド３を基板Ｐ上に位置させ、その状態で従来と同様にして吐出動作を行わせ、基板Ｐ上に液滴Ｄを配する。これにより、基板Ｐにカラーフィルター（薄膜）を形成する。このようにして吐出動作を行わせると、この吐出動作を制御する制御装置２３は自己発熱を起こし、これによってメンテナンスエリアＥ２は加温される。また、この制御装置２３に接続する制御器２４も、同様に自己発熱し、メンテナンスエリアＥ２を加温する。
このようにして基板Ｐに対してカラーフィルター（薄膜）を形成し、さらにこの薄膜形成を所定枚数の基板Ｐに対して行ったら、再度メンテナンスを行うべく、仕切りシャッター１０を開閉しつつ、搬送装置２５によって吐出ヘッド３をメンテナンスエリアＥ２に移動させる。そして、必要に応じて再度、メンテナンス装置５、６、７によってメンテナンスを行う。すると、特にメンテナンス装置７においてキャッピングを行い、吸引動作を行う際には、前述したように吐出ヘッド３への微振動駆動の駆動信号（微振動電圧波形）の供給を停止するため、吐出ヘッド３はその間、自己発熱が起こらなくなる。したがって、吐出ヘッド３は自己発熱が停止することにより、従来であれば自身の温度が低下することになる。
しかし、本実施形態では、メンテナンスエリアＥ２の温度を、空調装置５６によって描画エリアＥ１の温度と同じかこれより高くなるように調整しておくとともに、制御装置２３、制御器２４、駆動源２７をメンテナンスエリアＥ２に配置し、これらから発生した熱でメンテナンスエリアＥ２を加温するようにしている。したがって、吐出ヘッド３はメンテナンスを行っている際にも、温度低下をほとんど起こすことなく、予め設定された所望の温度、すなわち、薄膜形成のための吐出を行うのに適正な温度に保持される。
その後、この吐出ヘッド３を再度描画エリアＥ１に戻し、ステージ２上の基板Ｐに対し、前述したように機能液（カラーフィルター材料）を吐出し、薄膜（カラーフィルター）を形成する。その際、吐出ヘッド３をメンテナンスエリアＥ２から描画エリアに移動させ、その状態で待機させることなく、直ちに吐出を行わせても、吐出ヘッド３の温度が所望の温度に保持されているため、温度変化に起因する吐出バラツキを生じることがない。
なお、このようにメンテナンスエリアＥ２から描画エリアに移動させ、その状態で待機させることなく、直ちに吐出を行わせることができるのは、装置の運転を長く中断した後、新たに運転を行う当初においても、同様である。
したがって、本発明の製膜装置１、及びこの製膜装置１による製膜方法によれば、メンテナンス後に待ち時間を必要とすることで生産性の低下を招くことなく、吐出ヘッド３の温度変化に起因する吐出バラツキを防止して、吐出ヘッド３に良好に吐出を行わせ、カラーフィルター等の製膜を行うことができる。
また、描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２との間に仕切りシャッター１０を開閉可能に設けているので、空調装置５６等の温度調整手段によって特にメンテナンスエリアＥ２の温度を所望温度に調整し、保持するのが容易になる。
さらに、制御装置２３、制御器２４、駆動源２７も温調制御手段として機能させているので、これら制御装置２３、制御器２４、駆動源２７から発生する熱を有効利用（再利用）することにより、省エネルギー化を図ることができる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、前記実施形態では仕切りシャッター１０によって描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２とを仕切るようにしたが、特に描画エリアＥ１とメンテナンスエリアＥ２とを同じ温度に調整する場合には、仕切りシャッター１０を設けることなく、空調装置等の温度調整手段により、メンテナンスエリアＥ２を描画エリアＥ１と同じ温度にするようにしてもよい。その場合には、空調装置５５と空調装置５６とをそれぞれ独立して制御することなく、共通の制御機構によって同じに制御してもよい。
また、ステージ２の構成や、吐出ヘッド３の搬送装置２５の構成、さらにメンテナンス装置５、６、７の構成等についても、前記実施形態に限定されることなく、種々の構成を採用することができる。
また、前記実施形態では、カラーフィルターの薄膜を製膜する場合について説明したが、本発明の製膜装置及び製膜方法は、カラーフィルター以外にも、有機ＥＬ装置における機能膜（発光層や正孔注入層など）や液晶装置における配向膜、さらには配線パターンなど、各種の薄膜の形成に適用することができる。
１…製膜装置、２…ステージ、３…吐出ヘッド、４…キャリッジ、５、６、７…メンテナンス装置、８…チャンバー、１０…仕切りシャッター、１５…ノズル、１６…ノズル面、１７…ピエゾ素子、２３…制御装置（温度調整手段）、２４…制御器、２５…搬送装置、２７…駆動源（温度調整手段）、２８…着弾精度測定ユニット、３６…ワイピングユニット、４６…キャッピングユニット、５５…空調装置、５６…空調装置（温度調整手段）、Ｐ…基板、Ｅ１…描画エリア、Ｅ２…メンテナンスエリア

Claims (4)

  1. 基板を載置するステージと、複数のノズルが設けられたノズル面を有し、該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス装置と、前記ステージと前記吐出ヘッドと前記メンテナンス装置とを収容するチャンバーとを備え、
