JP2015082602A - 研磨方法および研磨装置 - Google Patents
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Abstract
Description
さらに、本発明によれば、研磨液をフィルタに間欠的に通過させることにより、フィルタに捕捉された粗大粒子を除去することができる。したがって、粗大粒子によって基板の表面にスクラッチが発生することを防止することができる。
さらに本発明によれば、大流量の研磨液をフィルタに連続的に通過させることにより、フィルタに捕捉された粗大粒子を除去することができる。したがって、粗大粒子によって基板の表面にスクラッチが発生することを防止することができる。
図1は研磨装置の斜視図である。図1に示すように、研磨装置は、研磨パッド1を支持する研磨テーブル2と、ウェハなどの基板Wを研磨パッド1に押し付けるトップリング3と、研磨パッド1に研磨液(スラリー)を供給するための研磨液供給機構4とを備えている。
2 研磨テーブル
3 トップリング
4 研磨液供給機構
5 テーブル軸
6 テーブルモータ
7 トップリングシャフト
8 トップリングアーム
10 スラリー供給ノズル
11 ノズル旋回軸
12 移送管
14 フィルタ
16 レギュレータ
18 流量計
20 開閉弁
22 制御部
24 ドレッシング装置
25 純水供給ノズル
26 ドレッサ
27 ドレッサアーム
28 ドレッサ旋回軸
30 ドレイン口
32 圧力計
40 アトマイザ
49 支持軸
Claims (24)
- 基板を研磨する研磨方法において、
研磨液の流量および圧力のうちのいずれか一方である前記研磨液の物理量が所定の設定値に達するまで前記物理量を増加させながら、フィルタに前記研磨液を通過させ、
前記フィルタを通過した前記研磨液を研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする研磨方法。 - 前記研磨液の物理量が前記所定の設定値に達した後、前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記研磨液の物理量が前記所定の設定値に達するまで、前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給することを特徴とする請求項2に記載の研磨方法。
- 前記研磨液の物理量が前記所定の設定値に達するまで、前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッドの外に排出する、または回収することを特徴とする請求項2に記載の研磨方法。
- 基板を研磨する研磨方法において、
前記基板を研磨していないときに、研磨液をフィルタに間欠的に通過させるフィルタクリーニング工程を行い、
前記フィルタを通過した前記研磨液を研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする研磨方法。 - 前記フィルタクリーニング工程中に前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッドの外に排出する、または回収することを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。
- 前記フィルタクリーニング工程中に前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給し、
前記研磨パッドに洗浄流体を供給して前記研磨パッドから前記研磨液を除去し、
前記フィルタを通過した研磨液を前記研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。 - 前記フィルタクリーニング工程後に、前記研磨液の流量および圧力のうちのいずれか一方である前記研磨液の物理量が所定の設定値に達するまで前記物理量を増加させながら、前記フィルタに前記研磨液を通過させ、
前記フィルタを通過した前記研磨液を研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載の研磨方法。 - 基板を研磨する研磨方法において、
前記基板を研磨していないときに、研磨液の流量および圧力のうちのいずれか一方である前記研磨液の物理量を、前記基板の研磨時の前記物理量よりも大きい値に保ちつつ、前記研磨液をフィルタに連続的に通過させるフィルタクリーニング工程を行い、
前記フィルタを通過した前記研磨液を研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする研磨方法。 - 前記フィルタクリーニング工程中に前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッドの外に排出する、または回収することを特徴とする請求項9に記載の研磨方法。
- 前記フィルタクリーニング工程中に前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給し、
前記研磨パッドに洗浄流体を供給して前記研磨パッドから前記研磨液を除去し、
前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする請求項9に記載の研磨方法。 - 前記フィルタクリーニング工程後に、前記物理量が所定の設定値に達するまで前記物理量を増加させながら、前記フィルタに前記研磨液を通過させ、
前記フィルタを通過した前記研磨液を研磨パッド上に供給しながら前記研磨パッド上で前記基板を研磨することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか一項に記載の研磨方法。 - 研磨パッドを支持する研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押し付けるトップリングと、
前記研磨パッドに研磨液を供給する研磨液供給機構とを備え、
前記研磨液供給機構は、
前記研磨液を前記研磨パッド上に供給するスラリー供給ノズルと、
前記スラリー供給ノズルに接続されたフィルタと、
前記フィルタを通過する前記研磨液の流量および圧力のうちのいずれか一方である前記研磨液の物理量を調整するレギュレータとを備え、
前記レギュレータは、前記物理量が所定の設定値に達するまで前記物理量を増加させることを特徴とする研磨装置。 - 前記物理量が前記所定の設定値に達した後、前記研磨液供給機構が前記研磨液を前記研磨パッドに供給しながら、前記トップリングは前記基板を前記研磨パッドに押し付けて前記基板を研磨することを特徴とする請求項13に記載の研磨装置。
- 前記物理量が前記所定の設定値に達するまで、前記スラリー供給ノズルは前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給することを特徴とする請求項14に記載の研磨装置。
- 前記物理量が前記所定の設定値に達するまで、前記スラリー供給ノズルは前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッドの外に排出するように動作することを特徴とする請求項14に記載の研磨装置。
- 研磨パッドを支持する研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押し付けるトップリングと、
前記研磨パッドに研磨液を供給する研磨液供給機構とを備え、
前記研磨液供給機構は、
前記研磨液を前記研磨パッド上に供給するスラリー供給ノズルと、
前記研磨液を前記スラリー供給ノズルに移送する移送管と、
前記移送管を開閉する開閉弁と、
前記移送管に接続されたフィルタとを備え、
前記基板を研磨していないときに、前記開閉弁はその開閉動作を所定の回数行うことで前記研磨液に前記フィルタを間欠的に通過させることを特徴とする研磨装置。 - 前記スラリー供給ノズルは、前記フィルタを間欠的に通過した前記研磨液を前記研磨パッドの外に排出するように動作することを特徴とする請求項17に記載の研磨装置。
- 前記研磨パッド上に洗浄流体を供給するパッド洗浄機構をさらに備え、
前記スラリー供給ノズルは、前記フィルタを間欠的に通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給し、
前記パッド洗浄機構は、前記研磨パッドに前記洗浄流体を供給して前記研磨パッドから前記研磨液を除去することを特徴とする請求項17に記載の研磨装置。 - 前記研磨液供給機構は、前記フィルタを通過する前記研磨液の流量および圧力のうちのいずれか一方である前記研磨液の物理量を調整するレギュレータをさらに備え、
前記開閉弁がその開閉動作を所定の回数行った後、前記レギュレータは、前記物理量が所定の設定値に達するまで前記物理量を増加させることを特徴とする請求項17乃至19のいずれか一項に記載の研磨装置。 - 研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押し付けるトップリングと、
前記研磨パッドに研磨液を供給するための研磨液供給機構とを備え、
前記研磨液供給機構は、
前記研磨液を前記研磨パッド上に供給するスラリー供給ノズルと、
前記スラリー供給ノズルに接続されたフィルタと、
前記フィルタを通過する前記研磨液の流量および圧力のうちのいずれか一方である前記研磨液の物理量を調整するレギュレータとを備え、
前記研磨液供給機構は、前記基板を研磨していないときに、前記研磨液の物理量を、前記基板の研磨時の前記物理量よりも大きい値に保ちつつ、前記研磨液をフィルタに連続的に通過させるフィルタクリーニング工程を実行することを特徴とする研磨装置。 - 前記スラリー供給ノズルは、前記フィルタクリーニング工程中に前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッドの外に排出するように動作することを特徴とする請求項21に記載の研磨装置。
- 前記研磨パッド上に洗浄流体を供給するパッド洗浄機構をさらに備え、
前記スラリー供給ノズルは、前記フィルタクリーニング工程中に前記フィルタを通過した前記研磨液を前記研磨パッド上に供給し、
前記パッド洗浄機構は、前記研磨パッドに前記洗浄流体を供給して前記研磨パッドから前記研磨液を除去することを特徴とする請求項21に記載の研磨装置。 - 前記フィルタクリーニング工程後、前記レギュレータは、前記物理量が所定の設定値に達するまで前記物理量を増加させることを特徴とする請求項21乃至23のいずれか一項に記載の研磨装置。
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