JP2015021178A - 無電解Ni−P−Snめっき液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、水溶性ニッケル塩、次亜リン酸又はその塩、水溶性の4価スズ化合物、第1錯化剤、及び第2錯化剤を含有する水溶液であって、前記第1錯化剤がオキシカルボン酸又はその塩であり、第2錯化剤がアミノカルボン酸及びエチレンジアミン誘導体からなる群から選択される少なくとも1種であり、前記水溶性の4価スズ化合物、前記第1錯化剤及び前記第2錯化剤のモル比が1:(10〜25):(1〜5)である、無電解Ni−P−Snめっき液に関する。
【選択図】なし
Description
1.水溶性ニッケル塩、次亜リン酸又はその塩、水溶性の4価スズ化合物、第1錯化剤、及び第2錯化剤を含有する水溶液であって、前記第1錯化剤がオキシカルボン酸又はその塩であり、第2錯化剤がアミノカルボン酸及びエチレンジアミン誘導体からなる群から選択される少なくとも1種であり、前記水溶性の4価スズ化合物、前記第1錯化剤及び前記第2錯化剤のモル比が1:(10〜25):(1〜5)である、無電解Ni−P−Snめっき液。
2.前記第1錯化剤が、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、サリチル酸、酒石酸、及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも1種である、上記項1に記載の無電解Ni−P−Snめっき液。
3.前記第2錯化剤が、グリシン、アラニン、エチレンジアミン四酢酸、N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン−N,N’,N’−三酢酸、及びN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミンからなる群から選択される少なくとも1種である、上記項1又は2に記載の無電解Ni−P−Snめっき液。
4.上記項1〜3のいずれか1項に記載の無電解Ni−P−Snめっき液に被めっき物を接触させる、無電解Ni−P−Snめっき方法。
下記表1に示す組成の無電解めっき液を調製した。なお、比較例1は実施例1の錯化剤をクエン酸のみにしためっき液であり、比較例2は水溶性の4価スズ化合物、第1錯化剤、第2錯化剤のモル比が1:(10〜25):(1〜5)から外れるめっき液である。また、比較例3は特許文献1の発明例2のめっき液であり、比較例4は比較例1のめっき液からSnCl4を除いためっき液である。
1.含スズ率、含リン率及び含ニッケル率
めっき皮膜断面についてEDS元素分析を行った。
2.めっき析出速度
めっき皮膜断面の膜厚を測定し、膜厚及び浸漬時間からめっき析出速度を算出した。
3.めっき皮膜の耐食性試験
めっき膜厚が約5μmとなるように作製したサンプルを30%硝酸に浸漬し(浸漬面積:25mm×40mm)、浸漬10分後にめっき皮膜の表面観察を目視で観察した。評価基準は、以下のとおりである。
◎:光沢を維持し、全く侵されていない
○:光沢が鈍くなる
△:多少の変色が見られる
×:腐食する
Claims (4)
- 水溶性ニッケル塩、次亜リン酸又はその塩、水溶性の4価スズ化合物、第1錯化剤、及び第2錯化剤を含有する水溶液であって、前記第1錯化剤がオキシカルボン酸又はその塩であり、第2錯化剤がアミノカルボン酸及びエチレンジアミン誘導体からなる群から選択される少なくとも1種であり、前記水溶性の4価スズ化合物、前記第1錯化剤及び前記第2錯化剤のモル比が1:(10〜25):(1〜5)である、無電解Ni−P−Snめっき液。
- 前記第1錯化剤が、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、サリチル酸、酒石酸、及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の無電解Ni−P−Snめっき液。
- 前記第2錯化剤が、グリシン、アラニン、エチレンジアミン四酢酸、N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン−N,N’,N’−三酢酸、及びN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミンからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1又は2に記載の無電解Ni−P−Snめっき液。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の無電解Ni−P−Snめっき液に被めっき物を接触させる、無電解Ni−P−Snめっき方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106756908A (zh) * | 2016-12-27 | 2017-05-31 | 上海应用技术大学 | 一种耐高温Ni‑B‑Ce化学复合沉积层及其超声波辅助制备方法 |
CN111647882A (zh) * | 2020-05-18 | 2020-09-11 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种Ni-Sn-P合金镀层的化学镀液及化学镀层 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4167416A (en) * | 1976-10-19 | 1979-09-11 | Alfachimici S.P.A. | Composition for the electroless deposition of nickel base alloys |
JPS59215474A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-05 | Nec Corp | 無電解めつき浴 |
JPH06256963A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Univ Waseda | 無電解Ni−Sn−P合金めっき液 |
JPH06256964A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Univ Waseda | 無電解Ni−Sn系合金めっき液 |
JPH06256962A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Univ Waseda | 無電解Ni−Sn−P合金めっき液 |
US5614003A (en) * | 1996-02-26 | 1997-03-25 | Mallory, Jr.; Glenn O. | Method for producing electroless polyalloys |
JP2001181894A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-03 | Osaka Gas Co Ltd | エンジン又はタービンの排気部又は熱交換部用部材 |
JP2001192889A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-17 | Osaka Gas Co Ltd | コンプレッサー用部材 |
JP2001256967A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 非水電解質二次電池用負極材料およびその製造方法 |
JP2013014809A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Nippon Kanizen Kk | 無電解ニッケルめっき皮膜および無電解ニッケルめっき液 |
-
2013
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4167416A (en) * | 1976-10-19 | 1979-09-11 | Alfachimici S.P.A. | Composition for the electroless deposition of nickel base alloys |
JPS59215474A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-05 | Nec Corp | 無電解めつき浴 |
JPH06256963A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Univ Waseda | 無電解Ni−Sn−P合金めっき液 |
JPH06256964A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Univ Waseda | 無電解Ni−Sn系合金めっき液 |
JPH06256962A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Univ Waseda | 無電解Ni−Sn−P合金めっき液 |
US5614003A (en) * | 1996-02-26 | 1997-03-25 | Mallory, Jr.; Glenn O. | Method for producing electroless polyalloys |
JP2001181894A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-03 | Osaka Gas Co Ltd | エンジン又はタービンの排気部又は熱交換部用部材 |
JP2001192889A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-17 | Osaka Gas Co Ltd | コンプレッサー用部材 |
JP2001256967A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 非水電解質二次電池用負極材料およびその製造方法 |
JP2013014809A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Nippon Kanizen Kk | 無電解ニッケルめっき皮膜および無電解ニッケルめっき液 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106756908A (zh) * | 2016-12-27 | 2017-05-31 | 上海应用技术大学 | 一种耐高温Ni‑B‑Ce化学复合沉积层及其超声波辅助制备方法 |
CN111647882A (zh) * | 2020-05-18 | 2020-09-11 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种Ni-Sn-P合金镀层的化学镀液及化学镀层 |
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