    前記チャンバー内には、前記ステージを配置してなる描画エリアと、前記メンテナンス装置を配置してなるメンテナンスエリアとが設けられ、かつ、前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間に前記吐出ヘッドを移動させる搬送装置が設けられ、
    前記チャンバーには、少なくとも前記搬送装置によって前記吐出ヘッドが前記メンテナンスエリアに位置させられている間の前記メンテナンスエリアの温度を、前記搬送装置によって前記吐出ヘッドが前記描画エリアに位置させられている間の前記描画エリアの温度に対して、同じかこれより高くなるように調整する温度調整手段が設けられていて、
    前記温度調整手段は、前記吐出ヘッドの駆動を制御するための制御装置が、前記メンテナンスエリアに配置されたことによって形成されていることを特徴とする製膜装置。
  2. 基板を載置するステージと、複数のノズルが設けられたノズル面を有し、該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドのメンテナンスを行うメンテナンス装置と、前記ステージと前記吐出ヘッドと前記メンテナンス装置とを収容するチャンバーとを備え、
    前記チャンバー内には、前記ステージを配置してなる描画エリアと、前記メンテナンス装置を配置してなるメンテナンスエリアとが設けられ、かつ、前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間に前記吐出ヘッドを移動させる搬送装置が設けられ、
    前記チャンバーには、少なくとも前記搬送装置によって前記吐出ヘッドが前記メンテナンスエリアに位置させられている間の前記メンテナンスエリアの温度を、前記搬送装置によって前記吐出ヘッドが前記描画エリアに位置させられている間の前記描画エリアの温度に対して、同じかこれより高くなるように調整する温度調整手段が設けられていて、
    前記温度調整手段は、前記搬送装置の駆動源が、前記メンテナンスエリアに配置されたことによって形成されていることを特徴とする製膜装置。
  3. 前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間には、仕切りシャッターが開閉可能に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の製膜装置。
  4. 前記メンテナンス装置は、前記吐出ヘッドのノズル面にキャップを被着させるキャッピングユニットを備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の製膜装置。
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KR1020100034122A KR20100115708A (ko) 2009-04-20 2010-04-14 제막 장치 및 제막 방법
TW099112031A TW201103633A (en) 2009-04-20 2010-04-16 Film forming apparatus and method of forming film
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9290029B1 (en) 2014-11-20 2016-03-22 Samsung Display Co., Ltd. Inkjet print apparatus and inkjet print method
JP2019212393A (ja) * 2018-05-31 2019-12-12 住友化学株式会社 電子デバイスの製造方法及びインクジェット印刷装置の駆動方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11975546B2 (en) 2008-06-13 2024-05-07 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US12064979B2 (en) 2008-06-13 2024-08-20 Kateeva, Inc. Low-particle gas enclosure systems and methods
JP6083589B2 (ja) * 2012-02-13 2017-02-22 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 インクジェット装置および有機ｅｌ表示パネルの製造方法
JP5974545B2 (ja) * 2012-03-01 2016-08-23 富士ゼロックス株式会社 液滴吐出装置及び液滴吐出ヘッドのメンテナンス方法
JP5902872B2 (ja) * 2012-11-30 2016-04-13 カティーバ， インコーポレイテッド ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
KR101878084B1 (ko) 2013-12-26 2018-07-12 카티바, 인크. 전자 장치의 열 처리를 위한 장치 및 기술
JP6085578B2 (ja) * 2014-03-11 2017-02-22 住友重機械工業株式会社 膜形成方法及び膜形成装置
KR102571644B1 (ko) 2016-03-28 2023-08-28 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 제조 장치
KR102585659B1 (ko) * 2016-04-01 2023-10-06 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 제조 장치
KR102675745B1 (ko) * 2020-11-19 2024-06-19 세메스 주식회사 헤드 메인터넌스 유닛 및 기판 처리 장치
CN112439592B (zh) * 2020-11-21 2021-10-08 颍上县龙裕扬工贸有限公司 一种带有除静电装置的塑料制品加工用喷涂装置
CN114160343A (zh) * 2021-12-19 2022-03-11 苏州康辉电子科技有限公司 一种基于塑料制品加工的静电去除装置
CN114871046B (zh) * 2022-05-09 2024-04-26 南通宇华新材料科技有限公司 一种温度阈值可控的涂碳箔用烘烤装置及其温度控制方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5580607A (en) * 1991-07-26 1996-12-03 Tokyo Electron Limited Coating apparatus and method
TW459266B (en) * 1997-08-27 2001-10-11 Tokyo Electron Ltd Substrate processing method
JP3941676B2 (ja) * 2002-11-21 2007-07-04 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP4333226B2 (ja) * 2003-06-13 2009-09-16 セイコーエプソン株式会社 キャッピング装置、キャッピング方法、及び液滴吐出装置
JP2005146768A (ja) 2003-11-19 2005-06-09 Seiko Epson Corp チャンバ装置、チャンバ設備、及び液滴吐出設備、並びに電気光学装置の製造方法
JP2006150179A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Seiko Epson Corp 成膜装置及び成膜方法
JP2006326380A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学パネル及び電子機器
JP4341582B2 (ja) * 2005-05-31 2009-10-07 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置
US7857013B2 (en) 2006-04-28 2010-12-28 Toray Industries, Inc. Method for producing carbon fiber woven fabric
JP2008161750A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法
JP2009006212A (ja) * 2007-06-26 2009-01-15 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置
JP5272427B2 (ja) 2008-02-06 2013-08-28 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出方法
JP2009288278A (ja) 2008-05-27 2009-12-10 Seiko Epson Corp 液状体吐出装置、液状体吐出方法、電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法、電子機器の製造装置、及び電子機器の製造方法
JP4962413B2 (ja) 2008-05-28 2012-06-27 セイコーエプソン株式会社 液状体吐出装置、及び液状体吐出方法
JP4905414B2 (ja) 2008-06-04 2012-03-28 セイコーエプソン株式会社 液状体吐出装置、液状体の吐出方法および電気光学装置の製造方法
JP4678423B2 (ja) 2008-06-09 2011-04-27 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置、液滴吐出方法、パターン形成方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9290029B1 (en) 2014-11-20 2016-03-22 Samsung Display Co., Ltd. Inkjet print apparatus and inkjet print method
JP2019212393A (ja) * 2018-05-31 2019-12-12 住友化学株式会社 電子デバイスの製造方法及びインクジェット印刷装置の駆動方法
JP7107753B2 (ja) 2018-05-31 2022-07-27 住友化学株式会社 電子デバイスの製造方法及びインクジェット印刷装置の駆動方法

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