JP2015071679A - 紫外線吸収性ポリカーボネート - Google Patents

Abstract

【課題】紫外線吸収性を有し、加工時に性能の低下や、加工設備の汚染がなく耐熱性に優れ、更に耐候性にも優れたポリカーボネートを提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で表される構造を少なくとも一つの末端には有する紫外線吸収性ポリカーボネート。

【選択図】なし

Description

本発明は、紫外線吸収性を有する耐候性に優れたポリカーボネートに関する。

ポリカーボネート樹脂は、耐熱性，耐衝撃性，透明性などに優れたエンジニアリングプラスチックとして、例えば、光学部品、機械部品、電気・電子部品，自動車部品、樹脂ガラス、建材などの用途に広く用いられている。しかしポリカーボネート樹脂の耐候性は不十分であり、紫外線に暴露されると分子量低下や黄変などを起こし、容易に劣化する問題があった。特に屋外で使用する場合はその耐候性に問題があった。

このポリカーボネート樹脂の耐候性を改善するために、ポリカーボネート樹脂に紫外線吸収剤を添加する方法が行われている。これら紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、シアノアクリレート系等の従来公知の紫外線吸収剤が挙げられる。

しかし、これら従来の紫外線吸収剤を添加する方法は、樹脂の加工時（押出や射出成形等）の熱により、紫外線吸収剤が熱分解したり、揮散したりしてしまい、その効力が低下したり、加工設備を汚染したりする耐熱性の問題があった。また屋外使用時にも、徐々に紫外線吸収剤が揮散し、長期的な耐候性が得られないという問題があった。
これに対し、特許文献１〜４には、この紫外線吸収剤の揮散を防止する方法として、紫外線吸収剤を共重合する方法が開示されている。しかしこれらの耐候性は、いまだ十分ではなかった。

特開昭４９−９９５９６号公報 特開平１−２０１３３０号公報 特開平３−３９３２６号公報 特開平６−１０７７７９号公報

従って、本発明の目的は、紫外線吸収性を有し、加工時に性能の低下や、加工設備の汚染がなく耐熱性に優れ、更に耐候性にも優れたポリカーボネートを提供することにある。

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有するポリカーボネートが上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートは、下記一般式（１）で表されることを特徴とするものである。

式（１）中、ｎは２〜３００の整数を表し、
Ｂ^１は、炭素原子数２〜１０の直鎖又は分岐鎖のアルキリデン基、炭素原子数１〜１０のアルキレン基、炭素原子数６〜１２のアリーレン基、炭素原子数７〜２０のアリール置換アルキレン基、炭素原子数８〜２０のアリール置換アルキリデン基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキリデン基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキレン基、炭素原子数１０〜２０のアルキリデン−アリーレン−アルキリデン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基、又は直接結合を表し、
Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン、炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基又は炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、下記一般式（２）で表される基、水素原子又は下記一般式（３）で表される基を表す。但し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一つは下記一般式（２）で表される基である。

式（２）中、Ｇ^１は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、又は、無置換の炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
Ｒ^５〜Ｒ^８は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；無置換の炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数２〜８のアルケニル基；無置換の炭素原子数２〜８のアルケニル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜１８のアリール基；無置換の炭素原子数６〜１８のアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；無置換の炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；無置換の炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；又は、水素原子を表す。該アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；無置換の炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数２〜８のアルケニル基；無置換の炭素原子数２〜８のアルケニル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜１８のアリール基；無置換の炭素原子数６〜１８のアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；無置換の炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；無置換の炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；水素原子、又は、ヒドロキシ基を表す。該アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
また、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^９で示される基のうち隣り合う２個の基が連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに５〜７員環を形成してもよく、Ｒ^６、Ｒ^８、Ｒ^１０で示される基のうち隣り合う２個の基が連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに５〜７員環を形成してもよい。
Ｒ^１１は水素原子又は炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す。
また、＊位置で一般式（１）に結合する。

式（３）中、Ｒ^１２は、水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、又は、炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基を表す。Ｒ^１３は水素原子、又は、メチル基を表す。また、＊位置で一般式（１）に結合する。

また、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートとしては、下記式で表されるものが好ましい。

式（４）中、ｎは２〜３００の整数を表し、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、下記一般式（５）で表される基、水素原子、又は、前記一般式（３）で表される基である。但し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一つは下記一般式（５）で表される基である。

式（５）中、Ｇ^１は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、又は、無置換の炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；無置換の炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数２〜８のアルケニル基；無置換の炭素原子数２〜８のアルケニル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜１８のアリール基；無置換の炭素原子数６〜１８のアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；無置換の炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；無置換の炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基、又は、水素原子を表す。該アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
また、＊位置で、一般式（４）に結合する。

本発明の紫外線吸収性ポリカーボネート樹脂組成物は、上記の紫外線吸収性ポリカーボネートに合成樹脂用添加剤を添加してなることを特徴とするものである。

本発明の耐候性熱可塑性樹脂組成物は、上記の紫外線吸収性ポリカーボネートを熱可塑性樹脂に添加してなることを特徴とするものである。

本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートの製造方法は、下記一般式（６）で表される芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆体の重合反応時に、下記一般式（７）で表されるトリアジン化合物を添加することを特徴とするものである。

式（６）中、Ｂ^１は、前記一般式（１）中のＢ^１と同様であり、Ｒ^１〜Ｒ^４は、前記一般式（１）中のＲ^１〜Ｒ^４と同様である。

式（７）中、Ｇ^１は、前記一般式（２）中のＧ^１と同様であり、Ｒ^５〜Ｒ^８は、前記一般式（２）中のＲ^５〜Ｒ^８と同様であり、Ｒ^９及びＲ^１０は、前記一般式（２）中のＲ^９及びＲ^１０と同様であり、Ｒ^１１は前記一般式（２）中のＲ^１１と同様である。

本発明によれば、紫外線吸収性を有し、加工時に性能の低下や、加工設備の汚染がなく耐熱性に優れ、更に耐候性に優れたポリカーボネート樹脂を提供することができる。

以下本発明について詳述する。
前記一般式（１）において、Ｂ^１がとりうる炭素原子数２〜１０の直鎖又は分岐鎖のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリデン、ペンチリデン、ヘキシリデン、ヘプチリデン、オクチリデン、ノニリデン、デシリデン等が挙げられる。
炭素原子数１〜１０のアルキレン基の例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘプチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン等が挙げられる。
炭素原子数６〜１２のアリーレン基の例としては、フェニレン、トリレン、キシリレン、ナフチレン、ビフェニレンが挙げられる。
炭素原子数７〜２０のアリール置換アルキレン基の例としては、フェニルメチレン、ジフェニルエチレン等が挙げられる。
炭素原子数８〜２０のアリールアルキリデン基としては、１−フェニル−１−エチリデン、１−フェニル−２−プロピリデン等が挙げられる。
炭素原子数３〜１５のシクロアルキリデン基の例としては、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデンが挙げられる。
炭素原子数３〜１５のシクロアルキレン基の例としては、１，３−シクロペンチレン、１，４−シクロヘキシレン等が挙げられる。
炭素原子数１０〜２０のアルキリデン−アリーレン−アルキリデンの例としては、ｍ−ジイソプロピリデンフェニレン、ｐ−ジイソプロピリデンフェニレン等が挙げられる。
Ｂ^１は、ポリカーボネートの耐熱性、耐候性と耐衝撃性の点から、イソプロピリデン基が好ましい。

前記一般式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^４がとりうる炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二級ブチル、第三級ブチル、アミル、第三級アミル、ヘキシル、オクチル、第二級オクチル、第三級オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ウンデシル、ドデシル等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
炭素原子数３〜８のシクロアルキル基の例としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等が挙げられる。
炭素原子数６〜１８のアリール基の例としては、フェニル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。
炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基の例としては、メチルフェニル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、オクチルフェニル基等が挙げられる。
炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基の例としては、ベンジル、２−フェニルエチル、１−メチル−１−フェニルエチル基、２−フェニルプロパン−２−イル基等が挙げられる。
Ｒ^１〜Ｒ^４は、耐熱性、耐候性と耐衝撃性の物性の点から、水素原子が好ましい。

一般式（１）において、耐熱性、耐候性の点から、Ａ^１及びＡ^２は、２つとも一般式（２）で表される基であることが好ましい。

前記一般式（２）において、Ｇ^１がとりうる炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシレン、ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレン、オクタデシレン等が挙げられる。このアルキレン基を置換してもよい、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二級ブチル、第三級ブチル、アミル、第三級アミル、ヘキシル、オクチル、第二級オクチル、第三級オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル基が挙げられる。炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基としては、前記アルキル基に対応するアルコキシ基が挙げられる。Ｇ^１としては、無置換の炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐鎖アルキレン基、炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐鎖アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１０の分岐鎖アルキレン基が好ましい。

前記一般式（２）において、Ｒ^５〜Ｒ^１０の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基の例としては、前記アルキル基と同様のものが挙げられる。炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基の例としては、前記アルコキシ基と同様のものが挙げられる。炭素原子数３〜８のシクロアルキル基の例としては、前記シクロアルキル基と同様のものが挙げられる。炭素原子数２〜８のアルケニル基の例としては、前記アルキル基に対応するアルケニル基が挙げられる。炭素原子数６〜１８のアリール基の例としては、前記アリール基と同様のものが挙げられる。炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基の例としては、前記アルキルアリール基と同様のものが挙げられる。炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基の例としては、前記アリールアルキル基と同様のものが挙げられる。これらを置換していてもよい炭素原子数１〜１２のアルキル基は前記アルキル基と同様のものが挙げられる。炭素原子数１〜１２のアルコキシ基は前記アルキル基に対応するアルコキシ基が挙げられる。

一般式（２）において、Ｒ^５及びＲ^６は、耐熱性と耐候性の点から、水素原子、アルキル基、又はアリール基が好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基が特に好ましい。Ｒ^７及びＲ^８は、耐熱性と耐候性の点から、水素原子又はアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。Ｒ^９及びＲ^１０は、耐熱性と耐候性の点から、水素原子、アルキル基又はヒドロキシ基が好ましく、水素原子、メチル基、ヒドロキシ基がより好ましく、水素原子又はメチル基が最も好ましい。

前記一般式（２）において、Ｒ^１１の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基の例としては、前記アルキル基と同様のものが挙げられる。Ｒ^１１は耐熱性と耐候性の点から水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

前記一般式（３）において、Ｒ^１２の炭素原子数１〜９のアルキル基の例としては、前記アルキル基のうち、炭素原子数１〜９のものが挙げられ、炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基の例としては、ベンジル、２−フェニルエチル、１−メチル−１−フェニルエチル基、２−フェニルプロパン−２−イル基等が挙げられる。Ｒ^１２は、耐熱性との点から、第三ブチル基、２−フェニルプロパン−２−イル基が好ましい。

一般式（１）で表される紫外線吸収性ポリカーボネートのうち、耐熱性、耐候性と耐衝撃性の点から、下記一般式（４）で表されるものが好ましい。

式（４）中、ｎは５〜２００の整数を表し、Ａ^１及びＡ^２は、互いに同一でも異なっていてもよく、下記一般式（５）で表される基、水素原子又は前記一般式（３）で表される基である。但し、Ａ^１及びＡ^２の少なくともひとつは下記一般式（５）で表される基である。

式（５）中、Ｇ^１、Ｒ^５及びＲ^６、Ｒ^９及びＲ^１０は、上記と同様である。また、＊位置で、一般式（４）に結合する。

また、前記一般式（４）において、耐候性の点から、Ａ^１及びＡ^２は、２つとも一般式（５）で表される基であることが好ましい。

Ｒ^５及びＲ^６は、耐熱性と耐候性の点から、水素原子、アルキル基又はアリール基が好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基がより好ましい。
Ｒ^９及びＲ^１０は、耐熱性と耐候性の点から、水素原子又はアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。

本発明の一般式（１）で表される紫外線吸収性ポリカーボネートとしては、例えば下記の化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．８等の化合物が挙げられる。

ｎは２〜３００の整数を表す。

ｎは２〜３００の整数を表す。

ｎは２〜３００の整数を表す。

ｎは２〜３００の整数を表す。

ｎは２〜３００の整数を表す。

ｎは２〜３００の整数を表す。

ｎは２〜３００の整数を表し、Ｘ^１はＣ_１２Ｈ_２５基及び／又はＣ_１３Ｈ_２７基を表す。

ｎは２〜３００の整数を表す。

次に本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートの製造方法について説明する。
本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートは、下記一般式（６）で表される芳香族ジヒドロキシ化合物と、カーボネート前駆体との重合反応時に、下記一般式（７）のトリアジン化合物を添加して製造すればよい。

式（６）中、Ｂ^１、Ｒ^１〜Ｒ^４は、上記一般式（１）と同様である。

式（７）中、Ｇ^１、Ｒ^５〜Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０、Ｒ^１１は上記一般式（２）と同様である。

本発明の製造方法に使用される一般式（６）で表される芳香族ジヒドロキシ化合物の例を挙げると、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（＝ビスフェノ−ルＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（＝テトラブロモビスフェノ−ルＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１−トリクロロプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン等のビス（ヒドロキシアリ−ル）アルカン類；
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等のビス（ヒドロキシアリ−ル）シクロアルカン類；
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のカルド構造含有ビスフェノ−ル類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルエ−テル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエ−テル等のジヒドロキシジアリールエーテル類；
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリ−ルスルフィド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリ−ルスルホキシド類；
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリ−ルスルホン類；ハイドロキノン、レゾルシン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。
これらの中でもビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン類が好ましく、特に耐衝撃性の点から２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［＝ビスフェノ−ルＡ］が好ましい。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、１種または任意の割合で２種以上を併用してもよい。

本発明の製造方法で、芳香族ジヒドロキシ化合物と重合反応させるカーボネート前駆体としては、カルボニルハライド、カーボネートエステル、ハロホルメート等が使用される。具体的には例えば、ホスゲン；トリホスゲン（炭酸ビストリクロロメチル）等のホスゲン誘導体；ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート等のジアリールカーボネート類；ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のジアルキルカーボネート類；二価フェノールのジハロホルメート等が挙げられる。これらのカーボネート前駆体もまた、１種または任意の割合で２種以上を併用してもよい。

本発明の製造方法で使用される一般式（７）の化合物は、目的とする前記一般式（１）の化合物における一般式（２）の基の＊の部分がＯＨ基となっている化合物である。この一般式（７）の化合物を、従来公知のポリカーボネートの重合方法において用いられ末端停止剤（分子量調節剤）の代わりに又は末端停止剤と併用することで、ポリカーボネートの末端に一般式（２）の基を結合させ、目的物を得ることができる。末端停止剤としては、下記するように、一般式（３）で表される構造をもたらすような一価のフェノール性水酸基を有する化合物が用いられる。

本発明の製造方法において、一般式（６）の芳香族ジヒドロキシ化合物と、カーボネート前駆体、さらに一般式（７）の化合物を反応させる方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の任意の方法を採用できる。具体的には例えば、界面重合法、溶融エステル交換法、ピリジン法、環状カーボネート化合物の開環重合法、プレポリマーの固相エステル交換法等が挙げられる。

これら、芳香族ポリカーボネート樹脂の代表的な製造方法として、まず界面重合法について説明する。
この製造方法における重合反応は、反応に不活性な有機溶媒、及びアルカリ水溶液の存在下で、通常ｐＨを９以上に保ち、芳香族ジヒドロキシ化合物と、末端停止剤および必要に応じて芳香族ジヒドロキシ化合物の酸化防止のための酸化防止剤を用い、ホスゲンと反応させた後、第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加し、界面重合を行うことによってポリカーボネートを得る。
本発明では、この末端停止剤として、一般式（７）の化合物を用いればよい。

一般式（７）の化合物の添加はホスゲン化時から重合反応開始時までの間であれば特に限定されない。なお、反応温度は、例えば、０〜４０℃で、反応時間は、例えば、数分（例えば、１０分）〜数時間（例えば、６時間）である。

反応に不活性な有機溶媒としては、具体的には例えば、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素等；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等；が挙げられる。またアルカリ水溶液に用いられるアルカリ化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物が挙げられる。
一般式（７）の化合物と併用して用いられる末端停止剤としては、例えば一価のフェノール性水酸基を有する化合物が挙げられ、具体的には、ｍ−メチルフェノール、ｐ−メチルフェノ−ル、ｍ−プロピルフェノール、ｐ−プロピルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、及びｐ−長鎖アルキル置換フェノ−ル等が挙げられる。

重合触媒としてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、トリヘキシルアミン、ピリジン等の第三級アミン類；トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニウム塩等；が挙げられる。

また、ホスゲンの代わりに、トリホスゲン（炭酸ビストリクロロメチル）等を用いて、同様にして溶液中で反応させてもよい。

次に、溶融エステル交換法について説明する。この製造方法における重合反応は、例えば炭酸ジエステルと芳香族ジヒドロキシ化合物とのエステル交換反応である。炭酸ジエステルとしては、具体的には例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカーボネート等の炭酸ジアルキル化合物、ジフェニルカーボネート及びジトリルカーボネート等の置換ジフェニルカーボネート等が挙げられる。炭酸ジエステルとしては中でもジフェニルカーボネートや置換ジフェニルカーボネート等が好ましく、特にジフェニルカーボネートが好ましい。

溶融エステル交換法においても、末端停止剤として一般式（７）の化合物を用いる。上記した一価のフェノール性水酸基を有する末端停止剤と併用してもよい。溶融エステル交換法によりポリカーボネートを製造する際には、通常、エステル交換触媒が使用される。エステル交換触媒は従来公知のものを任意に使用でき、中でも具体的には例えば、アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物が好ましい。また補助的に、塩基性ホウ素化合物、塩基性リン化合物、塩基性アンモニウム化合物またはアミン系化合物などの塩基性化合物を併用してもよい。

上記原料を用いたエステル交換反応は、通常、１００〜３２０℃の温度で反応を行い、最終的には２ｍｍＨｇ以下の減圧下、芳香族ヒドロキシ化合物等の副生成物を除去しながら溶融重縮合反応を行えばよい。

溶融重縮合は、バッチ式、連続式の何れの方法でも行うことができる。中でも、本発明に用いる芳香族ポリカーボネート樹脂や、本発明の樹脂組成物の安定性等を考慮すると、連続式で行うことが好ましい。溶融エステル交換法に用いる触媒失活剤としては、該エステル交換反応触媒を中和する化合物、例えばイオウ含有酸性化合物またはそれより形成される誘導体を使用することが好ましい。

本発明の製造方法において、一般式（７）の化合物の量を調整することによって、得られるポリカーボネートの分子量を調整することができる。

本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートは、合成樹脂用添加剤を配合し、紫外線吸収性ポリカーボネート樹脂組成物として用いることも好ましい。
但し、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートは、紫外線吸収性を有しているため、特に紫外線吸収剤の配合は必要としないが、他の紫外線吸収剤と併用してもよい。

合成樹脂用添加剤の例としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、トリアジン環含有化合物、金属水酸化物、リン酸エステル系難燃剤、縮合リン酸エステル系難燃剤、ホスフェート系難燃剤、無機リン系難燃剤、（ポリ）リン酸塩系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、シリコン系難燃剤、酸化アンチモン、無機系難燃助剤、有機系難燃助剤、帯電防止剤、滑剤、造核剤、可塑剤、離型剤、相溶化剤、発泡剤、光吸収性色素、顔料、染料、加工助剤、金属不活性化剤、無機微粒子、抗菌剤、防黴剤、充填剤、フィラー等が挙げられる。

上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス（４，６―ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチル〕メタン、チオジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、ビス〔２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。これらのフェノール系酸化防止剤の添加量は、紫外線吸収性ポリカーボネート１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０５〜５質量部であることがより好ましい。

上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、トリス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコールと２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。これらのリン系酸化防止剤の添加量は、紫外線吸収性ポリカーボネート１００質量部に対して０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０５〜５質量部であることがより好ましい。

上記チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類、および、ペンタエリスリトールテトラ（β−アルキルチオプロピオン酸）エステル類が挙げられる。これらのチオエーテル系酸化防止剤の添加量は、紫外線吸収性ポリカーボネート１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０５〜５質量部であることがより好ましい。

上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−６−（ベンゾトリアゾリル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三ブチル−５’−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾール等の２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ第三アミルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類；２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシ−５−メチルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−ｓ−トリアジン等のトリアリールトリアジン類が挙げられる。これらの紫外線吸収剤の添加量は、紫外線吸収性ポリカーボネート１００質量部に対して、０．００１〜３０質量部であることが好ましく、０．０５〜１０質量部であることがより好ましい。

上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−4−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，４，４−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ−ル／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８−１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。これらのヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、紫外線吸収性ポリカーボネート１００質量部に対して０．００１〜３０質量部であることが好ましく、０．０５〜１０質量部であることがより好ましい。

上記トリアジン環含有化合物としては、例えば、メラミン、アンメリン、ベンズグアナミン、アセトグアナミン、フタロジグアナミン、メラミンシアヌレート、ピロリン酸メラミン、ブチレンジグアナミン、ノルボルネンジグアナミン、メチレンジグアナミン、エチレンジメラミン、トリメチレンジメラミン、テトラメチレンジメラミン、ヘキサメチレンジメラミン、１，３−ヘキシレンジメラミン等が挙げられる。

上記金属水酸化物としては、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化亜鉛、キスマー５Ａ（水酸化マグネシウム：協和化学工業（株）製）等が挙げられる。

上記リン酸エステル系難燃剤としては、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリスクロロエチルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリスイソプロピルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、ｔ−ブチルフェニルジフェニルホスフェート、ビス−（ｔ−ブチルフェニル）フェニルホスフェート、トリス−（ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート、イソプロピルフェニルジフェニルホスフェート、ビス−（イソプロピルフェニル）ジフェニルホスフェート、トリス−（イソプロピルフェニル）ホスフェートなどが挙げられる。

上記縮合リン酸エステル系難燃剤の例としては、１，３−フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、１，３−フェニレンビス（ジキシレニルホスフェート）、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）等が挙げられる。

上記（ポリ）リン酸塩系難燃剤の例としては、ポリリン酸アンモニウム、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸ピペラジン、ピロリン酸メラミン、ピロリン酸ピペラジン等の（ポリ）リン酸のアンモニウム塩やアミン塩が挙げられる。
無機系難燃助剤としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、ハイドロタルサイト、タルク、モンモリロナイトなどの無機化合物、およびその表面処理品が挙げられ、例えば、ＴＩＰＡＱＵＥＲ−６８０（酸化チタン：石原産業（株）製）、キョーワマグ１５０（酸化マグネシウム：協和化学工業（株）製）、ＤＨＴ−４Ａ（ハイドロタルサイト：協和化学工業（株）製）、アルカマイザー４（亜鉛変性ハイドロタルサイト：協和化学工業（株）製）、などの種々の市販品を用いることができる。また、有機系難燃助剤としては、例えば、ペンタエリスリトールが挙げられる。

帯電防止剤としては、例えば、脂肪酸第四級アンモニウムイオン塩、ポリアミン四級塩等のカチオン系帯電防止剤；高級アルコールリン酸エステル塩、高級アルコールＥＯ付加物、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、アニオン型のアルキルスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルコールエチレンオキシド付加物硫酸エステル塩、高級アルコールエチレンオキシド付加物リン酸エステル塩等のアニオン系帯電防止剤；多価アルコール脂肪酸エステル、ポリグリコールリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル等のノニオン系帯電防止剤；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等の両性型アルキルベタイン、イミダゾリン型両性活性剤等の両性帯電防止剤が挙げられる。

滑剤としては、例えば、流動パラフィン、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス等の炭化水素系滑剤；ステアリルアルコール、ステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸等の脂肪族系滑剤；ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンステアリン酸アミド等のアミド系滑剤；ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸バリウム／ステアリン酸亜鉛複合体、ステアリン酸亜鉛／ステアリン酸カルシウム複合体等の金属石鹸系滑剤；硬化油脂、グリセリンモノステアレート、ステアリン酸ブチル、ペンタエリスリトールステアレート、ステアリン酸ステアリル等のエステル系滑剤が挙げられる。

造核剤としては、例えばジベンジリデンソルビトール、ビス（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビトール、ビス（ｐ−エチルベンジリデン）ソルビトール、ヒドロキシ−ジ（ｔ−ブチル安息香酸）アルミニウム、リン酸ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ナトリウム、リン酸２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ナトリウム塩等の造核剤が挙げられる。

可塑剤としては、例えば、フタル酸エステル、二塩基酸エステル、塩素化パラフィン、ポリエステル、エポキシ化エステル、リン酸エステル、トリメリット酸エステル等の可塑剤が挙げられる。

充填剤としては、例えば、ケイ酸カルシウム粉、シリカ粉、タルク粉、マイカ粉、アルミナ粉、酸化チタン粉、ガラスフレーク等が挙げられる。フィラーとしては、ガラス繊維、炭素繊維等が挙げられる。

本発明の紫外線吸収性ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法は特に制限はなく、従来公知の任意の、樹脂組成物の製造方法を採用することが出来る。
具体的には例えば、紫外線吸収性ポリカーボネートと添加剤成分を、タンブラーやヘンシェルミキサ−などの各種混合機を用い予め混合した後、バンバリーミキサー、ロール、ブラベンダー、単軸混練押出機、二軸混練押出機、ニーダーなどで溶融混練する方法が挙げられる。

また各成分を予め混合せずに、又は一部の成分のみ予め混合して、フィーダーを用いて押出機に供給し溶融混練して、樹脂組成物を製造してもよい。更には、一部の成分を予め混合し押出機に供給して溶融混練することで得られる樹脂組成物をマスターバッチとし、再度、他の成分と混合し溶融混練することによって樹脂組成物を製造することもできる。

本発明の紫外線吸収性ポリカーボネート又は紫外線吸収性ポリカーボネート樹脂組成物は、成形することにより、耐候性に優れた成形体を得ることができる。成形方法としては、特に限定されるものではなく、押出加工、カレンダー加工、射出成形、ロール、圧縮成形、ブロー成形、回転成形等が挙げられ、樹脂板、シート、フィルム、ボトル、繊維、異形品等の種々の形状の成形品が製造できる。

また本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートは、樹脂成分として使用する以外に、紫外線吸収剤として、従来公知の紫外線吸収剤と同様に、各種熱可塑性樹脂に添加して使用してもよい。もちろん、従来公知のポリカーボネートに配合して使用してもよい。本発明の耐候性熱可塑性樹脂組成物は、上記本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートを熱可塑性樹脂に添加してなるものである。本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートを熱可塑性樹脂に配合する場合、その配合量は、熱可塑性樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜９０質量部、より好ましくは０．０５〜５０質量部、さらに好ましくは０．１〜３０質量部である。

本発明の耐候性熱可塑性樹脂組成物に用いることのできる熱可塑性樹脂の例としては、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、架橋ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン、ポリブテン−１、ポリ−３−メチルペンテン、ポリ−４−メチルペンテン等のα−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂およびこれらの共重合体；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂；石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンおよび／またはα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ＳＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）；ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート等のポリアルキレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等のポリアルキレンナフタレート等の芳香族ポリエステル及びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル；ポリヒドロキシブチレート、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート、ポリ乳酸、ポリリンゴ酸、ポリグリコール酸、ポリジオキサン、ポリ（２−オキセタノン）等の分解性脂肪族ポリエステル；ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタムおよびポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、ポリカーボネート／ＡＢＳ樹脂、分岐ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリサルフォン、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー等の熱可塑性樹脂およびこれらのブレンド物を挙げることができる。また、熱可塑性樹脂は、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ニトリル系エラストマー、ナイロン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ポリウレタン系エラストマー等のエラストマーであってもよい。これらの熱可塑性樹脂は、単独で使用してもよく、２種以上を併せて使用してもよい。また、熱可塑性樹脂はアロイ化されていてもよい。

これらの熱可塑性樹脂は、分子量、重合度、密度、軟化点、溶媒への不溶分の割合、立体規則性の程度、触媒残渣の有無、原料となるモノマーの種類や配合比率、重合触媒の種類（例えば、チーグラー触媒、メタロセン触媒等）等に関わらず使用することができる。

また、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートは、特に耐候性を必要とする用途に好ましく用いられ、光学部品、機械部品、電気・電子部品，自動車部品、樹脂ガラス、建材等に使用することができる。より具体的には、プリンター、パソコン、ワープロ、キーボード、ＰＤＡ（小型情報端末機）、電話機、複写機、ファクシミリ、ＥＣＲ（電子式金銭登録機）、電卓、電子手帳、カード、ホルダー、文具等の事務、ＯＡ機器、洗濯機、冷蔵庫、掃除機、電子レンジ、照明器具、ゲーム機、アイロン、コタツ等の家電機器、ＴＶ、ＶＴＲ、ビデオカメラ、ラジカセ、テープレコーダー、ミニディスク、ＣＤプレーヤー、スピーカー、液晶ディスプレー等のＡＶ機器、コネクター、リレー、コンデンサー、スイッチ、プリント基板、コイルボビン、半導体封止材料、ＬＥＤ封止材料、電線、ケーブル、トランス、偏向ヨーク、分電盤、時計等の電気・電子部品及び通信機器等の用途に用いられる。
更に、光ディスク、ＣＤディスク、ＤＶＤディスク、レンズ等の光学材料用途やガラス代替用途に用いられる。
更に、座席（詰物、表地等）、ベルト、天井張り、コンパーチブルトップ、アームレスト、ドアトリム、リアパッケージトレイ、カーペット、マット、サンバイザー、ホイルカバー、マットレスカバー、エアバック、絶縁材、吊り手、吊り手帯、電線被覆材、電気絶縁材、塗料、コーティング材、上張り材、床材、隅壁、カーペット、壁紙、壁装材、外装材、内装材、屋根材、デッキ材、壁材、柱材、敷板、塀の材料、骨組及び繰形、窓及びドア形材、こけら板、羽目、テラス、バルコニー、防音板、断熱板、窓材等の、自動車、車両、船舶、航空機、建物、住宅及び建築用材料や、土木材料、衣料、カーテン、シーツ、合板、合繊板、絨毯、玄関マット、シート、バケツ、ホース、容器、眼鏡、鞄、ケース、ゴーグル、スキー板、ラケット、テント、楽器等の生活用品、スポーツ用品、等の各種用途に使用される。

以下、実施例及び比較例により本発明を詳細に示す。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。

〔実施例１〕化合物Ｎｏ．１の合成
ビスフェノールＡ（東京化成工業（株）製試薬）を５．９３ｇ、下記トリアジン化合物Ａを０．３５ｇ、ジクロロメタンを１６０ｇ、トリエチルアミン６．４１ｇをジムロートを装着した３００ｍｌの２つ口丸底フラスコに加え、室温で溶解させた。５℃まで冷却後トリホスゲン３．１３ｇを１時間かけて少量ずつ添加後、４０℃まで昇温し１時間還流した。反応終了後、室温まで冷却の後５０ｍｌのイオン交換水で３回水洗した。反応マスをメタノール３００ｇの入った５００ｍｌビーカーに滴下しポリマーを沈殿させた後、ろ過してポリマーを回収した。ろ過後、回収したポリマーをメタノール１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後、９０℃、減圧下で乾燥し、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートである下記化合物Ｎｏ．１を６．５１ｇ（収率＝９３．３％）得た。

得られた化合物Ｎｏ．１の数平均分子量（Ｍｎ）を、下記分子量測定方法で測定した。結果を表１に示す。
また、得られた化合物Ｎｏ．１の耐熱性試験として、下記耐熱性試験方法で、１％重量減少温度を測定した。結果を表１に示す。
また、下記キャストフィルム作成方法で、キャストフィルムを作成した。得られたキャストフィルムを用いて、下記透明性試験方法でHaze値を、下記耐候性試験方法で耐候性試験を行った。それぞれの結果を表１に示す。

〔実施例２〕化合物Ｎｏ．２の合成
ビスフェノールＡ（東京化成工業（株）製試薬）を５．８６ｇ、下記トリアジン化合物Ｂを０．３５ｇ、ジクロロメタンを１６０ｇ、トリエチルアミン６．４０ｇをジムロートを装着した３００ｍｌの２つ口丸底フラスコに加え、室温で溶解させた。５℃まで冷却後トリホスゲン３．１０ｇを１時間かけて少量ずつ添加後、４０℃まで昇温し１時間還流した。反応終了後、室温まで冷却の後５０ｍｌのイオン交換水で３回水洗した。反応マスをメタノール３００ｇの入った５００ｍｌビーカーに滴下しポリマーを沈殿させた後、ろ過してポリマーを回収した。ろ過後、回収したポリマーをメタノール１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後、９０℃、減圧下で乾燥し、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートである下記化合物Ｎｏ．２を６．４３ｇ（収率＝９３．４％）得た。

得られた化合物Ｎｏ．２の数平均分子量（Ｍｎ）を、下記分子量測定方法で測定した。結果を表１に示す。
また、得られた化合物Ｎｏ．２の耐熱性試験として、下記耐熱性試験方法で、１％重量減少温度を測定した。結果を表１に示す。
また、下記キャストフィルム作成方法で、キャストフィルムを作成した。得られたキャストフィルムを用いて、下記透明性試験方法でHaze値を、下記耐候性試験方法で耐候性試験を行った。それぞれの結果を表１に示す。

〔実施例３〕化合物Ｎｏ．４の合成
ビスフェノールＡ（東京化成工業（株）製試薬）を５．３８ｇ、下記トリアジン化合物Ｃを０．３５ｇ、ジクロロメタンを１６０ｇ、トリエチルアミン５．３４ｇをジムロートを装着した３００ｍｌの２つ口丸底フラスコに加え、室温で溶解させた。５℃まで冷却後トリホスゲン２．６１ｇを１時間かけて少量ずつ添加後、４０℃まで昇温し１時間還流した。反応終了後、室温まで冷却の後５０ｍｌのイオン交換水で３回水洗した。反応マスをメタノール３００ｇの入った５００ｍｌビーカーに滴下しポリマーを沈殿させた後、ろ過してポリマーを回収した。ろ過後、回収したポリマーをメタノール１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後、９０℃、減圧下で乾燥し、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートである下記化合物Ｎｏ．４を５．８７ｇ（収率＝９２．２％）得た。

得られた化合物Ｎｏ．４の数平均分子量（Ｍｎ）を、下記分子量測定方法で測定した。結果を表１に示す。
また、得られた化合物Ｎｏ．４の耐熱性試験として、下記耐熱性試験方法で、１％重量減少温度を測定した。結果を表１に示す。
また、下記キャストフィルム作成方法で、キャストフィルムを作成した。得られたキャストフィルムを用いて、下記透明性試験方法でHaze値を、下記耐候性試験方法で耐候性試験を行った。それぞれの結果を表１に示す。

〔実施例４〕化合物Ｎｏ．５の合成
ビスフェノールＡ（東京化成工業（株）製試薬）を６．３９ｇ、下記トリアジン化合物Ｄを０．３８ｇ、ジクロロメタンを１６０ｇ、トリエチルアミン６．８９ｇをジムロートを装着した３００ｍｌの２つ口丸底フラスコに加え、室温で溶解させた。５℃まで冷却後トリホスゲン３．３７ｇを１時間かけて少量ずつ添加後、４０℃まで昇温し１時間還流した。反応終了後、室温まで冷却の後５０ｍｌのイオン交換水で３回水洗した。反応マスをメタノール３００ｇの入った５００ｍｌビーカーに滴下しポリマーを沈殿させた後、ろ過してポリマーを回収した。ろ過後、回収したポリマーをメタノール１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後、９０℃、減圧下で乾燥し、本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートである下記化合物Ｎｏ．５を７．０５ｇ（収率＝９３．９％）得た。

得られた化合物Ｎｏ．５の数平均分子量（Ｍｎ）を、下記分子量測定方法で測定した。結果を表１に示す。
また、得られた化合物Ｎｏ．５の耐熱性試験として、下記耐熱性試験方法で、１％重量減少温度を測定した。結果を表１に示す。
また、下記キャストフィルム作成方法で、キャストフィルムを作成した。得られたキャストフィルムを用いて、下記透明性試験方法でHaze値を、下記耐候性試験方法で耐候性試験を行った。それぞれの結果を表１に示す。

＜分子量測定方法＞
数平均分子量（以下Ｍｎ）はゲルパーミションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によって測定を行った。Ｍｎの測定条件は以下の通りである。

装置 ：日本分光株式会社製ＧＰＣ装置
溶媒 ：テトラヒドロフラン
基準物質 ：ポリスチレン
検出器 ：示差屈折計（ＲＩ検出器）
カラム固定相 ：昭和電工製Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ−８０４Ｌ
カラム温度 ：４０℃
サンプル濃度 ：１ｍｇ／１ｍＬ
流量 ：０．８ｍＬ／ｍｉｎ．
注入量 ：１００μＬ

＜耐熱性試験方法＞
熱重量・示差熱分析装置Ｔｈｅｒｍｏ ｐｌｕｓ ＥＶＯ（株式会社リガク製）で、空気２００ｍｌ／分の気流下で昇温速度１０℃／分で３０℃から４００℃まで昇温し、１％重量減少温度を測定した。

＜キャストフィルム作成方法＞
上記で得られた本発明の紫外線吸収性ポリカーボネートである化合物Ｎｏ．１、化合物Ｎｏ．２、化合物Ｎｏ．４、化合物Ｎｏ．５のそれぞれを１２０℃で６時間乾燥させた。その後、それぞれの紫外線吸収性ポリカーボネート２５０ｍｇと、市販のポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製：ユーピロンＳ−３０００Ｆ）２．２５ｇをラボプラストミルマイクロ（（株）東洋精機製作所製）で溶融混練（３００℃、５０ｒｐｍ、５分）し、紫外線吸収性ポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。
得られたペレットそれぞれの１．２５ｇを２５ｍｌメスフラスコへ入れ、ジクロロメタンを標線まで加えた。１時間ほど室温で放置し溶解した後、この溶液を４ｍｌホールピペットでシャーレ（直径：６０ｍｍ）へ入れ、３０分間室温で乾燥させた。乾燥後、シャーレからフィルムをはがし取ることで、５０μm厚のポリカーボネートキャストフィルムが得られた。

＜透明性試験方法＞
上記で得られたキャストフィルムのHaze値を測定した。
測定は、ヘイズ・ガードＩＩ（（株）東洋精機製作所製の商品名）を用いて、フィルム上の５点について行い、その平均値を求めた。

＜耐候試験方法＞
上記で得られたキャストフィルムを、スガ試験機株式会社製 サンシャインウェザーメーター（８３℃）水スプレーあり、で１０００時間後のフィルムの黄色度（Ｙ.Ｉ.）をスガ試験機株式会社製 多光源分光測色計で透過法により測定した。

〔比較例１〕比較化合物−１の合成
ビスフェノールＡ（東京化成工業（株）製試薬）を６．０６ｇ、４−tert−ブチルフェノールを０．１４ｇ、ジクロロメタンを１６０ｇ、トリエチルアミン６．５６ｇをジムロートを装着した３００ｍｌの２つ口丸底フラスコに加え、室温で溶解させた。５℃まで冷却後トリホスゲン３．２１ｇを１時間かけて少量ずつ添加後、４０℃まで昇温し１時間還流した。反応終了後、室温まで冷却の後５０ｍｌのイオン交換水で３回水洗した。反応マスをメタノール３００ｇの入った５００ｍｌビーカーに滴下しポリマーを沈殿させた後、ろ過してポリマーを回収した。ろ過後、回収したポリマーをメタノール１００ｍｌで３回洗浄した。洗浄後、９０℃、減圧下で乾燥し、比較用ポリカーボネートである下記比較化合物−１を６．３３ｇ（収率＝９１．８％）得た。

得られた比較化合物−１の数平均分子量（Ｍｎ）を、下記分子量測定方法で測定した。結果を表１に示す。
また得られた比較化合物−１の耐熱性試験として、下記耐熱性試験方法で、１％重量減少温度を測定した。結果を表１に示す。
また、化合物Ｎｏ．１に替えて、比較化合物−１を２５０ｍｇ用いた以外は、実施例１と同様にして、キャストフィルムを得た。得られたキャストフィルムを用いて実施例と同様に、透明性試験と耐候性試験を行った。結果を表１に示す。

〔比較例２〕
下記構造を有するトリアジン系紫外線吸収剤である、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシフェノールを比較化合物−２とした。化合物Ｎｏ．１に代えて、比較化合物−２を２５０ｍｇ用いた以外は、実施例１と同様にして、キャストフィルムを得た。得られたキャストフィルムを用いて実施例１と同様に、透明性試験と耐候性試験を行った。

〔比較例３〕
化合物Ｎｏ．１に代えて、比較化合物−１を２３７．５ｍｇ及び比較化合物−２を１２．５ｍｇ用いた以外は実施例１と同様にして、キャストフィルムを得た。得られたキャストフィルムを用いて実施例と同様に、透明性試験と耐候性試験を行った。

Claims (5)

1. 下記一般式（１）で表されることを特徴とする紫外線吸収性ポリカーボネート。
   

   

   式（１）中、ｎは２〜３００の整数を表し、
   Ｂ^１は、炭素原子数２〜１０の直鎖又は分岐鎖のアルキリデン基、炭素原子数１〜１０のアルキレン基、炭素原子数６〜１２のアリーレン基、炭素原子数７〜２０のアリール置換アルキレン基、炭素原子数８〜２０のアリール置換アルキリデン基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキリデン基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキレン基、炭素原子数１０〜２０のアルキリデン−アリーレン−アルキリデン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基、又は直接結合を表し、
   Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン、炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基又は炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基を表す。
   Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、下記一般式（２）で表される基、水素原子又は下記一般式（３）で表される基を表す。但し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一つは下記一般式（２）で表される基である。
   

   

   式（２）中、Ｇ^１は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、又は、無置換の炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
   Ｒ^５〜Ｒ^８は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；無置換の炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数２〜８のアルケニル基；無置換の炭素原子数２〜８のアルケニル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜１８のアリール基；無置換の炭素原子数６〜１８のアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；無置換の炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；無置換の炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；又は、水素原子を表す。該アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
   Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；無置換の炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数２〜８のアルケニル基；無置換の炭素原子数２〜８のアルケニル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜１８のアリール基；無置換の炭素原子数６〜１８のアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；無置換の炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；無置換の炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；水素原子、又は、ヒドロキシ基を表す。該アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
   また、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^９で示される基のうち隣り合う２個の基が連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに５〜７員環を形成してもよく、Ｒ^６、Ｒ^８、Ｒ^１０で示される基のうち隣り合う２個の基が連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに５〜７員環を形成してもよい。
   Ｒ^１１は水素原子又は炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す。
   また、＊位置で一般式（１）に結合する。
   
   

   

   式（３）中、Ｒ^１２は、水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、又は、炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基を表す。Ｒ^１３は水素原子、又は、メチル基を表す。また、＊位置で一般式（１）に結合する。
2. 下記一般式（４）で表される請求項１記載の紫外線吸収性ポリカーボネート。
   

   

   式（４）中、ｎは２〜３００の整数を表し、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、下記一般式（５）で表される基、水素原子、又は、前記一般式（３）で表される基を表す。但し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一つは下記一般式（５）で表される基である。
   

   

   式（５）中、Ｇ^１は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、又は、無置換の炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
   Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；無置換の炭素原子数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；無置換の炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数２〜８のアルケニル基；無置換の炭素原子数２〜８のアルケニル基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数６〜１８のアリール基；無置換の炭素原子数６〜１８のアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；無置換の炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基；ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基又は炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；無置換の炭素原子数７〜１８のアリールアルキル基；又は、水素原子を表す。該アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよく、上記の置換及び中断は組み合わされてもよい。
   また、＊位置で、一般式（４）に結合する。
3. 請求項１又は２記載の紫外線吸収性ポリカーボネートに合成樹脂用添加剤を添加してなることを特徴とする紫外線吸収性ポリカーボネート樹脂組成物。
4. 請求項１又は２記載の紫外線吸収性ポリカーボネートを熱可塑性樹脂に添加してなることを特徴とする耐候性熱可塑性樹脂組成物。
5. 下記一般式（６）で表される芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆体の重合反応時に、下記一般式（７）で表されるトリアジン化合物を添加することを特徴とする請求項１又は２記載の紫外線吸収性ポリカーボネートの製造方法。
   
   

   

   式（６）中、Ｂ^１は、前記一般式（１）中のＢ^１と同様であり、Ｒ^１〜Ｒ^４は、前記一般式（１）中のＲ^１〜Ｒ^４と同様である。
   

   

   式（７）中、Ｇ^１は、前記一般式（２）中のＧ^１と同様であり、Ｒ^５〜Ｒ^８は、前記一般式（２）中のＲ^５〜Ｒ^８と同様であり、Ｒ^９及びＲ^１０は、前記一般式（２）中のＲ^９及びＲ^１０と同様であり、Ｒ^１１は前記一般式（２）中のＲ^１１と同様である。