JP5652585B2 - 3価クロムめっき浴 - Google Patents

3価クロムめっき浴 Download PDF

Info

Publication number
JP5652585B2
JP5652585B2 JP2009032740A JP2009032740A JP5652585B2 JP 5652585 B2 JP5652585 B2 JP 5652585B2 JP 2009032740 A JP2009032740 A JP 2009032740A JP 2009032740 A JP2009032740 A JP 2009032740A JP 5652585 B2 JP5652585 B2 JP 5652585B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
trivalent chromium
chromium plating
plating bath
acids
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009032740A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010189673A (ja
Inventor
順一 片山
順一 片山
伸吾 永峯
伸吾 永峯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Okuno Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Okuno Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Okuno Chemical Industries Co Ltd filed Critical Okuno Chemical Industries Co Ltd
Priority to JP2009032740A priority Critical patent/JP5652585B2/ja
Publication of JP2010189673A publication Critical patent/JP2010189673A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5652585B2 publication Critical patent/JP5652585B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、3価クロム化合物を含むめっき浴、該めっき浴を用いるめっき方法及びクロムめっき皮膜が形成された物品に関する。
クロムめっきは、装飾用、工業用等の各種の分野で広く利用されている。従来から主として用いられているクロムめっき浴は、クロム成分として6価クロムを多量に含むものである。しかしながら、近年、6価クロムの有害性が問題となっており、作業環境や排水処理などの点から、毒性の少ないめっき液の開発が強く望まれている。
6価クロムと比較して毒性の低い3価クロムを含むクロムめっき浴として、各種のめっき浴が知られており(下記特許文献1〜3及び非特許文献1〜3参照)、浴中の3価クロムイオン濃度が0.4モル以上であって、水溶液脂肪族カルボン酸及びその塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分を3価クロムイオン1モルに対して1.0〜3.0モル程度の範囲で含有するクロムめっき浴が報告されている。この様な3価クロムめっき浴については、めっき厚の薄い装飾用クロムめっきとして一部実用化が進んでおり、例えば、商標名:アレクラ3000(アルブライトアンドウイルソン社),商標名:エンバイロクロム(カニング社)、商標名:トリクロライト(ユージライト社),商標名:トライクロムプラス(アトテックジャパン)などのめっき浴が市販されている。
しかしながら、3価クロムめっき浴から得られるクロムめっき皮膜(3価クロムめっき皮膜)は、従来の6価クロムを含むめっき浴から得られるクロムめっき皮膜(6価クロムめっき皮膜)と比較した場合、耐食性については一般的にやや劣ることが知られている(下記特許文献4参照)。このため、3価クロムめっき浴の有用性をより高くするためには、3価クロムめっき皮膜の耐食性能を向上させることが必要である。
また、寒冷地域などにおいて、融雪剤が散布された状況では、めっき皮膜の腐食が進行し易いことが問題となっている。この様な塩害が問題となる環境下では、6価クロムめっき皮膜と比較して3価クロムめっき皮膜の方が腐食し難いことが報告されている。このため、耐塩害性に優れためっき皮膜として、3価クロムめっき皮膜の耐食性のより一層の向上が望まれている。
特開55-119192号公報 特開平4-45598号公報 特開2002-285375号公報
表面技術 vol.56, No.6, 324p 表面技術 Vol.47, No.3, 245p (1996) 近畿アルミニウム表面処理研究会 平成18年度秋季特別講演 講演要旨集 表面技術 Vol.56,No.6,302p(2005)
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、従来と比較してより耐食性に優れた3価クロムめっき皮膜を形成できる新規な3価クロムめっき浴を提供することである。
本発明者は、上記した目的を達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、通常、3価クロムめっき浴中には、外観や析出状態を改善するために硫黄含有化合物が添加されているが、この硫黄含有化合物中の硫黄分がクロムめっき皮膜中に析出し、これが3価クロムめっき皮膜の耐食性を低下させる一因となることを見出した。そして、硫黄含有化合物を含む3価クロムめっき浴中にアミノカルボン酸を添加することにより、めっき皮膜の外観を大きく低下させることなく、硫黄の析出量を抑制して、耐食性を向上させることができることを見出し、ここに本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記の3価クロムめっき浴、該めっき浴を用いるめっき方法及びクロムめっき皮膜が形成された物品を提供するものである。
