JP2015088512A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】劈開ブレードの位置制御の精度に依らず、劈開狙い位置に対して高い位置精度の劈開を実現することができる半導体装置の製造方法を得る。【解決手段】半導体基板2の第1の主面に複数の電極5を形成する。複数の電極5間にある劈開狙い位置6を覆う劈開誘導パターン8を半導体基板2の第1の主面に形成する。劈開誘導パターン8は、劈開狙い位置6に凹部9を有し、半導体基板2とは異なる材質からなる。半導体基板2の第1の主面とは反対側の第2の主面において劈開狙い位置6に対向する位置にスクライブ溝7を形成する。スクライブ溝7と劈開誘導パターン8を形成した半導体基板2の第1の主面に劈開ブレード4を押し当てて半導体基板2を劈開する。【選択図】図6
Description
本発明は、劈開ブレードの位置制御の精度に依らず、劈開狙い位置に対して高い位置精度の劈開を実現することができる半導体装置の製造方法に関する。
半導体基板を劈開するには、半導体基板の一方の面にスクライブ溝を形成した後、反対側の面から劈開ブレードを押し当てて、スクライブ溝を起点とした劈開を実施する(例えば、特許文献1の図1(b)参照)。
この劈開の位置精度を向上させるための製造方法が提案されている。例えば、劈開狙い位置の近くにおいて半導体成長層側に劈開の補助溝を形成する製造方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。また、スクライブ溝を形成した面とは反対側の面に向け、スクライブ溝から直線的かつ垂直に伸展するクラックが形成されるよう、スクライブ溝を形成する領域に特定の半導体層や絶縁膜が存在しない開口部を設ける製造方法も提案されている(例えば、特許文献3参照)。また、スクライブ溝を形成した面とは反対側の面において半導体基板をエッチングして凹部を設ける製造方法も提案されている(例えば、特許文献4参照)。
従来技術は、スクライブ溝を形成した面とは反対側の面に劈開ブレードを押し当てる際に、スクライブ溝と劈開ブレードの位置が正対していることが前提となっている。しかし、劈開ブレードの磨耗又は位置制御の精度によっては、スクライブ溝と劈開ブレードの位置がずれることがある。これにより、劈開狙い位置に対して実際の劈開がずれるという問題があった。
また、半導体基板をエッチングして凹部を設ける方法では、半導体チップの電極の近くに凹部が形成される。半導体と電極をオーミック接合するために高温での熱処理工程をウェハ製造の最終工程で実施する際、凹部において露出された半導体基板が高温の環境に曝される。例えば半導体基板がInPの場合、InPは高温環境で分解され、分解したInがマイグレーション又は雰囲気中への拡散等により電極表面に付着する。そして、電極表面に付着したInは大気中でIn酸化物となり、電極とそれにボンディングされる金配線との密着性を悪化させるという問題があった。また、半導体をエッチングして凹部を形成する工程が余分に必要になるという問題もあった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は劈開ブレードの位置制御の精度に依らず、劈開狙い位置に対して高い位置精度の劈開を実現することができる半導体装置の製造方法を得るものである。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、互いに対向する第1及び第2の主面を持つ半導体基板の前記第1の主面に複数の電極を形成する工程と、前記複数の電極間にある劈開狙い位置を覆い、前記劈開狙い位置に凹部を有し、前記半導体基板とは異なる材質からなる劈開誘導パターンを前記半導体基板の前記第1の主面に形成する工程と、前記半導体基板の前記第2の主面において、前記劈開狙い位置に対向する位置にスクライブ溝を形成する工程と、前記スクライブ溝と前記劈開誘導パターンを形成した前記半導体基板の前記第1の主面に劈開ブレードを押し当てて前記半導体基板を劈開する工程とを備えることを特徴とする。
本発明により、劈開ブレードの位置制御の精度に依らず、劈開狙い位置に対して高い位置精度の劈開を実現することができる。
本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方法について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態1.
図1,8は本発明の実施の形態1に係る半導体装置の製造方法を示す上面図、図2−4,6はその製造方法を示す斜視図、図5,7はその製造方法を示す断面図である。
図1,8は本発明の実施の形態1に係る半導体装置の製造方法を示す上面図、図2−4,6はその製造方法を示す斜視図、図5,7はその製造方法を示す断面図である。
図1に示すようにウェハ1をブロック状の半導体基板2にした後に、図2に示すように受け刃3(スリット)と劈開ブレード4を用いてブロック状態の半導体基板2をバー状態に劈開する。このブロック状態からバー状態への劈開に本実施の形態を適用する。ただし、バー状態からチップ状態への劈開に適用しても同様の効果が得られる。
まず、ウェハ1の状態において、互いに対向する第1及び第2の主面を持つ半導体基板2の第1の主面に複数の電極5を形成する。半導体基板2の材質はInP又はGaAsなどである。次に、劈開誘導パターン8を半導体基板2の第1の主面に形成する。次に、劈開狙い位置6を劈開誘導パターン8で覆った状態で熱処理を行って半導体基板2と複数の電極5をオーミック接合させる。その後、ウェハ1をブロック状の半導体基板2にする。
ここで、劈開誘導パターン8は劈開狙い位置6に凹部9を有し、劈開狙い位置6を覆う。凹部9の断面形状は矩形である。劈開誘導パターン8は半導体基板2とは異なる材質からなり、具体的には二酸化ケイ素又は窒化ケイ素などの絶縁体、単体又は合金の金属、金属酸化物の何れかである。
次に、図3に示すように、半導体基板2の第1の主面とは反対側の第2の主面において、複数の電極5間にある劈開狙い位置6に対向する位置にスクライブ溝7を形成する。次に、図4,5に示すように受け刃3上に半導体基板2を配置し、半導体基板2上に劈開ブレード4を配置させる。
次に、図6〜8に示すように、スクライブ溝7と劈開誘導パターン8を形成した半導体基板2の第1の主面に劈開ブレード4を押し当てて半導体基板2を劈開する。劈開狙い位置6に凹部9を有する劈開誘導パターン8が設けられているため、劈開ブレード4を劈開狙い位置6よりも外側に押し当て曲げ応力を加えた場合、凹部9において曲げ応力が最も大きくなる。従って、スクライブ溝7から凹部9にクラック10が伸展して劈開面となる。
続いて本実施の形態の効果を比較例と比較して説明する。図9は比較例に係る半導体装置の製造方法を示す断面図、図10はその製造方法を示す上面図である。比較例には劈開誘導パターン8が存在しない。このため、劈開ブレード4を半導体基板2に押し当てて曲げモーメントを加えた場合、劈開ブレード4がブロック状の半導体基板2に接触する接触位置で曲げ応力が最大になる。従って、スクライブ溝7から接触位置にクラック10が伸展して劈開面となるため、劈開面が劈開狙い位置6から外れてしまうことがある。従って、劈開ブレード4の位置を劈開狙い位置6内に正確に制御する必要がある。
一方、本実施の形態では、劈開狙い位置6に凹部9を有する劈開誘導パターン8が設けられているため、劈開ブレード4の位置制御の精度に依らず、劈開狙い位置6に対して高い位置精度の劈開を実現することができる。また、劈開狙い位置6で劈開誘導パターン8を開口せずに薄く残しているため、劈開ブレード4が劈開狙い位置6に当たっても半導体基板2へのダメージを低減することができる。
また、劈開誘導パターン8への凹部9の形成は、劈開誘導パターン8を構成する材料をフォトリソグラフィとエッチングで加工することで実施できる。従って、従来技術に比べて半導体をエッチングして凹部を形成する工程を追加する必要が無い。
また、本実施の形態では、劈開狙い位置6を劈開誘導パターン8で覆った状態で熱処理を行って半導体基板2と複数の電極5をオーミック接合させる。これにより、電極5の近くに配置された劈開狙い位置6において半導体基板2が露出しないため、熱処理工程で半導体基板2の構成物質が電極5の表面に付着するのを防ぐことができる。例えば半導体基板2がInPの場合に熱処理工程でInが電極表面へ付着するのを防ぐことができる。これにより、電極5とそれにボンディングされる金配線との密着性の悪化を防ぐことができる。ただし、劈開誘導パターン8がInを含まないことが必要である。
また、劈開誘導パターン8の材質が二酸化ケイ素又は窒化ケイ素などの絶縁体、単体又は合金の金属、金属酸化物の何れかであることが好ましい。これにより、一般的に半導体装置の絶縁膜又は電極の材質として用いられるものを流用できるため、劈開誘導パターン8の材質を別に用意する必要がない。
また、劈開誘導パターン8の材質が半導体基板2の材質よりも抗折力又は曲げ強度が大きいことが好ましい。劈開誘導パターン8の抗折力の寄与が半導体基板2よりも支配的となるため、劈開誘導パターン8の凹部9に曲げ応力が集中しやすくなり、劈開狙い位置6で劈開されやすくなる。
また、劈開誘導パターン8の凹部9の断面形状が矩形であるため、劈開誘導パターン8の凹部9とそれ以外の部分の曲げ応力の差が大きくなる。従って、劈開ブレード4を押し当てる速度と押し当て力の制御が簡単である。
実施の形態2.
図11,12は本発明の実施の形態2に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。図11は劈開ブレード4を半導体基板2に押し当てる前の状態を示し、図12は劈開ブレード4を半導体基板2に押し当てた状態を示す。
図11,12は本発明の実施の形態2に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。図11は劈開ブレード4を半導体基板2に押し当てる前の状態を示し、図12は劈開ブレード4を半導体基板2に押し当てた状態を示す。
本実施の形態では劈開誘導パターン8の凹部9の断面形状がU字状である。U字状の凹部9の最深部において半導体基板2が最も薄くなる。従って、劈開ブレード4を劈開狙い位置6よりも外側に押し当て曲げ応力を加えた場合、凹部9の最深部において曲げ応力が最も大きくなるため、スクライブ溝7から凹部9の最深部にクラック10が伸展して劈開面となる。よって、劈開狙い位置6に対して実施の形態1よりも高い位置精度の劈開を実現することができる。
実施の形態3.
図13は本発明の実施の形態3に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。本実施の形態では劈開誘導パターン8の凹部9の断面形状がV字状である。この場合でも実施の形態2と同様の効果を得ることができる。
図13は本発明の実施の形態3に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。本実施の形態では劈開誘導パターン8の凹部9の断面形状がV字状である。この場合でも実施の形態2と同様の効果を得ることができる。
2 半導体基板、4 劈開ブレード、5 電極、6 劈開狙い位置、7 スクライブ溝、8 劈開誘導パターン、9 凹部
Claims (7)
- 互いに対向する第1及び第2の主面を持つ半導体基板の前記第1の主面に複数の電極を形成する工程と、
前記複数の電極間にある劈開狙い位置を覆い、前記劈開狙い位置に凹部を有し、前記半導体基板とは異なる材質からなる劈開誘導パターンを前記半導体基板の前記第1の主面に形成する工程と、
前記半導体基板の前記第2の主面において、前記劈開狙い位置に対向する位置にスクライブ溝を形成する工程と、
前記スクライブ溝と前記劈開誘導パターンを形成した前記半導体基板の前記第1の主面に劈開ブレードを押し当てて前記半導体基板を劈開する工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記劈開狙い位置を前記劈開誘導パターンで覆った状態で熱処理を行って前記半導体基板と前記複数の電極をオーミック接合させる工程を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記劈開誘導パターンの材質は絶縁体、金属、金属酸化物の何れかであることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板はInを含み、
前記劈開誘導パターンはInを含まないことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記劈開誘導パターンの材質は、前記半導体基板の材質よりも抗折力又は曲げ強度が大きいことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記凹部の断面形状が矩形であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記凹部の断面形状がU字状又はV字状であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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