JP2015086170A - ビスβ−ジケトン誘導体及びピラゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
ビスβ−ジケトン誘導体及びピラゾール誘導体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015086170A JP2015086170A JP2013226145A JP2013226145A JP2015086170A JP 2015086170 A JP2015086170 A JP 2015086170A JP 2013226145 A JP2013226145 A JP 2013226145A JP 2013226145 A JP2013226145 A JP 2013226145A JP 2015086170 A JP2015086170 A JP 2015086170A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- bis
- derivative
- producing
- diketone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N COC(c1cc(C(OC)=O)ccc1)=O Chemical compound COC(c1cc(C(OC)=O)ccc1)=O VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHFKPVBNMHVMGI-UHFFFAOYSA-N O=C(CC(c1cccc(C(CC(c2ccccc2)=O)=O)c1)=O)c1ccccc1 Chemical compound O=C(CC(c1cccc(C(CC(c2ccccc2)=O)=O)c1)=O)c1ccccc1 KHFKPVBNMHVMGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
2.前記塩基の水中で25℃におけるpKaが、15〜38の範囲内であることを特徴とする第1項に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
7.前記ケトンが芳香族ケトンであり、前記カルボン酸誘導体が、カルボン酸ジエステルであることを特徴とする第1項から第6項までのいずれか一項に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
本発明のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法は、ケトンとカルボン酸誘導体とを塩基の存在下で反応させて、前記一般式(1)で表される構造を有するビスβ−ジケトン誘導体を製造する製造方法であって、当該反応が、ドナー数が25.0〜35.0の範囲内の溶媒を用いて反応させる工程を含むことを特徴とする。
本発明において、ケトンとカルボン酸誘導体を原料として、下記一般式(1)で表される構造を有するビスβ−ジケトン誘導体を製造することができる。
次に、前記一般式(1)で表される構造を有する化合物の合成方法について説明する。
反応工程では、前記一般式(1)で表される構造を有するビスβ−ジケトン誘導体を製造する際、ドナー数が25.0〜35.0の範囲内の溶媒を用いてケトンとカルボン酸誘導体とを塩基の存在下で反応させる。
前記一般式(1)で表される構造を有する合成に用いる溶媒は、前記ドナー数が25.0〜35.0の溶媒である。ここでドナー数について説明する。
ケトンとカルボン酸誘導体を反応させる場合、反応を加速させるために塩基を用いることが好ましい。塩基としては、無機塩基(炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、LDA等)及び有機塩基(ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド、ジイソプロピルエチルアミン、N,N′−ジメチルアミノピリジン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、N−メチルモルホリン、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、ピリジン、リチウムジイソプロピルアミド等)のいずれを用いて良い。
反応中の溶液温度は、反応が進行する温度であればいかなる温度でも構わないが、生産性の観点から好ましくは、−20〜100℃の範囲内であり、更に好ましくは、−15〜70℃の範囲内であり、特に好ましくは−10〜20℃である。
前記一般式(1)で表される構造を有する化合物の取り出し方法としては、再結晶法、晶析、再沈殿、カラムクロマトグラフィー法等を用いることができる。なかでも、大量生産に好ましい取り出し方法としては、再結晶法、晶析、再沈殿が好ましい。
前記一般式(1)で表される構造を有する化合物は、種々の反応中間体として用いることができ、好ましくはピラゾール誘導体の前駆体、又は金属錯体の原料として用いることが好ましい。
本発明においてピラゾール母核を2個有するピラゾール誘導体の製造方法は、本発明の製造方法で製造された前記一般式(1)で表される構造を有するビスβ−ジケトンとヒドラジンを反応させる工程を含む。一般式(1)で表される構造を有する化合物は上記工程を経た反応液のままヒドラジンと反応させても良く、上記工程の後に粗結として取り出した後にヒドラジンと反応させても良く、粗結を再結晶、懸濁精製などの手段により精製した後にヒドラジンと反応させても良い。用いるヒドラジンとしてはヒドラジンの濃度が40〜80%であることが好ましく、50〜60%であることがさらに好ましい。
前記一般式(1)で表される構造を有する化合物を前駆体として用いたピラゾール誘導体は、医薬品、電子材料、樹脂添加剤などに用いることができる。
<製造例1>
(例示化合物A−001の合成)
例示化合物A−001を以下のスキームによって合成した。
<製造例2〜製造例36>
表1に記載した溶媒、塩基、反応温度に変更し、当量を合わせた以外は製造例1と同様の方法で、各種ケトンと各種カルボン酸ジメチルを反応させ、表1に記載の例示化合物の製造例2〜43の製造を行った。
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
DMSO:ジメチルスルホキシド
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
NMP:N−メチル−2−ピロリジノン
DMI:1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン
LDA:リチウムジイソプロピルアミド
<ピラゾール誘導体の製造例P−1>
ピラゾール母核を2個有するピラゾール誘導体C−001を以下のスキームによって合成した。
<ピラゾール誘導体の製造例P−2〜製造例P−43>
表2に記載の、実施例1で製造した原料に変更し、当量を合わせた以外はピラゾール母核を2個有するピラゾール誘導体の製造例P−1と同様の方法で、各ピラゾール母核を2個有するピラゾール誘導体を合成した。
Claims (8)
- ケトンとカルボン酸誘導体とを塩基の存在下で反応させて、下記一般式(1)で表される構造を有するビスβ−ジケトン誘導体を製造する製造方法であって、当該反応が、ドナー数が25.0〜35.0の範囲内の溶媒を用いて反応させる工程を含むことを特徴とするビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
- 前記塩基の水中で25℃におけるpKaが、15〜38の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
- 前記反応の反応温度が、−10〜20℃の範囲内であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
- 前記ドナー数が25.0〜35.0の範囲内の溶媒が、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、ピリジン、N−メチル−2−ピロリジノン又は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンであることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
- 前記塩基がナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムアミド又は水素化ナトリウムであることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
- 前記ケトンが芳香族ケトンであり、前記カルボン酸誘導体が、カルボン酸ジエステルであることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法。
- 請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載のビスβ−ジケトン誘導体の製造方法で製造されたビスβ−ジケトン誘導体とヒドラジンとを反応させる工程を含むことを特徴とするピラゾール母核を2個有するピラゾール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013226145A JP6241203B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | ビスβ−ジケトン誘導体及びピラゾール誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013226145A JP6241203B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | ビスβ−ジケトン誘導体及びピラゾール誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015086170A true JP2015086170A (ja) | 2015-05-07 |
JP6241203B2 JP6241203B2 (ja) | 2017-12-06 |
Family
ID=53049347
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013226145A Active JP6241203B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | ビスβ−ジケトン誘導体及びピラゾール誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6241203B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112585094A (zh) * | 2018-08-22 | 2021-03-30 | 国立大学法人北海道大学 | 氮化处理液、氮化处理金属氧化物的制造方法以及氮化处理氧化铟膜 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023118482A1 (en) | 2021-12-24 | 2023-06-29 | Sun Chemical Corporation | Amine synergists with uv-a absorption |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4360584A (en) * | 1981-03-18 | 1982-11-23 | A. B. Dick Company | Method of photopolymerization with complex metal chelate catalysts |
US4379823A (en) * | 1976-11-02 | 1983-04-12 | A. B. Dick Company | Composition for forming photoconductive coating containing a photoconductive donor and an acceptor-sensitizer |
JP2003267908A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-09-25 | Showa Denko Kk | β−ジケトン化合物、その金属錯体および金属化合物の製造方法 |
JP2005023065A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-27 | Showa Denko Kk | β−ジケトン化合物、その金属錯体および金属化合物の製造方法 |
CN1880314A (zh) * | 2005-12-02 | 2006-12-20 | 西安瑞联近代电子材料有限责任公司 | 用于oled器件的红色掺杂材料bdcjt的合成方法 |
DE102009003783A1 (de) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | Karlsruher Institut für Technologie | Alkylierte Bis-Pyrazolylpyridine zur selektiven Extraktion von Actiniden(III) |
CN102225933A (zh) * | 2011-04-26 | 2011-10-26 | 上海大学 | 2,6-二甲基-3,5-二-[3-(5-三氟甲基)-1h-吡唑]吡啶及其合成方法 |
-
2013
- 2013-10-31 JP JP2013226145A patent/JP6241203B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4379823A (en) * | 1976-11-02 | 1983-04-12 | A. B. Dick Company | Composition for forming photoconductive coating containing a photoconductive donor and an acceptor-sensitizer |
US4360584A (en) * | 1981-03-18 | 1982-11-23 | A. B. Dick Company | Method of photopolymerization with complex metal chelate catalysts |
JP2003267908A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-09-25 | Showa Denko Kk | β−ジケトン化合物、その金属錯体および金属化合物の製造方法 |