1. 水溶性3価クロム化合物、伝導性塩、pH緩衝剤、硫黄含有化合物及びアミノカルボン酸類を含有する水溶液からなる3価クロムめっき浴。
2. 硫黄含有化合物が、SO2基を有する化合物及びSO3基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物である上記項1に記載の3価クロムめっき浴。
3. 3価クロムイオンを0.003〜0.5モル/L、伝導性塩を50〜400g/L、pH緩衝剤を60〜120g/L、硫黄含有化合物を1〜10g/L、及びアミノカルボン酸類を0.05〜1モル/L含有する水溶液からなる上記項1又は2に記載の3価クロムめっき浴。
4. 更に、水溶性脂肪族カルボン酸類を含有する上記項1〜3のいずれかに記載の3価クロムめっき浴。
5. 上記項1〜4のいずれかに記載の3価クロムめっき浴中において被めっき物を陰極として電解処理を行うことを特徴とするクロムめっき方法。
6. 上記項1〜4のいずれかに記載の3価クロムめっき浴を用いて形成されたクロムめっき皮膜を有する物品。
以下、本発明の3価クロムめっき浴について詳細に説明する。
本発明の3価クロムめっき浴は、水溶性3価クロム化合物、伝導性塩、pH緩衝剤及び硫黄含有化合物を含有する水溶液中に、更に、アミノカルボン酸を添加したものである。
上記した成分の内で、3価クロム化合物は、3価クロムを含む水溶性の化合物であればよく、例えば、硫酸クロム、硝酸クロム、酢酸クロム、塩基性硫酸クロムなどを用いることができる。これらの3価クロム化合物は、一種単独又は二種以上混合して用いることができる。
本発明の3価クロムめっき浴では、3価クロムイオンの濃度については特に限定的ではないが、通常、0.003〜0.5モル/L程度とすることが好ましく、0.03〜0.3モル/L程度とすることがより好ましい。3価クロムイオンの濃度が上記した範囲内にあることによって、耐食性、析出速度、外観、析出性などについて、バランスのとれた3価クロムめっき皮膜を形成できる。
本発明の3価クロムめっき浴では、伝導性塩としては、例えば、硫酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム等の硫酸塩、塩化カリウム、塩化ナトリウムアルカリ金属塩化物などを用いることができる。これらの伝導性塩は一種単独又は二種以上混合して用いることができる。
伝導性塩の濃度については特に限定されないが、濃度が低い場合には浴電圧が上昇して電解中に浴温が上昇するため一定温度に保持するために電解槽を冷却する必要が生じる。また,伝導性塩濃度が高い場合には浴電圧は低下するが建浴時に溶解させることが困難であり、しかも、めっき作業を中止してめっき浴の温度が低下した場合には、沈殿などが生成することになる。これらの点から伝導性塩の濃度は、50〜400g/L程度とすることが好ましく、150〜300g/L程度とすることがより好ましい。
pH緩衝剤としては、例えば、ホウ酸、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム,リン酸,リン酸水素2ナトリウム,リン酸水素2カリウム,炭酸ナトリウム,炭酸水素ナトリウムなどを使用することができる。pH緩衝剤の濃度が低い場合には陰極反応界面でのpH上昇が起こり,クロムの水酸化物などが生成するため良好なクロムめっき皮膜が得られない。このため、良好なクロムめっき皮膜を得るためには、pH緩衝剤の濃度は60〜120g/L程度とすることが好ましく、80〜100g/L程度とすることがより好ましい。
本発明のめっき浴は、硫黄含有化合物として、SO2基を有する化合物及びSO3基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有するものである。これらの硫黄含有化合物は、形成されるクロム皮膜を緻密で良好な外観とするために有効な成分である。
これらの内でSO2基を有する化合物としては、サッカリン、サッカリンナトリウム等を例示でき、SO3基を有する化合物としは、スルホベンズアルデヒド、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、これらの塩等を例示できる。これらの硫黄含有化合物は、一種単独又は二種以上混合して用いることが出来る。
硫黄含有化合物の濃度については、特に限定されないが、通常、1〜10g/L程度とすることが好ましく、2〜7g/L程度とすることがより好ましい。
本発明のめっき浴には、更に、アミノカルボン酸類を添加することが必要である。アミノカルボン酸類を添加することによって、めっき皮膜中への硫黄の析出量を抑制して、3価クロムめっき皮膜の耐食性を向上させることができる。
アミノカルボン酸類の種類については、特に限定的ではないが、例えば、脂肪族モノアミノモノカルボン酸、脂肪族モノアミノジカルボン酸、これらの水溶性塩等を好適に用いることができる。この様なアミノカルボン酸類の具体例としては、グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アルギニン等を挙げることができる。これらのアミノカルボン酸類は、一種単独又は二種以上混合して用いることができる。
アミノカルボン酸類の濃度については、特に限定されないが、通常、0.05〜1モル/L程度とすることが好ましく、0.1〜0.7モル/L程度とすることがより好ましい。アミノカルボン酸類の濃度が低すぎる場合には、耐食性を向上させる効果が十分には発揮されず、一方、アミノカルボン酸類の濃度が高すぎると、めっき皮膜の形成速度が低下する傾向がある。このため、アミノカルボン酸類の濃度は、めっき浴中に含まれる3価クロムイオン1モルに対して5モル程度以下とすることが好ましい。
本発明のめっき浴には、更に、必要に応じて、水溶性脂肪族カルボン酸類を添加することができる。これによって、形成される3価クロムめっき皮膜の耐食性をより向上させることができる。この理由については必ずしも明確ではないが、水溶性脂肪族カルボン酸類を添加することによって、3価めっき皮膜中に析出する炭素量が増加して、めっき皮膜中の硫黄と炭素の合計量(S+C)が多くなり、硫黄と炭素の合計量に対する硫黄量の比率(S/(S+C))が小さくなることが耐食性向上の一因と考えられる。
水溶性脂肪族カルボン酸類としては、水溶性脂肪族カルボン酸又はその塩を用いることはでき、その具体例としては、ギ酸、酢酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸等の脂肪族ジカルボン酸;グルコン酸などの脂肪族ヒドロキシモノカルボン酸:リンゴ酸等の脂肪族ヒドロキシジカルボン酸;クエン酸等の脂肪族ヒドロキシトリカルボン酸などのカルボン酸、これらのカルボン酸の水溶性塩、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等を挙げることができる。
水溶性脂肪族カルボン酸類の濃度についても特に限定的ではないが、通常、めっき浴中に存在するCr(III)に対して0.1〜3倍モル程度とすることが好ましく、0.5〜2.5倍モル程度とすることがより好ましい。
本発明の3価クロムめっき浴は、上記した各成分を水に溶解したものであり、各成分を溶解する順序は任意である。
上記した各成分を用いて建浴した3価クロムめっき液のpHは、使用する錯化剤の種類により多少の変動があるが、通常、pH2〜4程度の範囲内とすることが好ましい。この程度のpH範囲とすることによって、水酸化クロムによる沈殿の発生を防止して、良好な3価クロムめっき皮膜を継続して形成することができる。
本発明の3価クロムめっき浴によれば、常法に従って、該クロムめっき浴中において被めっき物を陰極として通電することによって、被めっき物上に良好なクロムめっき皮膜を形成できる。
本発明の3価クロムめっき浴では、めっき作業時の浴温が低い場合にはつき回り性は向上するが製膜速度は低下する傾向があり、逆に浴温が高い場合には,製膜速度は向上するが低電流密度領域へのつき回り性は低下する傾向がある。この点を考慮して適切な浴温を決めればよいが、通常、工業的に使用する際の浴温としては、30〜60℃程度の温度範囲が好ましい。
めっき時に使用する陽極としては、特に限定的ではなく、通常は、Ti−Pt電極などの公知の不溶性陽極を用いることができる。特に、Ir−Ta複合酸化物薄膜で被覆したTi電極を用いる場合には、6価クロムの生成を抑制できる点で有利である。
本発明の3価クロムめっき浴は、例えば、1A/dm2程度の低電流密度においても良好なクロムめっき皮膜を形成できる。このため、1〜20 A/dm2程度の広い陰極電流密度範囲において良好な外観のクロムめっき皮膜を形成できる。
本発明の3価クロムめっき浴を用いて形成される3価クロムめっき皮膜は、優れた耐食性を有するものであり、クロム酸浸漬処理などの後処理を行わない場合であっても、良好な耐食性を発揮することができるが、必要に応じて、常法に従って、クロム酸浸漬処理などの後処理を行っても良い。
本発明の3価クロムめっき浴によれば、下記に示す顕著な効果が奏される。
(1)形成される3価クロムめっき皮膜は、優れた耐食性を有するものであり、特に、塩害が問題となる環境下においても、良好な耐食性能を発揮することができる。
(2)低電流密度領域での付き回り性に優れ、広い電流密度範囲において良好なクロムめっき皮膜を形成できる。
(3)めっき時間に応じてめっき皮膜が成長するので、1μmを上回る厚付けが可能である。
(4)高い皮膜硬度を有するクロムめっき皮膜を得ることができる。
以下、実施例および比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例〜5、比較例A及び比較例1
下記表1に示す各成分を水に溶解して3価クロムめっき浴を調製し、表中に示すpH値及び浴温で下記の方法によってめっき試験を行った。
Figure 0005652585
めっき試験方法は以下の通りである。その結果を下記表2に示す。
(めっき試験方法)
(1)塩水噴霧試験(SST)
表1に示す各3価クロムめっき浴を用いて、膜厚約5μmの光沢Niめっき皮膜を形成した真鍮板に約0.1μmの3価クロムめっき皮膜を形成した。水洗後、JIS 2371に従った塩水噴霧試験法によって耐食性試験を行い、試料全体の約10%に白サビが発生するまでの時間により耐食性を評価した。
(2)キャス試験
酢酸酸性(pH=3.1〜3.3)の塩化ナトリウム-塩化銅水溶液(NaCl: 50±5g/L,CuCl2:0.205±0.015g/L)を試験液として用い、試験室温度を50℃とすること以外は、上記した塩水噴霧試験と同様にして、試料全体の約10%に白サビが発生するまでの時間により耐食性を評価した。
(3)耐塩害性試験
各3価クロムめっき浴を用いて、膜厚約5μmの光沢Niめっき皮膜を形成した真鍮板に約0.1μmの3価クロムめっき皮膜を形成した。次いで、下記(i)〜(iv)の工程で耐塩害性を評価した。
(試験方法)
(i)飽和塩化カルシウム溶液50mlをカオリン30gと混合する。
(ii)各試料に上記(1)で得た混合物を均一に塗布する。
(iii)60℃の恒温槽に入れて保持する。
(iv)24時間経過後に水洗してさび発生面積を測定する。
Figure 0005652585
以上の結果から次のことが明らかである。
(1)アミノカルボン酸であるグリシンを添加剤として含む比較例Aの3価クロムめっき浴によれば、アミノカルボン酸を含有しない比較例1のめっき浴と比較すると、形成される3価クロムめっき皮膜は、塩水噴霧試験、及びキャス試験のいずれにおいても良好な耐食性を示した。特に、耐塩害性試験において、耐食性の大きな向上が認められた。
(2)実施例〜5のめっき浴から形成される3価クロムめっき皮膜は、いずれも塩水噴霧試験、キャス試験及び耐塩害性試験において良好な耐食性能を示した。特に、アミノカルボン酸としてグリシンを含み、更に、水溶性脂肪族カルボン酸を含む実施例4及び5の3価クロムめっき浴によれば、形成される3価クロムめっき皮膜は、耐食性の大きな向上が認められた。

Claims (4)

  1. 水溶性3価クロム化合物、伝導性塩、pH緩衝剤、硫黄含有化合物、アミノカルボン酸類及び水溶性脂肪族カルボン酸類を含有する水溶液からなる3価クロムめっき浴であって、
    前記pH緩衝剤が、ホウ酸、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、リン酸、リン酸水素2ナトリウム、リン酸水素2カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種であり;
    前記水溶性脂肪族カルボン酸類が、脂肪族モノカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、脂肪族ヒドロキシモノカルボン酸、脂肪族ヒドロキシジカルボン酸、脂肪族ヒドロキシトリカルボン酸これらのカルボン酸のアルカリ金属塩、これらのカルボン酸のアルカリ土類金属塩、及びこれらのカルボン酸のアンモニウム塩からなる群より選ばれる少なくとも一種であり;
    前記伝導性塩が、硫酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム、塩化カリウム、及び塩化ナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種であり;かつ
    前記硫黄含有化合物が、サッカリン、サッカリンナトリウム、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種である、前記3価クロムめっき浴。
  2. 3価クロムイオンを0.003〜0.5モル/L、伝導性塩を50〜400g/L、pH緩衝剤を60〜120g/L、硫黄含有化合物を1〜10g/L、及びアミノカルボン酸類を0.05〜1モル/L含有する水溶液からなる請求項1に記載の3価クロムめっき浴。
  3. 請求項1又は2に記載の3価クロムめっき浴中において被めっき物を陰極として電解処理を行うことを特徴とするクロムめっき方法。
  4. 請求項1又は2に記載の3価クロムめっき浴を用いて形成されたクロムめっき皮膜を有する物品。
JP2009032740A 2009-02-16 2009-02-16 3価クロムめっき浴 Active JP5652585B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009032740A JP5652585B2 (ja) 2009-02-16 2009-02-16 3価クロムめっき浴

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009032740A JP5652585B2 (ja) 2009-02-16 2009-02-16 3価クロムめっき浴

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010189673A JP2010189673A (ja) 2010-09-02
JP5652585B2 true JP5652585B2 (ja) 2015-01-14

Family

ID=42816021

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009032740A Active JP5652585B2 (ja) 2009-02-16 2009-02-16 3価クロムめっき浴

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5652585B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014095097A (ja) * 2011-02-25 2014-05-22 Taiyo Manufacturing Co Ltd 3価クロムめっき成形品の製造方法および3価クロムめっき成形品
JPWO2014115203A1 (ja) * 2013-01-25 2017-01-19 上村工業株式会社 クロムめっき浴及びそれを使用したクロムめっき皮膜の形成方法
JP5721766B2 (ja) 2013-03-29 2015-05-20 株式会社リケン 複合硬質クロムめっき皮膜、及びかかる皮膜を被覆した摺動部材
WO2015037391A1 (ja) * 2013-09-12 2015-03-19 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき浴
US20220403538A1 (en) 2019-10-31 2022-12-22 Coventya S.P.A. Sulfate based, ammonium free trivalent chromium decorative plating process
EP3859053A1 (en) 2020-01-31 2021-08-04 COVENTYA S.p.A. Sulfate based, ammonium free trivalent chromium decorative plating process

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5265138A (en) * 1975-11-25 1977-05-30 Int Lead Zinc Res Plating bath of trivalent chromium
JPS5531121A (en) * 1978-08-25 1980-03-05 Toyo Soda Mfg Co Ltd Chrome plating bath
JPS55119192A (en) * 1979-03-09 1980-09-12 Toyo Soda Mfg Co Ltd Trivalent chromium plating bath
GB2093861B (en) * 1981-02-09 1984-08-22 Canning Materials W Ltd Bath for electrodeposition of chromium
GB8503019D0 (en) * 1985-02-06 1985-03-06 Canning W Materials Ltd Electroplating
JPH09302496A (ja) * 1996-05-09 1997-11-25 Asahi Glass Co Ltd クロム含有合金皮膜のめっき方法
JP5322083B2 (ja) * 2007-07-12 2013-10-23 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき浴及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010189673A (ja) 2010-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5322083B2 (ja) 3価クロムめっき浴及びその製造方法
JP5652585B2 (ja) 3価クロムめっき浴
JP5198727B2 (ja) 亜鉛又は亜鉛合金上に黒色の6価クロムフリー化成皮膜を形成するための処理溶液
JP5299887B2 (ja) 3価クロムめっき皮膜用電解処理液
JP6788506B2 (ja) 三価電解液から析出される微小不連続クロムの不動態化
JP7349427B2 (ja) 3価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法
EP0151235A1 (en) Process for preparing Zn-Fe base alloy electroplated steel strips
TWI546422B (zh) Trivalent chromium plating bath
WO2012114737A1 (ja) 3価クロムめっき成形品の製造方法および3価クロムめっき成形品
JP5336762B2 (ja) 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
JP5549837B2 (ja) クロムめっき皮膜の防錆用浸漬処理液及び防錆処理方法
JP4472965B2 (ja) 3価クロメート液及びそれを用いた亜鉛ニッケル合金めっき上に6価クロムフリー耐食性皮膜を形成する方法
JP5517164B2 (ja) バレルめっきによる3価クロムめっき方法
WO2013183644A1 (ja) アルミ変性コロイダルシリカを含有した3価クロム化成処理液
WO2009093499A1 (ja) 3価クロムめっき浴
TW201631211A (zh) 鋅或鋅合金基材用之3價鉻化學轉換處理液及化學轉換被膜
JP2009173978A (ja) 亜鉛又は亜鉛合金めっき上に加熱耐食性の良い3価クロム化成処理皮膜を形成するための化成処理方法
JP2009041092A (ja) 亜鉛又は亜鉛合金めっき皮膜用の化成処理液及びそれを用いた防食皮膜の形成方法
JP6218473B2 (ja) 無電解Ni−P−Snめっき液
JP6960677B2 (ja) 無電解Ni−Fe合金めっき液
JP6517501B2 (ja) ストライク銅めっき液およびストライク銅めっき方法
JP4740528B2 (ja) ニッケル−モリブデン合金めっき液とそのめっき皮膜及びめっき物品
WO2022224901A1 (ja) 3価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法
KR102014342B1 (ko) 무전해 크롬도금 조성물 및 이를 이용하는 무전해 크롬도금 방법
JPH0321638B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130726

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130806

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131004

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140610

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140909

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20140917

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141014

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141104

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5652585

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250