JP2015056615A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、図面を参照しながら本実施の形態1の半導体装置について詳細に説明する。
図1は、実施の形態1の半導体装置の構成例を示す回路ブロック図である。図2は、画素の構成例を示す回路図である。なお、図1では、アレイ状に配置された4行4列の16個の画素を示す。しかし、実施の形態1の半導体装置がカメラなどの電子機器に適用される場合、例えば数百万の画素が設けられる。
次いで、画素領域および周辺回路領域の素子構造を説明する。図3および図4は、実施の形態1の半導体装置の構成を示す断面図である。なお、図3および図4では、画素領域の素子構造と、周辺回路領域の素子構造とを、合わせて図示している。また、図4では、図3のうち、層間絶縁膜IL1よりも上方の部分の図示を省略している。
次いで、本実施の形態1の半導体装置の製造方法について説明する。図5および図6は、実施の形態1の半導体装置の製造工程の一部を示す製造プロセスフロー図である。図7〜図22は、実施の形態1の半導体装置の製造工程を示す断面図である。なお、図7〜図22では、画素領域1Aにおける製造工程と、周辺回路領域2Aにおける製造工程とを、合わせて図示している。
次いで、フォトダイオードを形成するためのイオン注入について、比較例1の半導体装置と比較しながら説明する。
本実施の形態1では、ゲート電極GEt上に、厚いハードマスク膜HM1からなる膜部FPtが形成されている。また、フォトダイオードPDを形成するために例えばn型の不純物イオンを注入する際に、膜部FPtに覆われたゲート電極GEtに自己整合させて不純物イオンを注入する。
実施の形態1では、転送トランジスタのゲート電極上に加えて、画素領域における転送トランジスタ以外のトランジスタのゲート電極上にも、厚いハードマスク膜を含む膜部が形成されている例について説明した。一方、実施の形態2では、転送トランジスタのゲート電極上には、厚いハードマスク膜からなる膜部が形成されているが、画素領域における転送トランジスタ以外のトランジスタのゲート電極上には、厚いハードマスク膜からなる膜部が形成されていない例について説明する。
次いで、画素領域の素子構造を説明する。図27および図28は、実施の形態2の半導体装置の構成を示す断面図である。なお、図27および図28では、図3および図4と同様に、画素領域1Aの素子構造と、周辺回路領域2Aの素子構造とを、合わせて図示している。また、図28では、図27のうち、層間絶縁膜IL1よりも上方の部分の図示を省略している。
次いで、本実施の形態2の半導体装置の製造方法について説明する。図29〜図38は、実施の形態2の半導体装置の製造工程を示す断面図である。
本実施の形態2では、実施の形態1と同様に、ゲート電極GEt上に、厚いハードマスク膜HM1からなる膜部FPtが形成されている。また、フォトダイオードPDを形成するために例えばn型の不純物イオンを注入する際に、膜部FPtに覆われたゲート電極GEtに自己整合させて不純物イオンを注入する。これにより、実施の形態1と同様に、ゲート電極GEtを突き抜けて、ゲート電極GEt下のゲート絶縁膜GOX1およびp型ウェルPW1に、不純物イオンが注入されにくくなる。そのため、本実施の形態2の半導体装置は、実施の形態1の半導体装置が有する効果と同様の効果を有する。
1S 半導体基板
2A 周辺回路領域
102 垂直走査回路
103 列回路
104 出力アンプ
105 水平走査回路
AcAS、AcH、AcL、AcR、AcTP 活性領域
AMI 増幅トランジスタ
ARF 反射防止膜
CAP キャップ絶縁膜
CAP1 絶縁膜
CF1 導電膜
CHa、CHH、CHL、CHr、CHs、CHt コンタクトホール
CL カラーフィルタ
FD フローティングディフュージョン
FPa、FPa1、FPa2、FPH、FPL 膜部
FPr、FPr1、FPr2、FPs、FPs1、FPs2、FPt、FPt1 膜部
GEa、GEH、GEL、GEr、GEs、GEt ゲート電極
GND 接地電位
GOX1〜GOX3 ゲート絶縁膜
HM1、HM2 ハードマスク膜
IL1〜IL4 層間絶縁膜
IM1、IM2 不純物イオン
LCS 素子分離領域
LRST リセット線
LTH、LTL トランジスタ
LTX 転送線
M1〜M3 配線
ML マイクロレンズ
n1 ノード
NM 低濃度半導体領域(n−型半導体領域)
NR 高濃度半導体領域(n+型半導体領域)
NW n型ウェル
OL 出力線
OP1、OP2 開口部
PD フォトダイオード
PF パッシベーション膜
PGa、PGH、PGL、PGr、PGs、PGt プラグ
PR p+型半導体領域
PU 画素
PW 半導体領域
PW1〜PW3 p型ウェル
R1〜R4 フォトレジスト膜
RST リセットトランジスタ
SD ソース・ドレイン領域
SEL 選択トランジスタ
SIL シリサイド層
SL 選択線
STP 段差部
Sw スイッチ
SW、SWa、SWr、SWs、SWt サイドウォール
TH1〜TH6 膜厚
TH7 距離
TX 転送トランジスタ
VDD 電源電位
Claims (15)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の第1主面側の第1領域に形成された第1導電型の第1半導体領域と、
前記半導体基板の前記第1主面側の第2領域に形成された第2半導体領域と、
前記第1半導体領域の内部に形成されたフォトダイオードと、
前記第1半導体領域に形成され、前記フォトダイオードにより生成された電荷を転送する転送トランジスタと、
前記第2半導体領域に形成された第1トランジスタと、
前記転送トランジスタおよび前記第1トランジスタを覆うように形成された層間絶縁膜と、
を有し、
前記転送トランジスタは、
前記第1半導体領域上に第1ゲート絶縁膜を介して形成された第1ゲート電極と、
前記第1ゲート電極上に形成された第1絶縁膜からなる第1膜部と、
を含み、
前記フォトダイオードは、
前記第1半導体領域と、
前記第1半導体領域のうち、前記第1ゲート電極の第1の側に位置する第1部分の内部に、前記第1ゲート電極に整合して形成された、前記第1導電型と異なる第2導電型の第3半導体領域と、
を含み、
前記第1トランジスタは、
前記第2半導体領域上に第2ゲート絶縁膜を介して形成された第2ゲート電極と、
前記第2半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第4半導体領域と、
を含み、
前記第2ゲート電極の上面に、第1金属シリサイド層が形成され、
前記第4半導体領域の上面に、第2金属シリサイド層が形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1半導体領域に形成され、前記転送トランジスタにより転送された電荷に応じて信号を増幅する増幅トランジスタと、
前記第1半導体領域に形成され、前記増幅トランジスタを選択する選択トランジスタと、
前記第1半導体領域に形成され、前記フォトダイオードの電荷を消去するリセットトランジスタと、
を有し、
前記増幅トランジスタは、
前記第1半導体領域上に第3ゲート絶縁膜を介して形成された第3ゲート電極と、
前記第1半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第5半導体領域と、
前記第3ゲート電極上に形成された第2絶縁膜からなる第2膜部と、
を含み、
前記選択トランジスタは、
前記第1半導体領域上に第4ゲート絶縁膜を介して形成された第4ゲート電極と、
前記第1半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第6半導体領域と、
前記第4ゲート電極上に形成された第3絶縁膜からなる第3膜部と、
を含み、
前記リセットトランジスタは、
前記第1半導体領域上に第5ゲート絶縁膜を介して形成された第5ゲート電極と、
前記第1半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第7半導体領域と、
前記第5ゲート電極上に形成された第4絶縁膜からなる第4膜部と、
を含み、
前記層間絶縁膜は、前記増幅トランジスタ、前記選択トランジスタおよび前記リセットトランジスタを覆うように形成され、
前記第5半導体領域の上面に、第3金属シリサイド層が形成され、
前記第6半導体領域の上面に、第4金属シリサイド層が形成され、
前記第7半導体領域の上面に、第5金属シリサイド層が形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1半導体領域に形成され、前記転送トランジスタにより転送された電荷に応じて信号を増幅する増幅トランジスタと、
前記第1半導体領域に形成され、前記増幅トランジスタを選択する選択トランジスタと、
前記第1半導体領域に形成され、前記フォトダイオードの電荷を消去するリセットトランジスタと、
を有し、
前記増幅トランジスタは、
前記第1半導体領域上に第3ゲート絶縁膜を介して形成された第3ゲート電極と、
前記第1半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第5半導体領域と、
を含み、
前記選択トランジスタは、
前記第1半導体領域上に第4ゲート絶縁膜を介して形成された第4ゲート電極と、
前記第1半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第6半導体領域と、
を含み、
前記リセットトランジスタは、
前記第1半導体領域上に第5ゲート絶縁膜を介して形成された第5ゲート電極と、
前記第1半導体領域に形成されたソース領域またはドレイン領域である第7半導体領域と、
を含み、
前記層間絶縁膜は、前記増幅トランジスタ、前記選択トランジスタおよび前記リセットトランジスタを覆うように形成され、
前記第3ゲート電極の上面に、第3金属シリサイド層が形成され、
前記第5半導体領域の上面に、第4金属シリサイド層が形成され、
前記第4ゲート電極の上面に、第5金属シリサイド層が形成され、
前記第6半導体領域の上面に、第6金属シリサイド層が形成され、
前記第5ゲート電極の上面に、第7金属シリサイド層が形成され、
前記第7半導体領域の上面に、第8金属シリサイド層が形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1領域で、前記半導体基板の前記第1主面にアレイ状に形成された複数の画素を有し、
前記複数の画素の各々は、
前記フォトダイオードと、
前記転送トランジスタと、
を備え、
前記第2半導体領域は、前記第1領域の周辺の領域である前記第2領域に形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1膜部は、
前記第1絶縁膜からなる第5膜部と、
前記第5膜部の側面に形成された第5絶縁膜からなる第1側壁部と、
を含み、
前記第1絶縁膜の膜厚は、前記第5絶縁膜の膜厚よりも大きい、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体基板の前記第1主面から、前記第3半導体領域の前記第1主面側と反対側の面までの距離は、前記第1ゲート電極の膜厚よりも大きい、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記転送トランジスタは、前記第1半導体領域のうち、前記第1ゲート電極の前記第1の側と反対側である第2の側に位置する第2部分に形成されたドレイン領域である第8半導体領域を含む、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1絶縁膜は、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸窒化シリコン膜からなる、半導体装置。 - (a)半導体基板を準備する工程、
(b)前記半導体基板の第1主面側の第1領域に、第1導電型の第1半導体領域を形成する工程、
(c)前記半導体基板の前記第1主面側の第2領域に、第2半導体領域を形成する工程、
(d)前記第1半導体領域上、および、前記第2半導体領域上に、第1ゲート絶縁膜を介して第1導電膜を形成する工程、
(e)前記第1半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上に、第1絶縁膜からなる第1膜部を形成し、前記第2半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上に、第2絶縁膜からなる第2膜部を形成する工程、
(f)前記(e)工程の後、前記第1導電膜をエッチングすることにより、前記第1膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第1ゲート電極を形成し、前記第2膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第2ゲート電極を形成する工程、
(g)前記第1半導体領域のうち、前記第1ゲート電極の第1の側に位置する第1部分の内部に、前記第1導電型と異なる第2導電型の第3半導体領域を、前記第1ゲート電極に整合してイオン注入法で形成することにより、前記第1半導体領域と前記第3半導体領域とを含むフォトダイオードを形成する工程、
(h)前記(g)工程の後、前記第2膜部を除去する工程、
(i)前記第1半導体領域のうち、前記第1ゲート電極の前記第1の側と反対側である第2の側に位置する第2部分に、ドレイン領域である第4半導体領域を形成することにより、前記第1ゲート電極と、前記第4半導体領域と、前記第1膜部とを含み、前記フォトダイオードにより生成された電荷を転送する転送トランジスタを形成する工程、
(j)前記(h)工程の後、前記第2半導体領域にソース領域またはドレイン領域である第5半導体領域を形成することにより、前記第2ゲート電極と、前記第5半導体領域とを含む第1トランジスタを形成する工程、
(k)前記第2ゲート電極の上面に、第1金属シリサイド層を形成し、前記第5半導体領域の上面に、第2金属シリサイド層を形成する工程、
(l)前記(k)工程の後、前記転送トランジスタおよび前記第1トランジスタを覆うように、層間絶縁膜を形成する工程、
を有し、
前記第1絶縁膜の膜厚は、前記第2絶縁膜の膜厚よりも大きい、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(e)工程では、前記第1半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上に、それぞれ前記第1絶縁膜からなる第3膜部、第4膜部および第5膜部を形成し、
前記(f)工程では、前記第1導電膜をエッチングすることにより、前記第3膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第3ゲート電極を形成し、前記第4膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第4ゲート電極を形成し、前記第5膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第5ゲート電極を形成し、
前記半導体装置の製造方法は、さらに、
(m)前記第1半導体領域に、ソース領域またはドレイン領域である第6半導体領域を形成することにより、前記第3ゲート電極と、前記第6半導体領域と、前記第3膜部とを含み、前記転送トランジスタにより転送された電荷に応じて信号を増幅する増幅トランジスタを形成する工程、
(n)前記第1半導体領域に、ソース領域またはドレイン領域である第7半導体領域を形成することにより、前記第4ゲート電極と、前記第7半導体領域と、前記第4膜部とを含み、前記増幅トランジスタを選択する選択トランジスタを形成する工程、
(o)前記第1半導体領域に、ソース領域またはドレイン領域である第8半導体領域を形成することにより、前記第5ゲート電極と、前記第8半導体領域と、前記第5膜部とを含み、前記フォトダイオードの電荷を消去するリセットトランジスタを形成する工程、
(p)前記第6半導体領域の上面に、第3金属シリサイド層を形成する工程、
(q)前記第7半導体領域の上面に、第4金属シリサイド層を形成する工程、
(r)前記第8半導体領域の上面に、第5金属シリサイド層を形成する工程、
を有し、
前記(l)工程では、前記増幅トランジスタ、前記選択トランジスタおよび前記リセットトランジスタを覆うように、前記層間絶縁膜を形成する、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(e)工程では、前記第1半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上に、それぞれ前記第1絶縁膜からなる第3膜部、第4膜部および第5膜部を形成し、
前記(f)工程では、前記第1導電膜をエッチングすることにより、前記第3膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第3ゲート電極を形成し、前記第4膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第4ゲート電極を形成し、前記第5膜部に覆われた部分の前記第1導電膜を残して第5ゲート電極を形成し、
前記(h)工程では、前記第3膜部、前記第4膜部および前記第5膜部を除去し、
前記半導体装置の製造方法は、さらに、
(m)前記(h)工程の後、前記第1半導体領域に、ソース領域またはドレイン領域である第6半導体領域を形成することにより、前記第3ゲート電極と、前記第6半導体領域とを含み、前記転送トランジスタにより転送された電荷に応じて信号を増幅する増幅トランジスタを形成する工程、
(n)前記(h)工程の後、前記第1半導体領域に、ソース領域またはドレイン領域である第7半導体領域を形成することにより、前記第4ゲート電極と、前記第7半導体領域とを含み、前記増幅トランジスタを選択する選択トランジスタを形成する工程、
(o)前記(h)工程の後、前記第1半導体領域に、ソース領域またはドレイン領域である第8半導体領域を形成することにより、前記第5ゲート電極と、前記第8半導体領域とを含み、前記フォトダイオードの電荷を消去するリセットトランジスタを形成する工程、
(p)前記第3ゲート電極の上面に、第3金属シリサイド層を形成し、前記第6半導体領域の上面に、第4金属シリサイド層を形成する工程、
(q)前記第4ゲート電極の上面に、第5金属シリサイド層を形成し、前記第7半導体領域の上面に、第6金属シリサイド層を形成する工程、
(r)前記第5ゲート電極の上面に、第7金属シリサイド層を形成し、前記第8半導体領域の上面に、第8金属シリサイド層を形成する工程、
を有し、
前記(l)工程では、前記増幅トランジスタ、前記選択トランジスタおよび前記リセットトランジスタを覆うように、前記層間絶縁膜を形成する、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(e)工程は、
(e1)前記第1導電膜上に、前記第1絶縁膜を形成する工程、
(e2)前記第1絶縁膜をパターニングすることにより、前記第1半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上に、前記第1絶縁膜からなる第6膜部を形成し、前記第2半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上の前記第1絶縁膜を除去する工程、
(e3)前記第6膜部上を含めて前記第1導電膜上に、前記第2絶縁膜を形成する工程、
(e4)前記第1領域で前記第2絶縁膜をエッチングすることにより、前記第6膜部の側面に前記第2絶縁膜を残して第1側壁部を形成し、前記第6膜部と前記第1側壁部とを含む前記第1膜部を形成する工程、
(e5)前記第2領域で前記2絶縁膜をパターニングすることにより、前記第2半導体領域上に形成された部分の前記第1導電膜上に、前記第2絶縁膜からなる前記第2膜部を形成する工程、
を含む、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(g)工程は、
(g1)前記第1膜部上および前記第2膜部上を含めて前記半導体基板上に、レジスト膜を形成する工程、
(g2)前記レジスト膜を貫通して、前記第1半導体領域のうち前記第1部分に達する第1開口部を形成する工程、
(g3)前記第1開口部の底部に露出した前記第1部分の内部に、前記第3半導体領域を、前記第1ゲート電極に整合してイオン注入法で形成することにより、前記第1半導体領域と前記第3半導体領域とを含む前記フォトダイオードを形成する工程、
を含み、
前記(g2)工程にて形成された前記第1開口部内に、前記第1ゲート電極の前記第1の側の端部上に形成された部分の前記第1膜部の上面が露出している、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(g)工程では、前記半導体基板の前記第1主面から、前記第3半導体領域の前記第1主面側と反対側の面までの距離が、前記第1ゲート電極の膜厚よりも大きくなるように、前記第3半導体領域を形成する、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1絶縁膜は、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸窒化シリコン膜からなる、半導体装置の製造方法。
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