JP4771757B2 - 高選択的な１，２−ジクロリド化合物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、高選択的な１，２−ジクロリド化合物の製造方法に関する。

アルケンへの塩素の付加反応は、ｖｉｃ−ジクロリド化合物を合成する重要な手段であり、医農薬や機能性材料、及びその中間体の合成に用いられている。しかし、この反応は、基質によっては選択性が低く、目的物の精製が困難になるため、製造適性が低下する場合があった。選択性低下の原因の一つとして、反応中に発生する塩素ラジカルが挙げられる。一般に、アルケンへの塩素付加反応は、ラジカル反応を経由する機構とイオン反応を経由する機構の両方を経由して進行する。イオン反応機構で反応が進行する場合、塩素の付加反応が選択的に進行するが、ラジカル反応機構で進行する場合、反応の進行に伴い、塩素ラジカルが発生する。その結果、塩素ラジカルによる多塩素化反応や、分解反応等の望ましくない副反応が進行し、反応の選択性が低下してしまうことがある。つまり、高選択的な塩素付加反応を達成するには、イオン反応機構のみを経由させることが必要となる。
イオン反応機構のみを経由させる塩素付加反応の方法の一つに、溶媒に極性溶媒を用いる方法がある（例えば非特許文献１参照）。しかし、極性溶媒はコストが比較的高く、反応生成物の分離も困難となるため、大量製造に適さなかった。その他の方法に、アルケンをラジカル禁止剤存在下、塩素と反応させる方法がある。例えば、非極性溶媒中、酸素（ラジカル禁止剤）存在下でアルケンへの塩素の付加反応を行わせる方法がある（非特許文献２参照）。この方法により選択的にｖｉｃ−ジクロリド化合物が生成すると記載されている。しかし、この方法は、基質の転化率を１０％未満に抑えることによって目的のｖｉｃ−ジクロリド化合物を得る方法である。さらに、酸素から過酸などを用いるので爆発性化合物が生成する恐れがあり、安全性に問題があった。
その他に、アルケン部に塩素を含有する化合物への塩素の付加反応が報告されている（非特許文献３参照）。この反応は、特にラジカル禁止剤存在下で反応を行った場合、アルケンへの塩素の付加反応よりも、アルケン上の水素の置換反応が優先的に進行してしまう傾向にあるため、ｖｉｃ−ジクロリド化合物を選択的に合成することは困難であった（例えば特許文献１、非特許文献３参照）。また、含窒素化合物存在下、ブタジエンへの塩素付加反応が報告されている（特許文献２参照）。しかし、この方法は、特定の溶剤（ブタン、ペンタン等）を、少なくともブタジエンの体積に対し２．５倍以上使用する必要があるため、コスト的に不利であった。さらに、ブタジエンに１，２付加した１，２−ジクロロ−３−ブテン以外に１，４付加した１，４−ジクロロブテンが生成するため、１，２−ジクロリド化合物を選択的に合成することは難しかった。また、ホモアリルエーテル構造を有する化合物の塩素化は、無機化合物（塩化銅）の添加による収率の改善を試みているが、ほとんど効果は無く、改良が望まれていた（例えば特許文献３参照）。
米国特許第３２８５９７９号明細書 特開平３−２２０１３９号公報 特開２００５−６８０４４号公報 日本化学会編第４版実験科学講座１９ 有機合成Ｉ 炭化水素、ハロゲン化合物 ４１６頁 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９６５，８７，２１７２． Ｅｋｏｌｏｇｉｙａ ｉ Ｐｒｏｍｙｓｈｌｅｎｎｏｓｔ Ｒｏｓｓｉｉ ２００１，（Ｄｅｃ），４１．

従って、本発明の目的は、これまで製造が困難であった１，２−ジクロリド化合物を、高効率、高選択的かつ安全に製造することが可能な新規製造方法を提供することにある。

本発明者は上記課題を解決するため種々検討を重ねた結果、一般式（ＩＩ）で表される化合物を塩素化するのに、ある種の塩素化反応促進剤を添加することが非常に有効的であることを発見した。さらに、上記課題は下記手段により達成されることを見出した。
すなわち、本発明は、
（１）下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を、フェノール系化合物及び／又はアミン系化合物の塩素化反応促進剤の存在下、塩素と反応させることを特徴とする下記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法、

（一般式（Ｉ）中、Ｙは塩素原子とフッ素原子が置換したアセチル基を表す。Ａは酸素原子を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数１〜５の置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６はそれぞれ同じでも異なっていても良い。ｎは０である。）

（一般式（ＩＩ）中、Ｙ’は一般式（Ｉ）中のＹと同義である。Ａ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びｎは一般式（Ｉ）中のＡ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びｎと同義である。）、
（２）前記Ｙが−ＣＯＣＣｌＦ _２ であることを特徴とする（１）に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法、
（３）前記Ｒ _３ が水素原子であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法、
（４）前記Ｒ _３ 及びＲ _４ が水素原子であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法、
（５）前記Ｒ _１ が炭素数１〜５の無置換のアルキル基であり、前記Ｒ _２ が水素原子であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法、および、
（６）前記塩素化反応促進剤が、フェノール、ヒドロキノン、カテコール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ペンタエリスリトール テトラキス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、ジフェニルアミン、α−ナフチルフェニルアミン、ピリミジン、イミダゾール又はピリジンであることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法
を提供するものである。
本発明において、「塩素化反応促進剤」とは、塩素のアルケンへの付加反応における副反応（多塩素化反応、分解反応等）を抑制できる有機化合物を意味する。この副反応を抑制できる化合物であれば特に制限なく用いることが可能であるが、特に反応系内で発生したラジカルを捕捉できる化合物（ラジカル禁止剤）を用いることが有効である。

本発明のｖｉｃ−ジクロリド化合物の製造方法は、高効率でかつ選択性に優れた製造法であり、しかも基質の精製に煩雑な操作（カラムクロマトグラフィー等）を必要としない、製造適性に優れた方法である。さらに、安価な有機化合物を少量添加するだけで十分な効果を発揮するため、コスト的に有利に製造することができる。

以下、本発明についてより詳細に説明する。
まず、本発明の製造方法により得られる、一般式（Ｉ）で表されるｖｉｃ−ジクロロ化合物について詳しく述べる。

一般式（Ｉ）中、Ｙは塩素原子とフッ素原子が置換したアセチル基を表す。

以下に、置換基を有するアルキル基を例にしては、特定の基に置換する置換基を説明する。

置換基を有するアルキル基の該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基などが挙げられる。

置換基を有するアルキル基の上記置換基を以下に、さらに詳細に説明する。
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素原子数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が特に好ましい。）、

アルケニル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素原子数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）が挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）］、やトリシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が特に好ましい。）アルキニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、

アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素原子数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、

アルコキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素原子数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、

アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素原子数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ−１,３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、

アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ、m−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素原子数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、

アルキルチオ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、

アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素原子数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、

アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素原子数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、

ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。

上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

Ｙにおけるアセチル基には、本発明においては塩素原子とフッ素原子が置換する。

一般式（Ｉ）中、Ａは酸素原子を表す。Ｒ _１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数１〜５の置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６はそれぞれ同じでも異なっていても良い。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６における好ましい例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基である。ｎは０である。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６が有してもよい置換基の例には、前記アルキル基の置換基として挙げたものが挙げられる。

次に本発明の製造方法に用いられる一般式（ＩＩ）で表される化合物について述べる。

一般式（ＩＩ）中、Ｙ’は一般式（Ｉ）中のＹと同義である。

Ｙ’におけるアセチル基には、本発明においては塩素原子とフッ素原子が置換する。

一般式（ＩＩ）中、Ａ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びｎは一般式（Ｉ）中のＡ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びｎと同義である。

以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体的な例を示すが、これによって本発明が限定されるものではない。

以下に本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体的な例を示すが、これによって本発明が限定されるものではない。

本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法は、一般式（ＩＩ）で表される化合物を、塩素化反応促進剤存在下、塩素と反応させることを特徴とする。本発明において用いることができる塩素化反応促進剤としては、例えば、フェノール系化合物（フェノール、ヒドロキノン、カテコール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ペンタエリスリトール テトラキス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）等）、アミン系化合物（窒素上の非共有電子対が共役している化合物及び含窒素へテロ環化合物。例えば、ジフェニルアミン、α―ナフチルフェニルアミン、ピリミジン、イミダゾール、ピリジン）、ニトロベンゼン系化合物（ニトロベンゼン、ｍ−メチルニトロベンゼン等）、スルホン酸系化合物（ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、オクチルスルホン酸ナトリウム等）、カルボン酸系化合物（安息香酸、２−クロロ安息香酸等）、四級アンモニウム塩（ブチルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等）が挙げられるが、フェノール系化合物、アミン系化合物、スルホン酸系化合物、四級アンモニウム塩が好ましく、フェノール系化合物及びアミン系化合物がさらに好ましい。また、塩素化反応促進剤は、一種類用いても、数種類を組み合わせて使用しても良い。

塩素化反応促進剤は、化合物（ＩＩ）に対し０．００１モル％〜５０モル％用いることが好ましく、０．０１モル％〜２５モル％がより好ましく、０．１モル％〜１０モル％用いるのが最も好ましい。

アルケンへの塩素付加反応方法は、化合物（ＩＩ）及び塩素化反応促進剤の混合物に塩素を導入する方法、及び塩素化反応促進剤を添加した溶媒に塩素と基質を同時注入する方法等が考えられ、特に制限なく使用することができるが、化合物（ＩＩ）及び塩素化反応促進剤の混合物に塩素を導入する方法が好ましい。塩素は、そのまま反応系に導入する方法、及び不活性ガス（窒素、ヘリウム等）で希釈して導入する方法が考えられるが、不活性ガスで希釈せずにそのまま導入するのが経済的な観点から好ましい。反応溶媒は、ヘキサン、ヘプタン等のアルカン系溶媒、トルエン、クロロベンゼン等のアリール系溶媒、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられ、特に制限なく使用することができる。使用できる溶媒の量は、経済的な観点から、基質の体積に対し、５倍以下用いることが好ましく、無溶媒で行うのが最も好ましい。

反応は、反応温度が−１００℃〜１００℃の間で行えるが、−５０〜７０℃が好ましく、−３０℃〜５０℃がさらに好ましい。反応圧力は、特に限定はなく、通常０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａで行うことができる。

通常、本反応に要する時間は、反応温度、一般式（ＩＩ）で表される化合物の種類や量、塩素の導入速度等に左右されるので一義的に決まらないが、約１分間〜１０時間である。反応終了はＮＭＲ、ＧＬＣ、ＨＰＬＣ、ＴＬＣ、ＧＣ−ＭＡＳＳ、その他の方法によって確認できる。

反応終了後の処理方法は、特に制限されることがないが、不活性ガス（窒素、ヘリウム等）で反応系から塩素を除去後、反応溶液に水又は無機塩の水溶液を加えて抽出操作するのが好ましい。無機塩の水溶液としては、塩化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等が挙げられる。抽出操作に用いる無機塩の水溶液の量は、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、体積にして０．０１倍以上１００倍以下の量を用いることが好ましく、０．１倍以上５０倍以下がより好ましい。さらに、抽出操作を行う際、有機溶媒を添加することができる。抽出操作に用いる有機溶媒は生成物を反応溶液から取り出すことが出来れば特に制限なく使用できるが、アルカン系溶媒（ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン等）、アリール系溶媒（トルエン、キシレン、メシチレン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）が好ましく、さらにヘキサン、トルエン、キシレン、酢酸エチルが特に好ましい。抽出操作に用いる有機溶媒の量は、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、体積にして０．０１倍以上１００倍以下の量を用いることが好ましく、０．１倍以上５０倍以下がより好ましい。

以下に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

合成例１ 化合物（ＩＩ−９）の合成

活性化処理していない亜鉛粉末（７１８．８ｍｍｏｌ、４７ｇ）、水７５ｍｌ、プロピオンアルデヒド（３１９．５ｍｍｏｌ、２３ｍＬ）及びアリルブロミド（４７９．２ｍｍｏｌ、４１．５ｍＬ）を反応器に加え、攪拌しながら氷浴で内温５℃にした。次に濃塩酸（塩化水素３５％含有水溶液）（１４３．８ｍｍｏｌ、１５ｍＬ）を内温５〜２０℃に保ちながら２時間かけて滴下した。氷浴を外しさらに１時間攪拌後、反応液をろ過し、そのろ液を塩化ナトリウムで飽和させてヘキサンで２回抽出した。ＧＬＣ測定の結果、化合物Ａがヘキサン中に２９３．３ｍｍｏｌ（生成率９２％）含まれていることが分かった。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ_３）０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４０Ｈｚ）、１．５０（２Ｈ，ｍ）、１．７５（１Ｈ，ｂｒｓ）、２．１５（１Ｈ，ｍ）、２．３０（ｍ，１Ｈ）、３．５８（ｍ，１Ｈ）、５．１２（１Ｈ，ｍ）、５．１５（１Ｈ，ｍ）、５．７８−５．８９（１Ｈ，ｍ）

上記で得た化合物Ａ含有ヘキサン溶液を、ヘキサンを用いて全体積を１００ｍＬにし、外温１２０℃で加熱還流した。そこにクロロジフルオロ酢酸（４１６．９ｍｍｏｌ、３５．３ｍＬ）、パラトルエンスルホン酸一水和物２．７８ｍｍｏｌ（０．５３ｇ）を含有するヘキサン溶液５０ｍＬを１時間かけて滴下した。反応中に生成する水は留去した。滴下終了後、さらに４時間加熱した後、放冷した。得られた反応液を水で洗浄し、さらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。この反応液を蒸留したところ、化合物（ＩＩ−９）を１７９．４ｍｍｏｌ（純度９７％（ＧＬＣ））で得ることができた。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ_３） ０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３５Ｈｚ）、１．７２（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ）、２．４２（２Ｈ，ｍ）、５．００−５．１６（３Ｈ，ｍ）、５．７０−５．７９（１Ｈ，ｍ）
^１９Ｆ ＮＭＲ（２８２．４ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） −６４．３（２Ｆ，ｓ）

実施例１ ペンタエリスリトール テトラキス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）を用いた化合物（Ｉ−９）の製造方法

化合物（ＩＩ−９）（１１７．５ｍｍｏｌ、２５ｇ）にペンタエリスリトール テトラキス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）（１．１８ｍｍｏｌ、１．３８ｇ）を加え、−１０℃で塩素ガスをゆっくり（１０℃を超えない程度に）、系の発熱がなくなるまで吹き込んだ。窒素ガスを吹き込んだ後、酢酸エチルを１００ｍL加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。ガスクロマトグラフィー分析により、化合物（Ｉ−９）が１０９ｍｍｏｌ（生成率９３％）で生成していることが分かった。得られた有機相を濃縮後、蒸留することにより、化合物（Ｉ−９）を９５．７ｍｍｏｌ（２７．１４ｇ、収率８１％、純度９５％（ＧＬＣ））で得ることができた。
以下に化合物（Ｉ−９）の化合物データを示す。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ_３）０．９７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．７４−１．８５（２Ｈ，ｍ）、１．９１−２．００（１Ｈ，ｍ）、２．１９−２．２１（１Ｈ，ｍ）、２．３９−２．４５（１Ｈ，ｍ）、３．６４−３．７０（１Ｈ，ｍ）、３．８０−３．８５（１Ｈ，ｍ）、４．０５−４．１０（１Ｈ，ｍ）、５．１５−５．３６（１Ｈ，ｍ）
^１９Ｆ ＮＭＲ（２８２．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ_３）−６４．６，−６４．８（２Ｆ，ｂｒｓ）

実施例２ フェノールを用いた化合物（Ｉ−９）の製造方法
フェノールを４．７ｍｍｏｌ（０．４４ｇ）を用いた以外は、実施例１と同様に反応を行ったところ、ガスクロマトグラフィー分析により、化合物（Ｉ−９）が１１０ｍｍｏｌ（生成率９３％）で生成していることが分かった。

実施例３ α−ナフチルフェニルアミン及びピリジンを用いた化合物（Ｉ−９）の製造方法
α−ナフチルフェニルアミン０．５９ｍｍｏｌ（０．１３ｇ）、ピリジン１．１８ｍｍｏｌ（０．０９３ｇ）を用いた以外は、実施例１と同様に反応を行ったところ、ガスクロマトグラフィー分析により、化合物（Ｉ−９）が１０６ｍｍｏｌ（生成率９０％）で生成していることが分かった。

比較例
ペンタエリスリトール テトラキス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）を添加しなかった以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、化合物（Ｉ−９）以外に、化合物（Ｉ−９）にさらに一原子の塩素が置換した化合物Ｂが生成していることがガスクロマトグラフィーより分かった（ガスクロマトグラフィー面積比率 化合物（Ｉ−９）：化合物Ｂ＝５９．４：１６．３）。化合物Ｂ以外にも様々なピークが観測された。カラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ヘキサン：酢酸エチル＝１００：１）で生成後、蒸留することにより、化合物（Ｉ−９）が６５．６ｍｍｏｌ（１８．６ｇ、収率５６％、純度９３％）で得られた。

Claims (6)

1. 下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を、フェノール系化合物及び／又はアミン系化合物の塩素化反応促進剤の存在下、塩素と反応させることを特徴とする下記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
   

   

   （一般式（Ｉ）中、Ｙは塩素原子とフッ素原子が置換したアセチル基を表す。Ａは酸素原子を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数１〜５の置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６はそれぞれ同じでも異なっていても良い。ｎは０である。）
   

   

   （一般式（ＩＩ）中、Ｙ’は一般式（Ｉ）中のＹと同義である。Ａ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びｎは一般式（Ｉ）中のＡ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びｎと同義である。）
2. 前記Ｙが−ＣＯＣＣｌＦ _２ であることを特徴とする請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
3. 前記Ｒ _３ が水素原子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
4. 前記Ｒ _３ 及びＲ _４ が水素原子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
5. 前記Ｒ _１ が炭素数１〜５の無置換のアルキル基であり、前記Ｒ _２ が水素原子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
6. 前記塩素化反応促進剤が、フェノール、ヒドロキノン、カテコール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ペンタエリスリトール テトラキス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、ジフェニルアミン、α−ナフチルフェニルアミン、ピリミジン、イミダゾール又はピリジンであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。