JP2015108732A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015108732A5 JP2015108732A5 JP2013251616A JP2013251616A JP2015108732A5 JP 2015108732 A5 JP2015108732 A5 JP 2015108732A5 JP 2013251616 A JP2013251616 A JP 2013251616A JP 2013251616 A JP2013251616 A JP 2013251616A JP 2015108732 A5 JP2015108732 A5 JP 2015108732A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- insulating film
- film
- contact hole
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 347
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 64
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 31
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 24
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 12
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 210000001061 Forehead Anatomy 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N Indium(III) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001730 Nitrous Oxide Drugs 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Description
本発明に係る薄膜トランジスタ基板は、画素が複数マトリックス状に配列された薄膜トランジスタ基板であって、前記画素は、基板上の複数の部分に配設された半導体膜と、前記基板上の第1の部分の前記半導体膜上に配設された第1の絶縁膜で形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に配設され、第1の導電膜で形成されたゲート電極とを少なくとも有する薄膜トランジスタと、下層に前記半導体膜と前記第1の絶縁膜との積層膜を有し、前記第1の導電膜で形成されたソース配線と、前記薄膜トランジスタおよび前記ソース配線を覆うように設けられた第2の絶縁膜と、前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通すると共に、前記ゲート絶縁膜を厚み方向に貫通して前記第1の部分の前記半導体膜に達するソース電極部コンタクトホールおよびドレイン電極部コンタクトホールと、前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート電極に達するゲート電極部コンタクトホールと、前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース配線に達するソース配線部コンタクトホールと、前記ソース電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続され、第2の導電膜で形成されたソース電極と、前記ソース電極から延在し前記ソース配線部コンタクトホールを通して前記ソース配線に接続される前記第2の導電膜で形成されたソース電極接続配線と、前記ドレイン電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続され、前記第2の導電膜で形成されたドレイン電極と、前記ゲート電極部コンタクトホールを通して前記ゲート電極に接続され、前記第2の導電膜で形成されたゲート配線と、前記ドレイン電極から延在し、前記ソース配線および前記ゲート配線で規定される画素領域に対応する前記第2の絶縁膜上を覆う前記第2の導電膜で形成された画素電極と、前記第2の絶縁膜を含む前記基板上面を覆う第3の絶縁膜と、前記第3の絶縁膜を間に挟んで、前記画素電極に対向して配置された、第3の導電膜で形成される対向電極と、を備え、前記対向電極は、表面に設けられた複数のスリットを有している。
<実施の形態1>
<TFT基板の画素の構成>
まず、図1および図2を参照して、実施の形態1のTFT基板100の構成について説明する。なお、本発明はTFT基板に関するものであるが、特に画素の構成に特徴を有するので、以下においては画素の構成について説明する。図1は、実施の形態1に係る画素の平面構成を示す平面図であり、図2は、図1におけるX−X線での断面構成(ソース配線部、TFT部の断面構成およびFFS透過画素部の断面構成)、Y−Y線での断面構成(ゲート端子部の断面構成)およびZ−Z線での断面構成(ソース端子部の断面構成)を示す断面図である。なお、以下においてはTFT基板100は透過型のFFS方式の液晶表示装置に用いるものとして説明する。
<TFT基板の画素の構成>
まず、図1および図2を参照して、実施の形態1のTFT基板100の構成について説明する。なお、本発明はTFT基板に関するものであるが、特に画素の構成に特徴を有するので、以下においては画素の構成について説明する。図1は、実施の形態1に係る画素の平面構成を示す平面図であり、図2は、図1におけるX−X線での断面構成(ソース配線部、TFT部の断面構成およびFFS透過画素部の断面構成)、Y−Y線での断面構成(ゲート端子部の断面構成)およびZ−Z線での断面構成(ソース端子部の断面構成)を示す断面図である。なお、以下においてはTFT基板100は透過型のFFS方式の液晶表示装置に用いるものとして説明する。
ゲート配線17の一方の端部はゲート端子7に電気的に接続されており、ゲート端子7の上には、ゲート端子部第2コンタクトホール28と、これを通してゲート端子7に接続するゲート端子パッド32とが形成されている。また、ソース配線6の一方の端部はソース端子8に接続されており、ソース端子8の上には、ソース端子部第2コンタクトホール29とこれを通してソース端子8に接続するソース端子パッド33とが形成されている。
また、平坦化絶縁膜9上には導電膜が形成され、当該導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4と接続されたゲート配線17、ゲート端子部第1コンタクトホール15を通してゲート端子7と接続されたゲート端子引き出し電極23、およびソース端子部第1コンタクトホール16を通してソース端子8と接続されたソース端子引き出し電極24がそれぞれ形成されている。
すなわち、本実施の形態に係るTFT基板100の対向スリット電極31は、TFTアクティブマトリックス基板の画像表示領域全体の画素間を横断的に連続したパターンで形成され、画像表示領域の外側において、画像表示領域の外縁領域(額縁領域)に形成された信号配線(図示せず)に接続される構成となっている。
層間絶縁膜25には、層間絶縁膜25を厚さ方向に貫通してゲート端子引き出し電極23の表面に達するゲート端子部第2コンタクトホール28、およびソース端子引き出し電極24の表面に達するソース端子部第2コンタクトホール29が形成され、それぞれのコンタクトホール28、29を通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32およびソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33が形成される。
続けて、第3回目の写真製版工程で、感光性を有する平坦化絶縁膜9をパターニングして、ゲート電極部コンタクトホール10、ソース電極部コンタクトホール11、ソース配線部コンタクトホール12、ドレイン(画素)電極部コンタクトホール13、ゲート端子部第1コンタクトホール15およびソース端子部第1コンタクトホール16を同時に形成する。
このとき、ソース電極部コンタクトホール11およびドレイン(画素)電極部コンタクトホール13の底部にはゲート絶縁膜3が露出するので、次に、平坦化絶縁膜9をマスクとして、露出したゲート絶縁膜3のみを選択的にエッチングして、下層の半導体膜2の表面を露出させることで、半導体膜2に達するソース電極部コンタクトホール11およびドレイン(画素)電極部コンタクトホール13が完成する。これにより、図7および図8に示すように、平坦化絶縁膜9を厚さ方向に貫通する複数のコンタクトホールを得る。なお、SiOで構成されるゲート絶縁膜3は、CHF3およびCF4などのフッ素を含むガスと酸素(O2)ガスとを用いたドライエッチング法によりエッチングすることができる。なお、図7は図1に対応する平面図であり、図8は図2に対応する断面図である。
次に、平坦化絶縁膜9上全面に透明導電膜を形成し、当該透明導電膜上に、第4回目の写真製版工程でフォトレジストパターンを形成した後、これをマスクとして、上記透明導電膜をパターニングすることで、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4と接続されたゲート配線17、ゲート端子部第1コンタクトホール15を通してゲート端子7と接続されたゲート端子引き出し電極23、およびソース端子部第1コンタクトホール16を通してソース端子8と接続されたソース端子引き出し電極24をそれぞれ形成する。
ここで、対向スリット電極31は、ソース配線6をまたいで、隣接する画素領域の対向スリット電極31と連続したパターンとなるように形成される。これらの対向スリット電極31は、TFT基板100の画像表示領域全体の画素間を横断的に連続するパターンとなるように形成され、画像表示領域の外側において、額縁領域に形成された信号配線(図示せず)に接続される。
また、同時に、上記導電膜を用いて、層間絶縁膜25に形成されたゲート端子部第2コンタクトホール28、およびソース端子部第2コンタクトホール29を通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32、およびソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33を形成する。
まず、図13に示す工程において、ガラス等の透明絶縁性基板1上全面に、半導体膜202、絶縁膜203および導電膜204をこの順に形成する。本変形例1では、半導体膜202として酸化インジウム(In2O3)に酸化ガリウム(Ga2O3)および酸化亜鉛(ZnO)を添加したInGaZnO系の酸化物半導体を用いる。また絶縁膜203として2酸化シリコン(SiO)膜を用い、導電膜204として金属のモリブデン(Mo)を用いる。なお、これらの膜の具体的な製造方法は実施の形態1と同じであるので、説明は省略する。
次に、図15に示す工程において、予め準備したフォトマスク91を用いてポジ型の感光性を有するフォトレジスト101の露光を行う。フォトマスク91には、TFT素子A、ソース配線6、ゲート端子7およびソース端子8のパターンを形成するための開口部(露光光透過領域)91aと遮光部(露光光遮光領域)91bが形成されている。開口部91aは露光光92がそのまま透過してフォトレジスト101に達する露光領域101aに対応し、遮光部91bは露光光が遮光されるフォトレジスト未露光領域101bに対応する。またフォトマスク91のTFT素子Aの両端領域には半透過膜が形成された露光光半透過領域91cが形成されている。この露光光半透過領域91cは、元の露光光92の強度の40〜60%の減衰された露光光94が透過するフォトレジスト中間露光領域101cに対応する。このように中間露光領域を設けた写真製版の方法を、以下、ハーフトーン法と記載する。
図21に示すようにTFT基板100Aは、ゲート配線17から分岐してTFT素子Aの形成領域(TFT部)へ延びた部分が、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4に接続されていると共に、ゲート電極部コンタクトホール10上にはゲート電極部上層コンタクトホール26が設けられ、ゲート電極部上層コンタクトホール26を通してゲート配線17上に接続される上層ゲート配線30が形成されている。
また、同時に、上記導電膜を用いて、層間絶縁膜25に形成されたゲート端子部第2コンタクトホール28、ソース端子部第2コンタクトホール29およびゲート電極部上層コンタクトホール26のそれぞれを通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32、ソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33およびゲート配線17上に接続された上層ゲート配線30を形成する。なお、上記フォトレジストパターンは、上層ゲート配線30がゲート配線17上にも形成されるようにパターニングされる。
図25に示すようにTFT基板100Bは、ゲート配線17から分岐してTFT素子Aの形成領域(TFT部)へ延びた部分が、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4に接続されていると共に、ゲート電極部コンタクトホール10上およびゲート配線17上に上層ゲート配線30が形成され、ゲート電極部コンタクトホール10上にはゲート電極部上層コンタクトホール26が設けられている。また、上層ゲート配線30上およびゲート端子パッド32上には導電膜で最上層ゲート配線34が設けられている。
次に層間絶縁膜25上全面に透明導電膜および金属膜をこの順に形成し、当該金属膜上に、第6回目の写真製版工程でハーフトーン法を用いることでフォトレジストパターンを形成した後、これをマスクとして、上記金属膜および透明導電膜をパターニングすることで、櫛歯状の対向スリット電極31、層間絶縁膜25に形成されたゲート端子部第2コンタクトホール28、ソース端子部第2コンタクトホール29およびゲート電極部上層コンタクトホール26のそれぞれを通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32、ソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33およびゲート配線17上に接続された上層ゲート配線30を形成する。なお、これらの電極および配線の上には金属膜が形成されている。
次に、第2回目の写真製版工程で、パターンPA、P0〜P3上にフォトレジストパターンを形成した後、これをマスクとしてPAN溶液を用いたウエットエッチング法により、Mo膜をエッチングしてパターニングし、その後、フォトレジストパターンを除去することで図35および図36に示すように、TFT素子Aのゲート電極4、ソース配線6、ゲート端子7およびソース端子8を得る。なお、図35は図31に対応する平面図であり、図36は図32に対応する断面図である。
続けて、第3回目の写真製版工程で、感光性を有する平坦化絶縁膜9をパターニングして、ゲート電極部コンタクトホール10、ソース電極部コンタクトホール11、ソース配線部コンタクトホール12、ドレイン(画素)電極部コンタクトホール13、共通電極接続部コンタクトホール14、ゲート端子部第1コンタクトホール15およびソース端子部第1コンタクトホール16を同時に形成する。
このとき、ソース電極部コンタクトホール11およびドレイン(画素)電極部コンタクトホール13の底部にはゲート絶縁膜3が露出するので、次に、平坦化絶縁膜9をマスクとして、露出したゲート絶縁膜3のみを選択的にエッチングして、下層の半導体膜2の表面を露出させることで、半導体膜2に達するソース電極部コンタクトホール11およびドレイン(画素)電極部コンタクトホール13が完成する。これにより、図37および図38に示すように、平坦化絶縁膜9を厚さ方向に貫通する複数のコンタクトホールを得る。なお、SiOで構成されるゲート絶縁膜3は、CHF3およびCF4などのフッ素を含むガスと酸素(O2)ガスとを用いたドライエッチング法によりエッチングすることができる。なお、図37は図31に対応する平面図であり、図38は図32に対応する断面図である。
次に、平坦化絶縁膜9上全面に透明導電膜を形成し、当該透明導電膜上に、第4回目の写真製版工程でフォトレジストパターンを形成した後、これをマスクとして、上記透明導電膜をパターニングすることで、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4と接続されたゲート配線17、ゲート端子部第1コンタクトホール15を通してゲート端子7と接続されたゲート端子引き出し電極23、およびソース端子部第1コンタクトホール16を通してソース端子8と接続されたソース端子引き出し電極24をそれぞれ形成する。
ここで、対向スリット電極31は、ソース配線6をまたいで、隣接する画素領域の対向スリット電極31と連続したパターンとなるように形成される。これらの対向スリット電極31は、TFT基板200の画像表示領域全体の画素間を横断的に連続するパターンとなるように形成され、画像表示領域の外側において、額縁領域に形成された信号配線(図示せず)に接続される。
また、同時に、上記導電膜を用いて、層間絶縁膜25に形成されたゲート端子部第2コンタクトホール28、およびソース端子部第2コンタクトホール29を通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32、およびソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33を形成する。対向(共通)電極部コンタクトホール27を通して共通電極5に接続される上層共通電極接続配線35を、対向スリット電極31と一体で形成する。なお、透明導電膜の製造方法および透明導電膜のエッチング方法は、実施の形態1で説明しているので説明は省略する。
<効果>
以上説明したように、実施の形態2に係るTFT基板の製造方法によれば、各画素に共通電極5を設け、それを上層共通電極接続配線35で電気的に接続する構成としたので、画像表示領域全体で各画素の共通電極抵抗が低減でき、大型パネルにも対応可能となる。
以上説明したように、実施の形態2に係るTFT基板の製造方法によれば、各画素に共通電極5を設け、それを上層共通電極接続配線35で電気的に接続する構成としたので、画像表示領域全体で各画素の共通電極抵抗が低減でき、大型パネルにも対応可能となる。
図43および図44を参照して、本変形例に係るTFT基板200Aの構成について説明する。図43は、変形例に係る画素の平面構成を示す平面図であり、図44は、図43におけるX−X線での断面構成(ソース配線部、TFT部、FFS透過画素部、共通電極部および共通電極接続部の断面構成)、Y−Y線での断面構成(ゲート端子部の断面構成)およびZ−Z線での断面構成(ソース端子部の断面構成)を示す断面図である。なお、図31および図32を用いて説明したTFT基板200と同一の構成については同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
次に、TFT基板200Aの製造方法について説明する。実施の形態2において図33〜図38を用いて説明した工程を経た後、ゲート電極部コンタクトホール10、ソース電極部コンタクトホール11、ソース配線部コンタクトホール12、ドレイン(画素)電極部コンタクトホール13、共通電極接続部コンタクトホール14、ゲート端子部第1コンタクトホール15およびソース端子部第1コンタクトホール16内を含む平坦化絶縁膜9の上に透明導電膜を形成する。
次に、当該透明導電膜上に、第4回目の写真製版工程でフォトレジストパターンを形成した後、これをマスクとして、上記透明導電膜をパターニングすることで、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4と接続されたゲート配線17、ゲート端子部第1コンタクトホール15を通してゲート端子7と接続されたゲート端子引き出し電極23、ソース端子部第1コンタクトホール16を通してソース端子8と接続されたソース端子引き出し電極24、共通電極接続部コンタクトホール14を通して共通電極5と接続された共通電極接続配線22をそれぞれ形成する。
また、同時に、上記導電膜を用いて、層間絶縁膜25に形成されたゲート端子部第2コンタクトホール28、ソース端子部第2コンタクトホール29および対向(共通)電極部コンタクトホール27を通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32、ソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33、共通電極接続配線22に接続される上層共通電極接続配線35を、対向スリット電極31と一体で形成する。なお、透明導電膜の製造方法および透明導電膜のエッチング方法は、実施の形態1で説明しているので説明は省略する。
以上説明したように、6回の写真製版工程を経て、図43および図44に示したTFT基板200Aを得ることができる。
以上説明した変形例に係るTFT基板200Aは、実施の形態2の製造方法と同様に6回の写真製版工程で得ることができると共に、各画素に共通電極5を設け、それを上層共通電極接続配線35で電気的に接続する構成としたので、画像表示領域全体で各画素の共通電極抵抗が低減でき、大型パネルにも対応可能となる。
また、上層共通電極接続配線35に加えて共通電極接続配線22も配設することで、いわゆる冗長配線構造となって、共通電極接続配線の断線を低減して、断線による不良の発生を大幅に低減できる。
また、平坦化絶縁膜9上には導電膜が形成され、当該導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4と接続されたゲート配線17、ゲート端子部第1コンタクトホール15を通してゲート端子7と接続されたゲート端子引き出し電極23、およびソース端子部第1コンタクトホール16を通してソース端子8と接続されたソース端子引き出し電極24がそれぞれ形成されている。
層間絶縁膜25には、層間絶縁膜25を厚さ方向に貫通してゲート端子引き出し電極23の表面に達するゲート端子部第2コンタクトホール28、およびソース端子引き出し電極24の表面に達するソース端子部第2コンタクトホール29が形成され、それぞれのコンタクトホール28、29を通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32およびソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33が形成される。
次に、シラン(SiH4)ガスと一酸化二窒素(N2O)ガスとを用いたプラズマCVD法で、SiOで構成される絶縁膜を形成する。この絶縁膜はTFT素子Aにおいてゲート絶縁膜3として機能する。
続けて、第3回目の写真製版工程で、感光性を有する平坦化絶縁膜9をパターニングして、ゲート電極部コンタクトホール10、ソース電極部コンタクトホール11、ソース配線部コンタクトホール12、ドレイン(画素)電極部コンタクトホール13、ゲート端子部第1コンタクトホール15およびソース端子部第1コンタクトホール16を同時に形成する。
このとき、ソース電極部コンタクトホール11およびドレイン(画素)電極部コンタクトホール13の底部にはゲート絶縁膜3が露出するので、次に、平坦化絶縁膜9をマスクとして、露出したゲート絶縁膜3のみを選択的にエッチングして、下層の半導体膜2の表面を露出させることで、半導体膜2に達するソース電極部コンタクトホール11およびドレイン(画素)電極部コンタクトホール13が完成する。これにより、図56および図57に示すように、平坦化絶縁膜9を厚さ方向に貫通する複数のコンタクトホールを得る。なお、SiOで構成されるゲート絶縁膜3は、CHF3およびCF4などのフッ素を含むガスと酸素(O2)ガスとを用いたドライエッチング法によりエッチングすることができる。なお、図56は図50に対応する平面図であり、図57は図51に対応する断面図である。
次に、平坦化絶縁膜9上全面に透明導電膜を形成し、当該透明導電膜上に、第4回目の写真製版工程でフォトレジストパターンを形成した後、これをマスクとして、上記透明導電膜をパターニングすることで、ゲート電極部コンタクトホール10を通してゲート電極4と接続されたゲート配線17、ゲート端子部第1コンタクトホール15を通してゲート端子7と接続されたゲート端子引き出し電極23、およびソース端子部第1コンタクトホール16を通してソース端子8と接続されたソース端子引き出し電極24をそれぞれ形成する。
ここで、対向スリット電極31は、ソース配線6をまたいで、隣接する画素領域の対向スリット電極31と連続したパターンとなるように形成される。これらの対向スリット電極31は、TFT基板300の画像表示領域全体の画素間を横断的に連続するパターンとなるように形成され、画像表示領域の外側において、額縁領域に形成された信号配線(図示せず)に接続される。
また、同時に、上記導電膜を用いて、層間絶縁膜25に形成されたゲート端子部第2コンタクトホール28、およびソース端子部第2コンタクトホール29を通して、ゲート端子引き出し電極23に接続されたゲート端子パッド32、およびソース端子引き出し電極24に接続されたソース端子パッド33を形成する。
また、実施の形態2およびその変形例のように、各画素内にさらに共通電極5を設けて、共通電極接続配線22または上層共通電極接続配線35によって電気的に接続するような構成とすれば、画像表示領域全体の各画素の共通電極抵抗が低減でき、大型パネルにも対応可能となる。
1 透明絶縁性基板、2 半導体膜、3 ゲート絶縁膜、4 ゲート電極、6 ソース配線、7 ゲート端子、8 ソース端子、9 平坦化絶縁膜、17 ゲート配線、18 ソース電極、19 ソース電極接続配線、20 ドレイン電極、21 画素電極、23 ゲート端子引き出し電極、24 ソース端子引き出し電極、25 層間絶縁膜、36 メタル遮光膜 30 上層ゲート配線、31 対向スリット電極、32 ゲート端子パッド、33 ソース端子パッド、34 最上層ゲート配線。
Claims (9)
- 画素が複数マトリックス状に配列された薄膜トランジスタ基板であって、
前記画素は、
基板上の複数の部分に配設された半導体膜と、
前記基板上の第1の部分の前記半導体膜上に配設された第1の絶縁膜で形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に配設され、第1の導電膜で形成されたゲート電極と、を少なくとも有する薄膜トランジスタと、
下層に前記半導体膜と前記第1の絶縁膜との積層膜を有し、前記第1の導電膜で形成されたソース配線と、
前記薄膜トランジスタおよび前記ソース配線を覆うように設けられた第2の絶縁膜と、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通すると共に、前記ゲート絶縁膜を厚み方向に貫通して前記第1の部分の前記半導体膜に達するソース電極部コンタクトホールおよびドレイン電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート電極に達するゲート電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース配線に達するソース配線部コンタクトホールと、
前記ソース電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続され、第2の導電膜で形成されたソース電極と、
前記ソース電極から延在し前記ソース配線部コンタクトホールを通して前記ソース配線に接続される前記第2の導電膜で形成されたソース電極接続配線と、
前記ドレイン電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続され、前記第2の導電膜で形成されたドレイン電極と、
前記ゲート電極部コンタクトホールを通して前記ゲート電極に接続され、前記第2の導電膜で形成されたゲート配線と、
前記ドレイン電極から延在し、前記ソース配線および前記ゲート配線で規定される画素領域に対応する前記第2の絶縁膜上を覆う前記第2の導電膜で形成された画素電極と、
前記第2の絶縁膜を含む前記基板上面を覆う第3の絶縁膜と、
前記第3の絶縁膜を間に挟んで、前記画素電極に対向して配置された、第3の導電膜で形成される対向電極と、を備え、
前記対向電極は、表面に設けられた複数のスリットを有する、薄膜トランジスタ基板。 - 前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子引き出し電極に達するゲート端子部第2コンタクトホールと、
前記ゲート端子部第2コンタクトホールを通して前記ゲート端子引き出し電極に接続され、前記第3の導電膜で形成されたゲート端子パッドと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子引き出し電極に達するソース端子部第2コンタクトホールと、
前記ソース端子部第2コンタクトホールを通して前記ソース端子引き出し電極に接続され、前記第3の導電膜で形成されたソース端子パッドと、を備える、請求項4記載の薄膜トランジスタ基板。 - 前記基板上の第2の部分に配設された前記半導体膜と、その上に配設された前記第1の絶縁膜と、その上に配設された前記第1の導電膜で形成された共通電極と、
前記共通電極上の前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して、前記共通電極に達する共通電極接続部コンタクトホールと、
前記共通電極接続部コンタクトホールを通して前記共通電極に接続され、前記第2の導電膜で形成された共通電極接続配線と、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記共通電極接続配線に達する対向電極部コンタクトホールと、
前記対向電極部コンタクトホールを通して前記共通電極接続配線に接続される、前記第3の導電膜で形成され、前記対向電極と一体をなす上層共通電極接続配線と、をさらに備える、請求項1記載の薄膜トランジスタ基板。 - 画素が複数マトリックス状に配列された薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、
(a)基板上面に、半導体膜、第1の絶縁膜および第1の導電膜をこの順に形成する工程と、
(b)前記工程(a)の後、第1回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第1の導電膜、前記第1の絶縁膜および前記半導体膜をパターニングする工程と、
(c)前記工程(b)の後、第2回目の写真製版工程とエッチング工程により、
前記基板上の第1の部分の前記半導体膜上に配設された前記第1の絶縁膜で形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に配設された前記第1の導電膜で形成され、前記ゲート絶縁膜よりも平面視の面積が小さなゲート電極と、を少なくとも有する薄膜トランジスタと、
それぞれ下層に前記半導体膜と前記第1の絶縁膜との積層膜を有したソース配線、ゲート端子およびソース端子と、をパターニングする工程と、
(d)前記工程(c)の後、前記基板上面を覆う第2の絶縁膜を形成した後、第3回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第2の絶縁膜をパターニングして、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通すると共に、前記ゲート絶縁膜を厚み方向に貫通して前記第1の部分の前記半導体膜に達するソース電極部コンタクトホールおよびドレイン電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート電極に達するゲート電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース配線に達するソース配線部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子に達するゲート端子部第1コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子に達するソース端子部第1コンタクトホールと、を形成する工程と、
(e)前記工程(d)の後、前記第2の絶縁膜上面に第2の導電膜を形成し、第4回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第2の導電膜をパターニングして、
前記ゲート電極部コンタクトホールを通して前記ゲート電極と接続されたゲート配線と、
前記ソース電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたソース電極と、
前記ドレイン電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたドレイン電極と、
前記ソース電極から延在し前記ソース配線部コンタクトホールを通して前記ソース配線に接続されるソース電極接続配線と、
前記ドレイン電極から延在し、前記ソース配線および前記ゲート配線で規定される画素領域に対応する前記第2の絶縁膜上を覆う画素電極と、
前記ゲート端子部第1コンタクトホールを通して前記ゲート端子に接続されるゲート端子引き出し電極と、
前記ソース端子部第1コンタクトホールを通して前記ソース端子に接続されるソース端子引き出し電極と、を形成する工程と、
(f)前記工程(e)の後、前記基板上面を覆う第3の絶縁膜を形成し、第5回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第3の絶縁膜をパターニングして、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子引き出し電極に達するゲート端子部第2コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子引き出し電極に達するソース端子部第2コンタクトホールと、を形成する工程と、
(g)前記工程(f)の後、前記基板上面を覆う第3の導電膜を形成し、第6回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第3の導電膜をパターニングして、
前記画素電極に対向する対向電極を形成する工程と、を備える、薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - 画素が複数マトリックス状に配列された薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、
(a)基板上面に、半導体膜、第1の絶縁膜および第1の導電膜をこの順に形成する工程と、
(b)前記工程(a)の後、第1回目の写真製版工程により、前記基板上の第1の部分において、第1の膜厚部分と、それよりも薄い第2の膜厚部分と、を有した第1のレジストパターンを形成すると共に、前記第1の部分以外において、前記第1の膜厚部分のみを有する第2のレジストパターンを複数形成する工程と、
(c)前記第1および第2のレジストパターンを用いて、エッチング工程により、前記第1の導電膜、前記第1の絶縁膜および前記半導体膜をパターニングする工程と、
(d)前記工程(c)の後、前記第1のレジストパターンの前記第2の膜厚部分が消滅するように前記第1および第2のレジストパターンの膜厚を減じる工程と、
(e)前記工程(d)の後、膜厚を減じた前記第1および第2のレジストパターンを用いて、エッチング工程により、
前記第1の部分の前記半導体膜上に配設された前記第1の絶縁膜で形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に配設され、前記第1の導電膜で形成され、前記ゲート絶縁膜よりも平面視の面積が小さなゲート電極と、を少なくとも有する薄膜トランジスタと、
それぞれ下層に前記半導体膜と前記第1の絶縁膜との積層膜を有したソース配線、ゲート端子およびソース端子と、をパターニングする工程と、
(f)前記工程(e)の後、前記基板上面を覆う第2の絶縁膜を形成した後、第2回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第2の絶縁膜をパターニングして、前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通すると共に、前記ゲート絶縁膜を厚み方向に貫通して前記第1の部分の前記半導体膜に達するソース電極部コンタクトホールおよびドレイン電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート電極に達するゲート電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース配線に達するソース配線部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子に達するゲート端子部第1コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子に達するソース端子部第1コンタクトホールと、を形成する工程と、
(g)前記工程(f)の後、前記第2の絶縁膜上面に第2の導電膜を形成し、第3回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第2の導電膜をパターニングして、
前記ゲート電極部コンタクトホールを通して前記ゲート電極と接続されたゲート配線と、
前記ソース電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたソース電極と、
前記ドレイン電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたドレイン電極と、
前記ソース電極から延在し前記ソース配線部コンタクトホールを通して前記ソース配線に接続されるソース電極接続配線と、
前記ドレイン電極から延在し、前記ソース配線および前記ゲート配線で規定される画素領域に対応する前記第2の絶縁膜上を覆う画素電極と、
前記ゲート端子部第1コンタクトホールを通して前記ゲート端子に接続されるゲート端子引き出し電極と、
前記ソース端子部第1コンタクトホールを通して前記ソース端子に接続されるソース端子引き出し電極と、を形成する工程と、
(h)前記工程(g)の後、前記基板上面を覆う第3の絶縁膜を形成し、第4回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第3の絶縁膜をパターニングして、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子引き出し電極に達するゲート端子部第2コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子引き出し電極に達するソース端子部第2コンタクトホールと、を形成する工程と、
(i)前記工程(h)の後、前記基板上面を覆う第3の導電膜を形成し、第5回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第3の導電膜をパターニングして、
前記画素電極に対向する対向電極を形成する工程と、を備える、薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - 画素が複数マトリックス状に配列された薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、
(a)基板上面に、半導体膜、第1の絶縁膜および第1の導電膜をこの順に形成する工程と、
(b)前記工程(a)の後、第1回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第1の導電膜、前記第1の絶縁膜および前記半導体膜をパターニングする工程と、
(c)前記工程(b)の後、第2回目の写真製版工程とエッチング工程により、
前記基板上の第1の部分の前記半導体膜上に配設された前記第1の絶縁膜で形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に配設された前記第1の導電膜で形成され、前記ゲート絶縁膜よりも平面視の面積が小さなゲート電極と、を少なくとも有する薄膜トランジスタと、
それぞれ下層に前記半導体膜と前記第1の絶縁膜との積層膜を有したソース配線、ゲート端子およびソース端子と、をパターニングする工程と、
(d)前記工程(c)の後、前記基板上面を覆う第2の絶縁膜を形成した後、第3回目の写真製版工程とエッチング工程により、第2の絶縁膜をパターニングして、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通すると共に、前記ゲート絶縁膜を厚み方向に貫通して前記第1の部分の前記半導体膜に達するソース電極部コンタクトホールおよびドレイン電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート電極に達するゲート電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース配線に達するソース配線部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子に達するゲート端子部第1コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子に達するソース端子部第1コンタクトホールと、を形成する工程と、
(e)前記工程(d)の後、前記第2の絶縁膜上面に第2の導電膜を形成し、第4回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第2の導電膜をパターニングして、
前記ゲート電極部コンタクトホールを通して前記ゲート電極と接続されたゲート配線と、
前記ソース電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたソース電極と、
前記ドレイン電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたドレイン電極と、
前記ソース電極から延在し前記ソース配線部コンタクトホールを通して前記ソース配線に接続されるソース電極接続配線と、
前記ドレイン電極から延在し、前記ソース配線および前記ゲート配線で規定される画素領域に対応する前記第2の絶縁膜上を覆う画素電極と、
前記ゲート端子部第1コンタクトホールを通して前記ゲート端子に接続されるゲート端子引き出し電極と、
前記ソース端子部第1コンタクトホールを通して前記ソース端子に接続されるソース端子引き出し電極と、を形成する工程と、
(f)前記工程(e)の後、前記基板上面を覆う第3の絶縁膜を形成し、第5回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第3の絶縁膜をパターニングして、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート配線に達するゲート電極部上層コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子引き出し電極に達するゲート端子部第2コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子引き出し電極に達するソース端子部第2コンタクトホールと、を形成する工程と、
(g)前記工程(f)の後、前記基板上面を覆う第3の導電膜および該第3の導電膜を覆う第4の導電膜を形成し、第6回目の写真製版工程により、前記ゲート電極、前記ゲート配線および前記ゲート端子の上方において、第1の膜厚部分と、それよりも薄い第2の膜厚部分と、を有した第1のレジストパターンを形成すると共に、前記ゲート電極、前記ゲート配線および前記ゲート端子の上方以外において、前記第2の膜厚部分のみを有する第2のレジストパターンを複数形成する工程と、
(h)前記第1および第2のレジストパターンを用いて、エッチング工程により、前記第3および第4の導電膜をパターニングして、
前記ゲート電極部上層コンタクトホールを通して前記ゲート配線に接続される上層ゲート配線と、
前記ゲート端子部第2コンタクトホールを通して前記ゲート端子引き出し電極に接続されるゲート端子パッドと、
前記ソース端子部第2コンタクトホールを通して 前記ソース端子引き出し電極に接続されるソース端子パッドと、
前記画素電極に対向する対向電極と、を形成する工程と、
(i)前記工程(h)の後、前記第1のレジストパターンの前記第2の膜厚部分が消滅するように前記第1および第2のレジストパターンの膜厚を減じる工程と、
(j)前記工程(i)の後、残されたレジストパターンを用いて、エッチング工程により、前記第4の導電膜をパターニングして、前記上層ゲート配線および前記ゲート端子パッド上に最上層ゲート配線を形成する工程と、を備える、薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - 画素が複数マトリックス状に配列された薄膜トランジスタ基板の製造方法であって、
(a)基板上面に、半導体膜、第1の絶縁膜および第1の導電膜をこの順に形成する工程と、
(b)前記工程(a)の後、第1回目の写真製版工程により、前記基板上の第1の部分において、第1の膜厚部分と、それよりも薄い第2の膜厚部分と、を有した第1のレジストパターンを形成すると共に、前記第1の部分以外において、前記第1の膜厚部分のみを有する第2のレジストパターンを複数形成する工程と、
(c)前記第1および第2のレジストパターンを用いて、エッチング工程により、前記第1の導電膜、前記第1の絶縁膜および前記半導体膜をパターニングする工程と、
(d)前記工程(c)の後、前記第1のレジストパターンの前記第2の膜厚部分が消滅するように前記第1および第2のレジストパターンの膜厚を減じる工程と、
(e)前記工程(d)の後、膜厚を減じた前記第1および第2のレジストパターンを用いて、エッチング工程により、
前記第1の部分の前記半導体膜上に配設された前記第1の絶縁膜で形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に配設され、前記第1の導電膜で形成され、前記ゲート絶縁膜よりも平面視の面積が小さなゲート電極と、を少なくとも有する薄膜トランジスタと、
それぞれ下層に前記半導体膜と前記第1の絶縁膜との積層膜を有したソース配線、ゲート端子およびソース端子と、をパターニングする工程と、
(f)前記工程(e)の後、前記基板上面を覆う第2の絶縁膜を形成した後、第2回目の写真製版工程とエッチング工程により、第2の絶縁膜をパターニングして、前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通すると共に、前記ゲート絶縁膜を厚み方向に貫通して前記第1の部分の前記半導体膜に達するソース電極部コンタクトホールおよびドレイン電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート電極に達するゲート電極部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース配線に達するソース配線部コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子に達するゲート端子部第1コンタクトホールと、
前記第2の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子に達するソース端子部第1コンタクトホールと、を形成する工程と、
(g)前記工程(f)の後、前記第2の絶縁膜上面に第2の導電膜を形成し、第3回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第2の導電膜をパターニングして、
前記ゲート電極部コンタクトホールを通して前記ゲート電極と接続されたゲート配線と、
前記ソース電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたソース電極と、
前記ドレイン電極部コンタクトホールを通して前記半導体膜に接続されたドレイン電極と、
前記ソース電極から延在し前記ソース配線部コンタクトホールを通して前記ソース配線に接続されるソース電極接続配線と、
前記ドレイン電極から延在し、前記ソース配線および前記ゲート配線で規定される画素領域に対応する前記第2の絶縁膜上を覆う画素電極と、
前記ゲート端子部第1コンタクトホールを通して前記ゲート端子に接続されるゲート端子引き出し電極と、
前記ソース端子部第1コンタクトホールを通して前記ソース端子に接続されるソース端子引き出し電極と、を形成する工程と、
(h)前記工程(g)の後、前記基板上面を覆う第3の絶縁膜を形成し、第4回目の写真製版工程とエッチング工程により、前記第3の絶縁膜をパターニングして、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子引き出し電極に達するゲート端子部第2コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子引き出し電極に達するソース端子部第2コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート配線に達するゲート電極部上層コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ゲート端子引き出し電極に達するゲート端子部第2コンタクトホールと、
前記第3の絶縁膜を厚み方向に貫通して前記ソース端子引き出し電極に達するソース端子部第2コンタクトホールと、を形成する工程と、
(i)前記工程(h)の後、前記基板上面を覆う第3の導電膜および該第3の導電膜を覆う第4の導電膜を形成し、第5回目の写真製版工程により、前記ゲート電極、前記ゲート配線および前記ゲート端子の上方において、第1の膜厚部分と、それよりも薄い第2の膜厚部分と、を有した第3のレジストパターンを形成すると共に、前記ゲート電極、前記ゲート配線および前記ゲート端子の上方以外において、前記第2の膜厚部分のみを有する第4のレジストパターンを複数形成する工程と、
(j)前記第3および第4のレジストパターンを用いて、エッチング工程により、前記第3および第4の導電膜をパターニングして、
前記ゲート電極部上層コンタクトホールを通して前記ゲート配線に接続される上層ゲート配線と、
前記ゲート端子部第2コンタクトホールを通して前記ゲート端子引き出し電極に接続されるゲート端子パッドと、
前記ソース端子部第2コンタクトホールを通して 前記ソース端子引き出し電極に接続されるソース端子パッドと、
前記画素電極に対向する対向電極と、を形成する工程と、
(k)前記工程(j)の後、前記第1のレジストパターンの前記第2の膜厚部分が消滅するように前記第3および第4のレジストパターンの膜厚を減じる工程と、
(l)前記工程(k)の後、残されたレジストパターンを用いて、エッチング工程により、前記第4の導電膜をパターニングして、前記上層ゲート配線および前記ゲート端子パッド上に最上層ゲート配線を形成する工程と、を備える、薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - 前記工程(a)は、
前記半導体膜の下層に、前記基板側から順にメタル遮光膜および第4の絶縁膜を積層する工程を含み、
前記工程(b)は、
前記第4の絶縁膜および前記メタル遮光膜をパターニングする工程を含む、請求項12または請求項14記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。 - 前記工程(a)は、
前記半導体膜の下層に、前記基板側から順にメタル遮光膜および第4の絶縁膜を積層する工程を含み、
前記工程(c)は、
前記第4の絶縁膜および前記メタル遮光膜をパターニングする工程を含む、請求項13または請求項15記載の薄膜トランジスタ基板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013251616A JP6238712B2 (ja) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 |
US14/552,860 US9508750B2 (en) | 2013-12-05 | 2014-11-25 | Thin film transistor substrate and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013251616A JP6238712B2 (ja) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015108732A JP2015108732A (ja) | 2015-06-11 |
JP2015108732A5 true JP2015108732A5 (ja) | 2017-01-05 |
JP6238712B2 JP6238712B2 (ja) | 2017-11-29 |
Family
ID=53271976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013251616A Active JP6238712B2 (ja) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9508750B2 (ja) |
JP (1) | JP6238712B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6278633B2 (ja) * | 2013-07-26 | 2018-02-14 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタアレイ基板およびその製造方法、並びに、液晶表示装置およびその製造方法 |
JP6315966B2 (ja) | 2013-12-11 | 2018-04-25 | 三菱電機株式会社 | アクティブマトリックス基板およびその製造方法 |
US20170219899A1 (en) * | 2014-08-07 | 2017-08-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate, liquid crystal panel, and method for manufacturing active matrix substrate |
CN105140234B (zh) * | 2015-07-28 | 2018-03-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 |
US20180190679A1 (en) * | 2015-09-11 | 2018-07-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Thin film transistor substrate and method for manufacturing same |
US10243010B2 (en) * | 2015-11-30 | 2019-03-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor substrate and display device |
US10613396B2 (en) * | 2016-03-14 | 2020-04-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
JP6689108B2 (ja) | 2016-03-22 | 2020-04-28 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 |
WO2017213180A1 (ja) * | 2016-06-09 | 2017-12-14 | シャープ株式会社 | 表示装置及びその製造方法 |
CN106252217B (zh) * | 2016-08-25 | 2019-05-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置 |
CN107623042A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-01-23 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 薄膜晶体管结构及其制作方法 |
JP2019169660A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタ基板、表示装置、および、薄膜トランジスタ基板の製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3798508A (en) * | 1969-09-18 | 1974-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Variable capacitance device |
JPH04206775A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
EP1443130B1 (en) | 2001-11-05 | 2011-09-28 | Japan Science and Technology Agency | Natural superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film |
JP4164562B2 (ja) | 2002-09-11 | 2008-10-15 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ |
JP2003330388A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-19 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
JP5006598B2 (ja) | 2005-09-16 | 2012-08-22 | キヤノン株式会社 | 電界効果型トランジスタ |
JP4645488B2 (ja) * | 2006-03-15 | 2011-03-09 | ソニー株式会社 | 液晶装置及び電子機器 |
JP4466708B2 (ja) * | 2007-03-15 | 2010-05-26 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶装置 |
JP5079463B2 (ja) | 2007-11-20 | 2012-11-21 | 株式会社ジャパンディスプレイウェスト | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP4442684B2 (ja) | 2007-11-29 | 2010-03-31 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2009151285A (ja) | 2007-11-30 | 2009-07-09 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR20090060756A (ko) * | 2007-12-10 | 2009-06-15 | 삼성전자주식회사 | 표시 패널 및 이의 제조방법 |
JP2010039394A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
KR20130015829A (ko) * | 2011-08-05 | 2013-02-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 기판, 표시 기판의 제조 방법 및 표시 기판을 포함하는 액정 표시 장치 |
-
2013
- 2013-12-05 JP JP2013251616A patent/JP6238712B2/ja active Active
-
2014
- 2014-11-25 US US14/552,860 patent/US9508750B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2015108732A5 (ja) | ||
JP6230253B2 (ja) | Tftアレイ基板およびその製造方法 | |
JP6238712B2 (ja) | 薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 | |
JP5863272B2 (ja) | ディスプレイ装置及びその製造方法 | |
JP2012118199A (ja) | 液晶パネル、液晶表示装置、及びその製造方法 | |
JP4657587B2 (ja) | 薄膜トランジスタ表示板 | |
US20130222726A1 (en) | Liquid crystal display device and method of fabricating the same | |
JP2009251174A (ja) | Tft基板及びそれを用いた液晶表示装置並びにそれらの製造方法 | |
KR20120039947A (ko) | 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
TWI464787B (zh) | 邊緣電場切換型液晶顯示面板之陣列基板及其製作方法 | |
KR20100100693A (ko) | Tft-lcd 어레이 기판 및 그 제조 방법 | |
WO2017177734A1 (zh) | 阵列基板、制造方法以及显示面板和电子装置 | |
TWI442152B (zh) | 顯示裝置及其製造方法 | |
JP5275524B2 (ja) | 薄膜トランジスタ基板及びそれを備えた表示装置並びに薄膜トランジスタ基板の製造方法 | |
WO2015021712A1 (zh) | 阵列基板及其制造方法和显示装置 | |
KR20160017867A (ko) | 표시장치와 그 제조 방법 | |
KR100623982B1 (ko) | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 | |
JP3548711B2 (ja) | 液晶用マトリクス基板の製造方法ならびにコンタクトホール形成方法 | |
TWI490615B (zh) | 用於邊緣電場切換模式液晶顯示裝置的陣列基板及其製造方法 | |
JP6478819B2 (ja) | 薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 | |
JP2009151285A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
WO2021097995A1 (zh) | 一种阵列基板及其制备方法 | |
JP3706033B2 (ja) | 液晶用マトリクス基板の製造方法 | |
TW201304147A (zh) | 薄膜電晶體及其製造方法 | |
US20150021611A1 (en) | Array substrate and manufacturing method thereof |