JP2005023065A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-27 | Showa Denko Kk | β−ジケトン化合物、その金属錯体および金属化合物の製造方法 |
CN1880314A (zh) * | 2005-12-02 | 2006-12-20 | 西安瑞联近代电子材料有限责任公司 | 用于oled器件的红色掺杂材料bdcjt的合成方法 |
DE102009003783A1 (de) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | Karlsruher Institut für Technologie | Alkylierte Bis-Pyrazolylpyridine zur selektiven Extraktion von Actiniden(III) |
CN102225933A (zh) * | 2011-04-26 | 2011-10-26 | 上海大学 | 2,6-二甲基-3,5-二-[3-(5-三氟甲基)-1h-吡唑]吡啶及其合成方法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
DONG GANG, YINGYOUNG HUAGONG, vol. 39(11), JPN6017009890, 2010, pages 1726-1728, 1731 * |
SYNTHETIC COMMUNICATIONS, vol. 36, JPN6017009888, 2006, pages 707-714 * |
TETRAHEDRON, vol. 68, JPN6017009886, 2012, pages 6231-6239 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112585094A (zh) * | 2018-08-22 | 2021-03-30 | 国立大学法人北海道大学 | 氮化处理液、氮化处理金属氧化物的制造方法以及氮化处理氧化铟膜 |
EP3842388A4 (en) * | 2018-08-22 | 2022-08-17 | National University Corporation Hokkaido University | LIQUID FOR NITRIDING TREATMENT, MANUFACTURING PROCESS OF NITRIATED METAL OXIDE AND NITRIATED INDIUM OXIDE LAYER |
CN112585094B (zh) * | 2018-08-22 | 2023-05-02 | 国立大学法人北海道大学 | 氮化处理液、氮化处理金属氧化物的制造方法以及氮化处理氧化铟膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6241203B2 (ja) | 2017-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2604008T3 (es) | 1-Cloro-3-yodo-5-(trifluorometil)benceno | |
JP5244369B2 (ja) | 5−アミノピラゾール誘導体の製造方法、アゾ色素 | |
BR112015004097B1 (pt) | Procedimento para a descarboxilação de derivados do ácido 3,5-bis (haloalquil) -pirazol-4-carboxílico | |
JP2001512105A (ja) | 2−(3−ピラゾリルオキシメチレン)ニトロベンゼンの製造法 | |
Shang et al. | Copper-catalyzed decarboxylation/cycloaddition cascade of alkynyl carboxylic acids with azide | |
JP6241203B2 (ja) | ビスβ−ジケトン誘導体及びピラゾール誘導体の製造方法 | |
JP5114901B2 (ja) | 含窒素多環複素環化合物の製造方法 | |
WO2012174685A1 (zh) | 一种2-取代-2h-1,2,3-三氮唑衍生物的制备方法 | |
JP6528529B2 (ja) | ビスピラゾール誘導体の製造方法 | |
JP5789362B2 (ja) | 5−アミノピラゾール誘導体又はその塩の製造方法 | |
JP2011201794A (ja) | 5−アミノピラゾール誘導体及びその塩の製造方法 | |
TWI651306B (zh) | 自α,α-二鹵胺類與酮亞胺類製備3,5-雙(鹵烷基)吡唑衍生物之方法 | |
BR112019009793A2 (pt) | 4-((6-(2-(2,4-difluorofenil)-1,1-difluoro-2-hidróxi-3-(5-mercapto-1h-1,2,4-triazol-1-il)propil)piridin-3-il)óxi)benzonitrila e processos de preparação | |
JP4074771B2 (ja) | ジシアノメチリデン化合物及びヘテロ環化合物の合成方法 | |
JP3407088B2 (ja) | トリアゾール誘導体の製造方法およびその中間体 | |
JP5763179B2 (ja) | 1−アルキル−3−ジフルオロメチル−5−ヒドロキシピラゾール類の製造方法 | |
JP4778717B2 (ja) | 複素環式化合物の製造方法 | |
JP5264392B2 (ja) | 5−アミノピラゾール誘導体の製造方法 | |
JP4126944B2 (ja) | 5−アミノ−4−ニトロソピラゾール化合物の製法 | |
JP4273271B2 (ja) | ピラゾール化合物及びその製造法 | |
JP4771757B2 (ja) | 高選択的な1,2−ジクロリド化合物の製造方法 | |
JP2018087142A (ja) | 3−ハロゲン化アルキルピラゾール誘導体の製造方法 | |
JP2010077066A (ja) | 5−アミノピラゾール誘導体の製造方法 | |
JP2005289982A (ja) | 1,2,4−チアジアジン−1,1−ジオキシド化合物の製造方法 | |
JP4267943B2 (ja) | 3−アミノ−4−置換−5−ピラゾロン類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160624 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170316 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170328 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170830 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171010 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171023 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6241203 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |