JP2015160759A5 - - Google Patents

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導電性複合酸化物は、プリンター、複写機関連の帯電ローラー、感光ドラム、トナーキャリア、静電ブラシ等に使用される荷電制御材として広く利用されている。さらに、樹脂等に分散させた時に透明性が高い導電性複合酸化物は埃付着防止のディスプレイ用フィルム、電磁波遮蔽膜、色素増感太陽電池、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどの内部電極や透明導電膜等に利用されている。その中でインジウムドープ酸化スズ(ITO)やアンチモンドープ酸化スズ(ATO)は近赤外線の遮蔽効果があり、可視光線を効果的に取り込みかつ近赤外線を遮蔽する材料として、近年では省エネの観点で、自動車や住宅の窓ガラス等に貼り付けるフィルムに多く利用されている。
アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭カリウム、炭酸アンモニウム、アンモニア水、アンモニアガス等を使用することができ、酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等を使用することができる。
(有機物表面処理)
樹脂への分散性を向上させるために、透明導電性複合酸化物微粉末をシランカップリング剤や有機物で表面処理してもよい。有機物表面処理としては、限定されるものではないが、例えば、カップリング剤、多価アルコール等の有機化合物被覆処理することが好ましい。表面処理に用いるカップリング剤の種類は、透明導電性複合酸化物微粉末の使用目的に応じて適宜選択することが出来、たとえばシラン系、チタネート系、ジルコネート系、アルミネート系及びジルコアルミネート系からなる群から選択された一種以上を使用することが出来る。シラン系のカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。また、チタネート系のカップリング剤としては、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネートなどが挙げられ、ジルコネート系のカップリング剤としては、ジルコニウムトリブトキシステアレートなどが挙げられ、アルミネート系のカップリング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートなどが挙げられる。また、表面処理に用いる多価アルコールも適宜選択することが出来、たとえばトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、マンニトール及びソルビトールから一種以上を選択することが出来る。
[実施例1]
長軸径0.10μm及び短軸径0.01μm、軸比10.0、及び比表面積150m/gの棒状ルチル型酸化チタン粉末1500gを特殊機化製のホモミキサーを用いて純水40Lに分散させて基体粉末懸濁液とし、この基体粉末懸濁液を70℃に加温保持した。塩化第二スズ5833g及び三塩化アンチモン1030gを塩酸に溶解し、純水を加えて塩酸濃度1.9Nに調整した。さらに、200g/L酸化ナトリウムを用意した。塩化第二スズ及び三塩化アンチモンの塩酸溶液と、水酸化ナトリウム溶液とを、基体粉末懸濁液に11時間かけて並行添加し、pHを2.5とした。その後、30分間撹拌保持して熟成した。ろ液の電導度が100μS/cm以下になるまで、この懸濁液をイオン交換水を用いてデカンテーション洗浄した後、ろ過した。ろ取した固形分を110℃で20時間乾燥させた後、電気炉で575℃で焼成し、粉砕した。得られた微粉末は、酸化チタンを基体とするアンチモンドープ酸化スズの導電性複合酸化物の微粉末であり、酸化チタンTiOの比表面積当たり1.5重量%/m(SnO/TiO)の酸化スズSnOを有し、アンチモンのドープ量Sb/SnOは15重量%であった。図1に得られた導電性複合酸化物微粉末の透過型電子顕微鏡の写真を示す。得られた微粉末は長軸径0.11μmおよび短軸径が0.02μmである棒状粒子である。表1に用いたルチル型酸化チタン粒子の形状及び得られた導電性複合酸化物微粉末の物性値を示す。

Claims (7)

  1. 長軸径0.05μm以上0.15μm以下、短軸径0.01μm以上0.03μm未満、かつ、軸比が5以上の棒状のルチル型酸化チタン粒子の表面にアンチモンドープ酸化スズが被覆された、体積抵抗100Ω・cm以下、かつ、比表面積40m/g以上70m/g以下であることを特徴とする透明導電性複合酸化物微粉末。
  2. アンチモンドープ酸化スズは、アンチモンをSnOに対して、Sbとして10〜25重量%ドープした酸化スズである請求項1に記載の透明導電性複合微粉末。
  3. 請求項1に記載の透明導電性複合微粉末を50〜80重量%の比率で、透明樹脂含有分散媒に分散させてなる分散液。
  4. 請求項3に記載の分散液を硬化させて得られる、透明導電性複合微粉末を含有する透明導電性膜。
  5. 膜厚2μmにおいて、可視光の光透過率が85%以上、ヘーズが3%以下及び表面抵抗率が1×1010Ω/□以下であることを特徴とする、請求項4に記載の透明導電性膜。
  6. 膜厚2〜6μmにおいて、紫外線遮蔽性及び赤外線遮蔽性を有することを特徴とする、請求項4又は5に記載の透明導電性膜。
  7. 長軸径0.05μm以上0.15μm以下、短軸径0.01μm以上0.03μm未満、かつ、軸比が5以上の棒状のルチル型酸化チタン粒子の表面に、湿式法で、アンチモンをSnOに対して、Sbとして10〜25重量%ドープした酸化スズを、当該ルチル型酸化チタン粒子の比表面積当たり1〜2重量%/mで被覆し、酸化性雰囲気中で焼成温度400〜700℃で焼成することを特徴とする透明導電性複合酸化物微粉末の製造法。
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