JP2015152782A - パターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
EUVリソグラフィーにおいては、レーザーのパワーが低いことと反射ミラーの光の減衰のための光量低下によって、ウェハ面に到達する光の強度が低い。低い光量でスループットを稼ぐために高感度レジストの開発が急務である。しかしながら、レジストの感度を上げると解像度とエッジラフネス(LER:Line Edge Roughness、LWR:Line Width Roughness)が劣化するという問題があり、感度とのトレードオフの関係が指摘されている。
環境の影響を遮断するためにはレジストの上層に保護膜を形成することが有効である。アミンクエンチャーが添加されていなかった、t−BOC(tertiary−butoxy carbonyl)で保護されたポリヒドロキシスチレンベースのKrFエキシマレーザー用の初期型の化学増幅型レジストには保護膜の適用が有効であった。ArF液浸リソグラフィーの初期段階に於いても、水への酸発生剤の流出を防いでこれによるT−top形状防止のために保護膜が適用された。
ここで、EUVリソグラフィープロセスに於いてもレジスト膜の上層に保護膜を形成することが提案されている(例えば、非特許文献1)。保護膜を形成することによって環境耐性を向上させることが出来、レジスト膜からのアウトガスを低減させることができる。
非特許文献1では、OOB光を遮断する保護膜をレジスト上層に設けることの優位性が示されている。
前記有機溶剤現像液は、2−オクタノン、2−ノナノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、乳酸イソブチル、乳酸アミル、乳酸イソアミル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル、2−ヒドロキシイソ酪酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、蟻酸ベンジル、蟻酸フェニルエチル、3−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸2−フェニルエチルからなる群より選ばれるいずれか1種以上であることが好ましい。
前記パターン形成方法は、前記エーテル系溶媒に加えて、炭素数7乃至12の炭化水素化合物の溶剤を含有するレジスト保護膜の材料を用いることが好ましい。
前記炭素数7乃至12の炭化水素化合物の1気圧における沸点が85℃以上250℃以下の範囲内であることが好ましい。
前記有機溶剤現像液による現像によってネガパターンを形成する段階は、前記有機溶剤現像液によりフォトレジスト層の現像と前記レジスト保護膜の剥離とを同時に行う段階を含むことが好ましい。
しかしながら、ヘキサフルオロアルコール基を含有するポリマーは、レジスト膜へのダメージが極めて少ないエーテル系の溶剤に溶解するというメリットがある。
ラジカル重合開始剤としては特に限定されるものではないが、例として2、2’−アゾビス(4−メトキシ−2、4−ジメチルバレロニトリル)、2、2’−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル)、2、2’−アゾビスイソブチロニトリル、2、2’−アゾビス(2、4、4−トリメチルペンタン)等のアゾ系化合物、tert−ブチルパーオキシピバレート、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキシラウレート等の過酸化物系化合物、また水溶性開始剤としては過硫酸カリウムのような過硫酸塩、さらには過硫酸カリウムや過酸化水素等の過酸化物と亜硫酸ナトリウムのような還元剤の組み合わせからなるレドックス系開始剤が例示される。重合開始剤の使用量は、種類、重合反応条件等に応じて適宜変更可能であるが、通常は重合させるべき単量体全量に対して0.001重量%〜5重量%、特に0.01重量%〜2重量%が採用される。
このようにして得られる本発明の一実施形態による重合体の溶液又は分散液から、媒質である有機溶媒又は水を除去する方法としては、公知の方法のいずれも利用できるが、例を挙げれば再沈澱濾過又は減圧下での加熱留出等の方法がある。
酸発生剤の具体例としては、特開2008−111103号公報の段落[0122]〜[0142]に記載されている。
レジスト保護膜の材料に酸発生剤を添加することによって現像後のレジストパターン間のブリッジ欠陥を低減させる効果がある。
本発明の一実施形態によるパターン形成方法は、少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、該フォトレジスト膜の上に、前記本発明の一実施形態によるレジスト保護膜の材料を用いてレジスト保護膜を形成する工程と、露光する工程と、現像液を用いて現像する工程を含む。
成膜方法としては、例えば、スピンコート法などが挙げられる。この時、フォトレジスト膜材料のスピンコーティングにおけるディスペンス量を削減するために、フォトレジスト溶媒あるいはフォトレジスト溶媒と混用する溶液で基板を塗らした状態でフォトレジスト膜材料をディスペンスしスピンコートするのが好ましい(例えば、特開平9−246173号公報参照)。これにより、フォトレジスト膜材料の溶液の基板への広がりが改善され、フォトレジスト膜材料のディスペンス量を削減できる。
成膜方法としては、例えば、スピンコート法などが挙げられる。レジスト保護膜の材料のスピンコートにおいても、前述のフォトレジスト膜と同様のプロセスが考えられ、レジスト保護膜の材料の塗布前にフォトレジスト膜の表面を溶媒で塗らしてからレジスト保護膜材料を塗布してもよい。形成するレジスト保護膜の膜厚は2nm〜200nm、特には5nm〜50nmとすることが好ましい。フォトレジスト膜の表面を溶媒で塗らすには回転塗布法、ベーパープライム法が挙げられるが、回転塗布法がより好ましく用いられる。この時使用する溶媒としては、前述のフォトレジスト膜を溶解させないエーテル系溶媒か、これに加えて炭化水素系溶媒の混合溶媒とするのがより好ましい。
露光時の環境としては、EUV、EB共に真空中である。
露光後、必要に応じてベーク(ポストエクスポジュアーベーク;PEB)を行い、現像を行う。
現像工程では、例えば、有機溶剤現像液で3秒〜300秒間現像を行う。有機溶剤現像液としては2−オクタノン、2−ノナノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、乳酸イソブチル、乳酸アミル、乳酸イソアミル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル、2−ヒドロキシイソ酪酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、蟻酸ベンジル、蟻酸フェニルエチル、3−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸2−フェニルエチルからなる群から選ばれるいずれか1種以上の溶剤を挙げることが出来る。この場合、現像工程において、アルカリ現像液を用いて現像し、前記フォトレジスト膜にレジストパターンを形成すると同時に、フォトレジスト膜上のレジスト保護膜の剥離を行うのが好ましい。このようにすれば、従来装置に剥離装置を増設することなく、より簡便にレジスト保護膜の剥離を行うことができる。
炭素数8〜12のエーテル化合物としては、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ−sec−ブチルエーテル、ジ−n−ペンチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ−sec−ペンチルエーテル、ジ−t−アミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテルからなる群から選ばれるいずれか1種以上の溶剤が挙げられる。
前述の溶剤に加えてトルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、t−ブチルベンゼン、メシチレン等の芳香族系の溶剤を用いることもできる。
リンスを行うことによってレジストパターンの倒れや欠陥の発生を低減させることができる。また、リンスは必ずしも必須ではなく、リンスを行わないことによって溶剤の使用量を削減することが出来る。
[実施例、比較例]
次に、上記方法でレジスト保護膜を形成したシリコン基板を用いて、酢酸−n−ブチル溶液で30秒間現像し、現像後のレジスト保護膜の膜厚を測定した。その結果を表2に示す。現像後、レジスト保護膜は全て溶解していることが確認された。
フォトレジストとしては、信越化学工業(株)製EUVレジスト、SEVR−B1を用いた。200℃ベーク後、100℃で90秒ヘキサメチルジシラザン(HMDS)ベーパープライム処理した直径300mmのシリコンウェハ上にレジストを塗布し、105℃で60秒間ベークして膜厚60nmのレジスト膜を作成した。レジスト保護膜を形成する場合は、レジスト上にレジスト保護膜用液を塗布し、100℃で60秒間ベークして20nm膜厚のレジスト保護膜を形成した。これをASML社製EUVスキャナーNXE3100(NA0.25、σ0.8、通常照明)で、1ショット26×33mmの面積で34nmラインアンドスペースパターンが1:1になっている露光量でウェハ全面を露光し、85℃で60秒間ベーク(PEB)を行い、酢酸−n−ブチルで30秒間現像した。ショット内50点のラインアンドスペースのライン寸法を測長SEMで測定し、ショット内寸法の最大と最小の寸法差を求めた。この場合、OOB光の影響が大きい程ショット内寸法差が大きくなる。ショット中心のエッジラフネス(LWR)も同時に測定した。
本発明のレジスト保護膜は、レジスト膜へのダメージが小さいアミルエーテル溶剤を用いていることからLWRが良好で、ショット内寸法差を小さくすることが出来る。アミルエーテル溶剤に溶解させるためには、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール基を有するスチレンの繰り返しの高分子化合物が必要である。比較TC−1、比較TC−2よりも本発明のパターン形成方法によるパターンはエッジラフネスが小さい特徴を有する。比較TC−3では、芳香族基を有していないためにOOB光を遮断する効果が小さく、ショット内寸法差が大きい。
Claims (9)
- 前記レジスト保護膜は、下記一般式(2)で表される1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール基を有するスチレンの繰り返し単位pに加えて、繰り返し単位q1乃至q4からなる群から選ばれるいずれか1種以上の繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物をベースとすることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
R2は炭素数6乃至20のアリール基、アルケニル基であり、R3、R4、R5、R6は同一又は異種の水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1乃至10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数2乃至6のアルケニル基、炭素数6乃至10のアリール基、アルコキシ基、アシロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子であり、
前記アリール基は、ヒドロキシ基、炭素数1乃至10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
vは1又は2であり、
0<p≦1.0、0≦q1<1.0、0≦q2<1.0、0≦q3<1.0、0≦q4<1.0、0≦q1+q2+q3+q4<1.0である。) - 前記レジスト保護膜の材料は、前記有機溶剤現像液に可溶性であることを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン形成方法。
- 前記有機溶剤現像液は、2−オクタノン、2−ノナノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、乳酸イソブチル、乳酸アミル、乳酸イソアミル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル、2−ヒドロキシイソ酪酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、蟻酸ベンジル、蟻酸フェニルエチル、3−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸2−フェニルエチルからなる群より選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール基を有するスチレンの繰り返し単位pを有する高分子化合物が、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ−n−ペンチルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ−secブチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ−sec−ペンチルエーテル、ジ−t−アミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテルからなる群から選ばれるいずれか1種のエーテル系溶媒に溶解しているレジスト保護膜の材料を用いることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記エーテル系溶媒に加えて、炭素数7乃至12の炭化水素化合物の溶剤を含有するレジスト保護膜の材料を用いることを特徴とする請求項5に記載のパターン形成方法。
- 前記炭素数7乃至12の炭化水素化合物の1気圧における沸点が85℃以上250℃以下の範囲内であることを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記炭素数7乃至12の炭化水素化合物がn−ヘプタン、イソヘプタン、3−メチルヘキサン、2,3−ジメチルペンタン、3−エチルペンタン、1,6−ヘプタジエン、5−メチル−1−ヘキシン、ノルボルナン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、1−メチル−1,4−シクロヘキサジエン、1−ヘプチン、2−ヘプチン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、1,3−ジメチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、1−メチル−1−シクロヘキセン、3−メチル−1−シクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、4−メチル−1−シクロヘキセン、2−メチル−1−ヘキセン、2−メチル−2−ヘキセン、1−ヘプテン、2−ヘプテン、3−ヘプテン、n−オクタン、2,2−ジメチルヘキサン、2,3−ジメチルヘキサン、2,4−ジメチルヘキサン、2,5−ジメチルヘキサン、3,3−ジメチルヘキサン、3,4−ジメチルヘキサン、3−エチル−2−メチルペンタン、3−エチル−3−メチルペンタン、2−メチルヘプタン、3−メチルヘプタン、4−メチルヘプタン、2,2,3−トリメチルペンタン、2,2,4−トリメチルペンタン、シクロオクタン、シクロオクテン、1,2−ジメチルシクロヘキサン、1,3−ジメチルシクロヘキサン、1,4−ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、イソプロピルシクロペンタン、2,2−ジメチル−3−ヘキセン、2,4−ジメチル−1−ヘキセン、2,5−ジメチル−1−ヘキセン、2,5−ジメチル−2−ヘキセン、3,3−ジメチル−1−ヘキセン、3,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、2−エチル−1−ヘキセン、2−メチル−1−ヘプテン、1−オクテン、2−オクテン、3−オクテン、4−オクテン、1,7−オクタジエン、1−オクチン、2−オクチン、3−オクチン、4−オクチン、n−ノナン、2,3−ジメチルヘプタン、2,4−ジメチルヘプタン、2,5−ジメチルヘプタン、3,3−ジメチルヘプタン、3,4−ジメチルヘプタン、3,5−ジメチルヘプタン、4−エチルヘプタン、2−メチルオクタン、3−メチルオクタン、4−メチルオクタン、2,2,4,4−テトラメチルペンタン、2,2,4−トリメチルヘキサン、2,2,5−トリメチルヘキサン、2,2−ジメチル−3−ヘプテン、2,3−ジメチル−3−ヘプテン、2,4−ジメチル−1−ヘプテン、2,6−ジメチル−1−ヘプテン、2,6−ジメチル−3−ヘプテン、3,5−ジメチル−3−ヘプテン、2,4,4−トリメチル−1−ヘキセン、3,5,5−トリメチル−1−ヘキセン、1−エチル−2−メチルシクロヘキサン、1−エチル−3−メチルシクロヘキサン、1−エチル−4−メチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン、イソプロピルシクロヘキサン、1,1,3−トリメチルシクロヘキサン、1,1,4−トリメチルシクロヘキサン、1,2,3−トリメチルシクロヘキサン、1,2,4−トリメチルシクロヘキサン、1,3,5−トリメチルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサン、ヒドリンダン、1,8−ノナジエン、1−ノニン、2−ノニン、3−ノニン、4−ノニン、1−ノネン、2−ノネン、3−ノネン、4−ノネン、n−デカン、3,3−ジメチルオクタン、3,5−ジメチルオクタン、4,4−ジメチルオクタン、3−エチル−3−メチルヘプタン、2−メチルノナン、3−メチルノナン、4−メチルノナン、tert−ブチルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン、イソブチルシクロヘキサン、4−イソプロピル−1−メチルシクロヘキサン、ペンチルシクロペンタン、1,1,3,5−テトラメチルシクロヘキサン、シクロドデカン、1−デセン、2−デセン、3−デセン、4−デセン、5−デセン、1,9−デカジエン、デカヒドロナフタレン、1−デシン、2−デシン、3−デシン、4−デシン、5−デシン、1,5,9−デカトリエン、2,6−ジメチル−2,4,6−オクタトリエン、リモネン、ミルセン、1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエン、α−フェランドレン、ピネン、テルピネン、テトラヒドロジシクロペンタジエン、5,6−ジヒドロジシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、1,4−デカジイン、1,5−デカジイン、1,9−デカジイン、2,8−デカジイン、4,6−デカジイン、n−ウンデカン、アミルシクロヘキサン、1−ウンデセン、1,10−ウンデカジエン、1−ウンデシン、3−ウンデシン、5−ウンデシン、トリシクロ[6.2.1.02,7]ウンデカ−4−エン、n−ドデカン、2−メチルウンデカン、3−メチルウンデカン、4−メチルウンデカン、5−メチルウンデカン、2,2,4,6,6−ペンタメチルヘプタン、1,3−ジメチルアダマンタン、1−エチルアダマンタン、1,5,9−シクロドデカトリエン、トルエン、キシレン、クメン、1,2,3−トリメチルベンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベンゼン、スチレン、αメチルスチレン、ブチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、イソブチルベンゼン、シメン、ジエチルベンゼン、2−エチル−p−キシレン、2−プロピルトルエン、3−プロピルトルエン、4−プロピルトルエン、1,2,3,5−テトラメチルトルエン、1,2,4,5−テトラメチルトルエン、テトラヒドロナフタレン、4−フェニル−1−ブテン、tert−アミルベンゼン、アミルベンゼン、2−tert−ブチルトルエン、3−tert−ブチルトルエン、4−tert−ブチルトルエン、5−イソプロピル−m−キシレン、ネオペンチルベンゼン、3−メチルエチルベンゼン、tert−ブチル−3−エチルベンゼン、4−tert−ブチル−o−キシレン、5−tert−ブチル−m−キシレン、tert−ブチル−p−キシレン、1,2−ジイソプロピルベンゼン、1,3−ジイソプロピルベンゼン、1,4−ジイソプロピルベンゼン、ジプロピルベンゼン、3,9−ドデカジイン、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、1,3,5−トリエチルベンゼン、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンからなる群から選ばれるいずれか1種以上の炭化水素系溶媒であることを特徴とする請求項6又は7に記載のパターン形成方法。
- 前記有機溶剤現像液による現像によってネガパターンを形成する段階は、前記有機溶剤現像液によりフォトレジスト層の現像と前記レジスト保護膜の剥離とを同時に行う段階を含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
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