JP2015037195A - 電子デバイスの製造方法及び製造装置 - Google Patents
電子デバイスの製造方法及び製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015037195A JP2015037195A JP2014164851A JP2014164851A JP2015037195A JP 2015037195 A JP2015037195 A JP 2015037195A JP 2014164851 A JP2014164851 A JP 2014164851A JP 2014164851 A JP2014164851 A JP 2014164851A JP 2015037195 A JP2015037195 A JP 2015037195A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- processing chamber
- predetermined
- electronic device
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 205
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 10
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 26
- 238000005429 filling process Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/303—Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
- H05K3/305—Affixing by adhesive
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
- H05K3/245—Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10954—Other details of electrical connections
- H05K2201/10977—Encapsulated connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0195—Tool for a process not provided for in H05K3/00, e.g. tool for handling objects using suction, for deforming objects, for applying local pressure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
- Y10T29/49146—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. with encapsulating, e.g., potting, etc.
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/51—Plural diverse manufacturing apparatus including means for metal shaping or assembling
- Y10T29/5193—Electrical connector or terminal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】基板を提供する工程と、導電ブロックを有する電子デバイスを提供する工程と、導電ブロックを前記基板に固定してユニットを形成する工程と、電子デバイスの複数の側面から毛細管充填型アンダーフィルを塗付し、電子デバイスと基板との間のギャップに充填し、導電ブロックを保護する工程と、ユニットを処理室内に配置する工程と、処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程M1と、処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ真空圧力を所定時間保つ工程M2と、処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ第2所定圧力を所定時間保つ工程M3と、処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程M4と、を備える。
【選択図】図1
Description
第1表面を有する基板を提供する工程と、
少なくとも一面に導電ブロックを有する電子デバイスを提供する工程と、
前記電子デバイスの少なくとも一面にある前記導電ブロックを、前記基板の第1表面に固定して一体ユニットを形成し、前記導電ブロック同士の間のピッチは100μm以下であり、前記電子デバイスと前記基板との間のギャップは50μm以下である工程と、
前記電子デバイスの複数の側面から毛細管充填型アンダーフィル(capillary underfill)を塗付けて、当該アンダーフィルを、前記電子デバイスと前記基板との間のギャップに沿って広がっていき、前記ギャップに充填し、前記導電ブロックに対する保護を形成する工程と、
前記一体ユニットを処理室内に配置する工程と、
前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を前調整する工程と、
前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、
を備える電子デバイスの製造方法であって、
前記処理室内の圧力を前調整する工程は、
(a)前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記第1所定圧力を所定時間保つ工程と、
(b)前記処理室内の圧力を第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる工程と、を備え、
前記工程(a)から前記工程(b)を一回又は複数回実行し、前記第2所定圧力が前記第1戻り圧力より高い、ことを特徴とする電子デバイスの製造方法を提供する。
第1表面を有する基板を提供する工程と、
少なくとも一面に導電ブロックを有する電子デバイスを提供する工程と、
前記電子デバイスの少なくとも一面にある導電ブロックを前記基板の第1表面に固定して一体ユニットを形成し、前記導電ブロック同士の間のピッチが100μm以下であり、前記電子デバイスと前記基板との間のギャップは50μm以下である工程と、
前記電子デバイスの複数の側面から毛細管充填型アンダーフィルを塗付けて、前記アンダーフィルが前記電子デバイスと前記基板との間のギャップに沿って広がっていき、前記ギャップに充填し、前記導電ブロックに対する保護を形成する工程と、
前記一体ユニットを処理室内に配置する工程と、
前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記真空圧力を所定時間保つ工程と、前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、
を備える電子デバイスの製造方法を提供する。
外部圧力源に接続する、電子デバイスの製造装置であって、
一以上のガス入口と一以上のガス出口を有し、外部の拡充領域と連通し、前記ガス入口が前記外部圧力源に接続する処理室と、
前記処理室内に取付けられる温度調整器と、
前記処理室外に取付けられ、前記処理室に接続する真空生成器と、
駆動モータ、伝動軸及びタービン羽根を有し、前記温度調整器を通って前記処理室内部に向けて流動する気流を生成し、前記駆動モータが前記処理室と連通する前記拡充領域中に設けられ、前記タービン羽根が前記処理室内にあり、前記伝動軸が前記駆動モータ及び前記タービン羽根に接続するターボ送風機と、
制御装置と、を備え、
前記制御装置が、
前記温度調整器により、前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記真空生成器により、前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記真空圧力を所定時間保つ工程と、
前記外部圧力源により、前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記温度調整器と前記タービン羽根により、前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、を実行する、ことを特徴とする電子デバイスの製造装置を提供する。
外部圧力源に接続する電子デバイスの製造装置であって、
一以上のガス入口と一以上のガス出口を有し、外部の拡充領域と連通し、前記ガス入口が前記外部圧力源に接続する処理室と、
前記処理室内に取付けられる温度調整器と、
前記処理室外に取付けられ、前記処理室に接続する真空生成器と、
駆動モータ、伝動軸及びタービン羽根を有し、前記温度調整器を通って前記処理室内部に向けて流動する気流を生成し、前記駆動モータが前記処理室と連通する前記拡充領域中に設けられ、前記タービン羽根が前記処理室内にあり、前記伝動軸が前記駆動モータ及び前記タービン羽根に接続するターボ送風機と、
制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記温度調整器により、前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を前調整する工程と、
前記外部圧力源により、前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記温度調整器及び前記タービン羽根により、前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、を有し、
前記処理室内の圧力を前調整する工程は、
(a1)前記真空生成器により、前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記第1所定圧力を所定時間保つ工程と、
(b1)前記処理室内の圧力を前記第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる工程と、を含み、
前記工程(a1)から前記工程(b1)を一回又は複数回実行し、前記第2所定圧力が前記第1戻り圧力より高い、ことを特徴とする電子デバイスの製造装置を提供する。
図3A〜図3Cを参照し、本発明の実施例による電子デバイスの製造方法を説明する。当該製造方法は、第1表面100aを有する基板100を提供する工程と、少なくとも一面に導電ブロック(例えばバンプ)103を有する電子デバイス101を提供する工程と、電子デバイス101の少なくとも一面にある導電ブロック103を基板100の第1表面100aに固定して一体ユニットを形成し、導電ブロック103同士の間のピッチBが100μm以下であり、電子デバイス101と基板100との間のギャップAが50μm以下である工程と、電子デバイス101の複数の側面から毛細管充填型アンダーフィル105を塗付けて、アンダーフィル105が電子デバイス101と基板100との間のギャップAに沿って広がっていき、ギャップAに充填し、アンダーフィル105が電子デバイス101と基板100との間にある導電ブロック103を被覆し、導電ブロック103同士を隔離することにより、導電ブロック103に対する保護を形成する工程と、その後、前記一体ユニットを図2に示す処理室1内に配置する工程と、図1に示すように、処理室1内の温度を第1所定温度に調整し、アンダーフィル105の流動性を向上させる工程と、処理室1内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記真空圧力を所定時間保って、大部分の気泡107と気泡109(充填不足の領域)を除去した後、処理室1内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ第2所定圧力を所定時間保つ工程と、処理室1内の温度を第2所定温度に調整して、残留した気泡107及び気泡109(充填不足の領域)を除去する工程と、を含む。例えば、本発明の実施例において、第2所定圧力は1大気圧より大きく、かつ20大気圧以下であることができるが、これに限らない。
本発明の実施例による電子デバイスの製造装置は、図2に示すように、外部圧力源である施設圧力(facility pressure)に接続できる。「施設圧力」とは、一般に、工場設備が提供する圧力を指す。前記製造装置は、前記外部圧力源に接続する一以上のガス入口5、及び一以上のガス出口7を有する処理室1と、処理室1内に取付けられる温度調整器9と、処理室外に取付けられ、ガス出口7を介して処理室1に接続する真空生成器11と、制御装置15と、温度調整器9を通って処理室1内部に向けて流動する気流を生成するターボ送風機17と、を更に含む。処理室1は、外部の拡充領域3と連通する。温度調整器9、真空生成器11及びターボ送風機17は、制御装置15と電気接続し、制御装置15との間で信号を送受信できるため、制御装置15により制御される。
3 拡充領域
5 ガス入口
7 ガス出口
9 温度調整器
11 真空生成器
13 圧力調整素子
15 制御装置
17 ターボ送風機
17a 駆動モータ
17b 伝動軸
17c タービン羽根
19 真空検出器
21 圧力検出器
23 温度検出器
100 基板
100a 第1表面
101 電子デバイス
103 導電ブロック
105 毛細管充填型アンダーフィル
107 気泡
109 気泡(充填不足の領域)
A ギャップ
B ピッチ
C アンダーフィル先端
D アンダーフィル先端
E アンダーフィル先端
M1 工程1
M2 工程2
M3 工程3
M4 工程4
Claims (23)
- 第1表面を有する基板を提供する工程と、
少なくとも一面に導電ブロックを有する電子デバイスを提供する工程と、
前記電子デバイスの少なくとも一面にある前記導電ブロックを、前記基板の第1表面に固定して一体ユニットを形成し、前記導電ブロック同士の間のピッチは100μm以下であり、前記電子デバイスと前記基板との間のギャップは50μm以下である工程と、
前記電子デバイスの複数の側面から毛細管充填型アンダーフィルを塗付けて、当該アンダーフィルを、前記電子デバイスと前記基板との間のギャップに沿って広がっていき、前記ギャップに充填し、前記導電ブロックに対する保護を形成する工程と、
前記一体ユニットを処理室内に配置する工程と、
前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を前調整する工程と、
前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、
を備える電子デバイスの製造方法であって、
前記処理室内の圧力を前調整する工程は、
(a)前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記第1所定圧力を所定時間保つ工程と、
(b)前記処理室内の圧力を第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる工程と、を備え、
前記工程(a)から前記工程(b)を一回又は複数回実行し、前記第2所定圧力が前記第1戻り圧力より高い、ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記処理室内の圧力を前調整する工程は、
(c)前記工程(b)の後に、前記処理室内の圧力を真空圧力である第3所定圧力まで低下させ、かつ前記第3所定圧力を所定時間保つ工程と、
(d)前記処理室内の圧力を第3所定圧力から第2戻り圧力まで上昇させる工程と、を更に含み、
前記工程(c)から前記工程(d)を一回又は複数回実行し、前記第2所定圧力が前記第2戻り圧力より高い、ことを特徴とする請求項1記載の電子デバイスの製造方法。 - 前記工程(a)は、前記処理室内の圧力を、段階的に前記第1所定圧力まで低下させる、ことを特徴とする請求項1記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記工程(c)は、前記処理室内の圧力を、段階的に真空圧力である前記第3所定圧力まで低下させる、ことを特徴とする請求項2記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記工程(b)は、前記処理室内の圧力を、段階的に前記第1所定圧力から前記第1戻り圧力まで上昇させる、ことを特徴とする請求項1記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記工程(d)は、前記処理室内の圧力を、段階的に前記第3所定圧力から前記第2戻り圧力まで上昇させる、ことを特徴とする請求項2記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記処理室内の圧力を、段階的に前記第2所定圧力まで上昇させる、ことを特徴とする請求項1記載の電子デバイスの製造方法。
- 第1表面を有する基板を提供する工程と、
少なくとも一面に導電ブロックを有する電子デバイスを提供する工程と、
前記電子デバイスの少なくとも一面にある前記導電ブロックを、前記基板の第1表面に固定して一体ユニットを形成し、前記導電ブロック同士の間のピッチは100μm以下であり、前記電子デバイスと前記基板との間のギャップは50μm以下である工程と、
前記電子デバイスの複数の側面から毛細管充填型アンダーフィルを塗付けて、当該アンダーフィルが前記電子デバイスと前記基板との間のギャップに沿って広がっていき、前記ギャップに充填し、前記導電ブロックに対する保護を形成する工程と、
前記一体ユニットを処理室内に配置する工程と、
前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記真空圧力を所定時間保つ工程と、
前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、
を備える、ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記処理室内の圧力を1大気圧以上である前記第2所定圧力まで上昇させる工程は、
前記処理室内の圧力を前記第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を前記第1戻り圧力から前記第2所定圧力まで上昇させる工程と、
を備える、ことを特徴とする請求項8記載の電子デバイスの製造方法。 - 前記処理室内の圧力を、段階的に前記第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる、ことを特徴とする請求項9記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記処理室内の圧力を、段階的に前記第1戻り圧力から前記第2所定圧力まで上昇させる、ことを特徴とする請求項9記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記処理室内の圧力を前記第1所定圧力まで低下させる工程は、段階的に行う、ことを特徴とする請求項8記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記処理室内の圧力を前記第1所定圧力まで低下させる工程は、線形的に減少させる、ことを特徴とする請求項8記載の電子デバイスの製造方法。
- 前記処理室内の圧力を前記第2所定圧力まで上昇させる工程は、段階的に行う、ことを特徴とする請求項8記載の電子デバイスの製造方法。
- 外部圧力源に接続する、電子デバイスの製造装置であって、
一以上のガス入口と一以上のガス出口を有し、外部の拡充領域と連通し、前記ガス入口が前記外部圧力源に接続する処理室と、
前記処理室内に取付けられる温度調整器と、
前記処理室外に取付けられ、前記処理室に接続する真空生成器と、
駆動モータ、伝動軸及びタービン羽根を有し、前記温度調整器を通って前記処理室内部に向けて流動する気流を生成し、前記駆動モータが前記処理室と連通する前記拡充領域中に設けられ、前記タービン羽根が前記処理室内にあり、前記伝動軸が前記駆動モータ及び前記タービン羽根に接続するターボ送風機と、
制御装置と、を備え、
前記制御装置が、
前記温度調整器により、前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記真空生成器により、前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記真空圧力を所定時間保つ工程と、
前記外部圧力源により、前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記温度調整器と前記タービン羽根により、前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、を実行する、ことを特徴とする電子デバイスの製造装置。 - 外部圧力源に接続する電子デバイスの製造装置であって、
一以上のガス入口と一以上のガス出口を有し、外部の拡充領域と連通し、前記ガス入口が前記外部圧力源に接続する処理室と、
前記処理室内に取付けられる温度調整器と、
前記処理室外に取付けられ、前記処理室に接続する真空生成器と、
駆動モータ、伝動軸及びタービン羽根を有し、前記温度調整器を通って前記処理室内部に向けて流動する気流を生成し、前記駆動モータが前記処理室と連通する前記拡充領域中に設けられ、前記タービン羽根が前記処理室内にあり、前記伝動軸が前記駆動モータ及び前記タービン羽根に接続するターボ送風機と、
制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記温度調整器により、前記処理室内の温度を第1所定温度まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を前調整する工程と、
前記外部圧力源により、前記処理室内の圧力を1大気圧以上である第2所定圧力まで上昇させ、かつ前記第2所定圧力を所定時間保つ工程と、
前記温度調整器及び前記タービン羽根により、前記処理室内の温度を第2所定温度に調整する工程と、を有し、
前記処理室内の圧力を前調整する工程は、
(a1)前記真空生成器により、前記処理室内の圧力を真空圧力である第1所定圧力まで低下させ、かつ前記第1所定圧力を所定時間保つ工程と、
(b1)前記処理室内の圧力を前記第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる工程と、を含み、
前記工程(a1)から前記工程(b1)を一回又は複数回実行し、前記第2所定圧力が前記第1戻り圧力より高い、ことを特徴とする電子デバイスの製造装置。 - 前記制御装置が実行する前記処理室内の圧力を前調整する工程は、
(c1)前記真空生成器により、前記処理室内の圧力を真空圧力である第3所定圧力まで低下させ、かつ前記第3所定圧力を所定時間保つ工程と、
(d1)前記処理室内の圧力を前記第3所定圧力から第2戻り圧力まで上昇させる工程と、を更に含み、
前記工程(c1)から前記工程(d1)を一回又は複数回実行し、前記第2所定圧力が前記第2戻り圧力より高い、ことを特徴とする請求項16記載の電子デバイスの製造装置。 - 前記外部圧力源と前記ガス入口の間に設けられ、前記処理室内の圧力を、前記第2所定圧力に達しかつその圧力に保つことを促す圧力調整素子を更に備える、ことを特徴とする請求項15から17のいずれか一に記載の電子デバイスの製造装置。
- 前記処理室内に接続し、前記処理室内の真空圧力を検知し、かつ前記制御装置と電気接続する真空検出器を更に備える、ことを特徴とする請求項15から17のいずれか一に記載の電子デバイスの製造装置。
- 前記処理室内に接続し、前記処理室内の圧力を検知し、かつ前記制御装置と電気接続する圧力検出器を更に備える、ことを特徴とする請求項15から17のいずれか一に記載の電子デバイスの製造装置。
- 前記処理室内に接続し、前記処理室内の温度を検知し、かつ前記制御装置と電気接続する温度検出器を更に備える、ことを特徴とする請求項15から17のいずれか一に記載の電子デバイスの製造装置。
- 前記制御装置がプログラム可能論理制御装置である、ことを特徴とする請求項15から17のいずれか一に記載の電子デバイスの製造装置。
- 前記制御装置が更に、
前記処理室内の圧力を前記第1所定圧力から第1戻り圧力まで上昇させる工程と、
前記処理室内の圧力を前記第1戻り圧力から前記第2所定圧力まで上昇させる工程と、
を実行する、ことを特徴とする請求項15記載の電子デバイスの製造装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW102129528 | 2013-08-16 | ||
TW102129528 | 2013-08-16 | ||
TW103119250 | 2014-06-03 | ||
TW103119250A TWI525721B (zh) | 2013-08-16 | 2014-06-03 | 用於電子元件的製造方法與製造設備 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015037195A true JP2015037195A (ja) | 2015-02-23 |
JP6068404B2 JP6068404B2 (ja) | 2017-01-25 |
Family
ID=52465743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014164851A Active JP6068404B2 (ja) | 2013-08-16 | 2014-08-13 | 電子デバイスの製造方法及び製造装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9986647B2 (ja) |
JP (1) | JP6068404B2 (ja) |
KR (1) | KR101711256B1 (ja) |
CN (1) | CN104377139B (ja) |
TW (1) | TWI525721B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022023784A (ja) * | 2020-07-27 | 2022-02-08 | 劭▲祺▼ 劉 | 材料処理装置及びその操作方法 |
WO2023145366A1 (ja) * | 2022-01-31 | 2023-08-03 | 株式会社フジ機工 | 真空減圧装置並びにそれを用いたアンダーフィル充填方法及び脱泡充填方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102499510B1 (ko) | 2017-09-01 | 2023-02-14 | 삼성전자주식회사 | 전원 공급 회로 및 이를 포함하는 반도체 패키지 |
CN113345810A (zh) * | 2020-02-18 | 2021-09-03 | 朋程科技股份有限公司 | 功率二极管的制造方法 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63190345A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-05 | Matsushita Electronics Corp | 半導体ペレツトの樹脂接着方法 |
JPH01256133A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-12 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体装置の製造方法及びその製造装置 |
JPH1168303A (ja) * | 1997-08-25 | 1999-03-09 | Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd | リフローはんだ付け装置 |
JPH11121484A (ja) * | 1997-10-16 | 1999-04-30 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法と製造装置 |
JP2001079483A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-03-27 | Musashi Eng Co Ltd | 液状樹脂材料の塗布方法 |
JP2001313314A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Sony Corp | バンプを用いた半導体装置、その製造方法、および、バンプの形成方法 |
JP2002198383A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Sanyu Rec Co Ltd | 電子部品の製造方法及び装置 |
JP2004006805A (ja) * | 2002-04-19 | 2004-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の製造方法 |
JP2004014784A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 液状樹脂の充填・脱泡方法及び充填・脱泡装置 |
JP2004193187A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モジュール部品の製造方法 |
JP2005217006A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Apic Yamada Corp | 真空成形装置及び真空成形方法 |
JP2006004986A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の樹脂封止方法およびその装置 |
JP2006245242A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Nitto Denko Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2009059836A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Tdk Corp | 電子部品の実装装置及び実装方法 |
JP2010232671A (ja) * | 2010-06-03 | 2010-10-14 | Texas Instr Japan Ltd | 半導体装置のアンダーフィル充填方法 |
JP2011066438A (ja) * | 2010-11-05 | 2011-03-31 | Lintec Corp | 半導体チップ接着装置及び接着方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4569605B2 (ja) * | 2007-07-09 | 2010-10-27 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 半導体装置のアンダーフィルの充填方法 |
-
2014
- 2014-06-03 TW TW103119250A patent/TWI525721B/zh active
- 2014-08-06 CN CN201410383653.2A patent/CN104377139B/zh active Active
- 2014-08-07 US US14/454,165 patent/US9986647B2/en active Active
- 2014-08-13 JP JP2014164851A patent/JP6068404B2/ja active Active
- 2014-08-14 KR KR1020140105696A patent/KR101711256B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-04-30 US US15/966,484 patent/US10251281B2/en active Active
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63190345A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-05 | Matsushita Electronics Corp | 半導体ペレツトの樹脂接着方法 |
JPH01256133A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-12 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体装置の製造方法及びその製造装置 |
JPH1168303A (ja) * | 1997-08-25 | 1999-03-09 | Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd | リフローはんだ付け装置 |
JPH11121484A (ja) * | 1997-10-16 | 1999-04-30 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法と製造装置 |
JP2001079483A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-03-27 | Musashi Eng Co Ltd | 液状樹脂材料の塗布方法 |
JP2001313314A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Sony Corp | バンプを用いた半導体装置、その製造方法、および、バンプの形成方法 |
JP2002198383A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Sanyu Rec Co Ltd | 電子部品の製造方法及び装置 |
JP2004006805A (ja) * | 2002-04-19 | 2004-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の製造方法 |
JP2004014784A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 液状樹脂の充填・脱泡方法及び充填・脱泡装置 |
JP2004193187A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モジュール部品の製造方法 |
JP2005217006A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Apic Yamada Corp | 真空成形装置及び真空成形方法 |
JP2006004986A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の樹脂封止方法およびその装置 |
JP2006245242A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Nitto Denko Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2009059836A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Tdk Corp | 電子部品の実装装置及び実装方法 |
JP2010232671A (ja) * | 2010-06-03 | 2010-10-14 | Texas Instr Japan Ltd | 半導体装置のアンダーフィル充填方法 |
JP2011066438A (ja) * | 2010-11-05 | 2011-03-31 | Lintec Corp | 半導体チップ接着装置及び接着方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022023784A (ja) * | 2020-07-27 | 2022-02-08 | 劭▲祺▼ 劉 | 材料処理装置及びその操作方法 |
JP7124169B2 (ja) | 2020-07-27 | 2022-08-23 | 劭▲祺▼ 劉 | 材料処理装置及びその操作方法 |
WO2023145366A1 (ja) * | 2022-01-31 | 2023-08-03 | 株式会社フジ機工 | 真空減圧装置並びにそれを用いたアンダーフィル充填方法及び脱泡充填方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101711256B1 (ko) | 2017-02-28 |
CN104377139A (zh) | 2015-02-25 |
KR20150020132A (ko) | 2015-02-25 |
US10251281B2 (en) | 2019-04-02 |
JP6068404B2 (ja) | 2017-01-25 |
US20180249582A1 (en) | 2018-08-30 |
TWI525721B (zh) | 2016-03-11 |
US20150047187A1 (en) | 2015-02-19 |
US9986647B2 (en) | 2018-05-29 |
TW201508847A (zh) | 2015-03-01 |
CN104377139B (zh) | 2017-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6068404B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法及び製造装置 | |
JP6290357B2 (ja) | エレクトロニクスアセンブリを製造する方法 | |
US10373888B2 (en) | Electronic package assembly with compact die placement | |
US20200365547A1 (en) | Semiconductor apparatus with high-stability bonding layer and production method thereof | |
JP4501533B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20170158491A1 (en) | Laser reseal having special diaphragm structure | |
US10249516B2 (en) | Underfill dispensing using funnels | |
US20060099736A1 (en) | Flip chip underfilling | |
Zhu et al. | A novel model for simulating the racing effect in capillary-driven underfill process in flip chip | |
US10403578B2 (en) | Electronic device package | |
US11515171B2 (en) | Methods and apparatus for temperature modification and reduction of contamination in bonding stacked microelectronic devices | |
JP2008311558A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
CN105321867A (zh) | 一种互联载板的制作方法 | |
CN109558671A (zh) | 一种模拟倒装芯片底部填充工艺过程中边缘效应的方法 | |
US11574848B2 (en) | Underfill injection for electronic devices | |
JP3918098B2 (ja) | 回路モジュールの製造方法 | |
JP2011054851A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US8664778B2 (en) | Method of flip-chip hybridization for the forming of tight cavities and systems obtained by such a method | |
Chae et al. | Simulation and Experiment of Molded Underfill Voids | |
Konangi et al. | Computational Fluid Dynamics (CFD) Modeling of Microchannel Filling Applications Utilized in Consumer Electronics Manufacturing | |
CN101246869B (zh) | 降低基板翘曲的芯片倒装封装结构及其制作方法 | |
JP2007227558A (ja) | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 | |
KR20140100096A (ko) | 반도체 패키지의 보이드 제거 시스템 | |
WO2009009566A3 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
CN104952742A (zh) | 一种控制gpp芯片玻璃沿高度的制作工艺 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150817 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150930 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20151127 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20151221 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160118 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160223 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20160324 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160328 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6068404 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |