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Claims (33)

  1. インターポーザベースの画像センシングデバイスであって、
    基板の表面に配置される少なくとも1つのインターポーザと、
    前記少なくとも1つのインターポーザに配置される少なくとも1つの光検出アレイセンサであって、前記少なくとも1つの光検出アレイセンサは裏面入射型であり、前記少なくとも1つの光検出アレイセンサは背面照明用に構成されており、複数の列のピクセルを含む前記少なくとも1つの光検出アレイセンサと、
    前記少なくとも1つの光検出アレイセンサの出力を増幅するように構成された少なくとも1つの増幅回路網要素であって、動作可能なように前記インターポーザに接続されている前記少なくとも1つの増幅回路と、
    前記少なくとも1つの光検出アレイセンサの出力をデジタル信号に変換するように構成された少なくとも1つのアナログ‐デジタル変換回路網構成要素であって、動作可能なように前記インターポーザに接続される前記少なくとも1つのアナログ‐デジタル変換回路と、
    前記少なくとも1つの光検出アレイセンサのクロック信号又は制御信号の内の少なくとも1つを駆動するように構成された少なくとも1つのドライバ回路網要素であって、動作可能なように前記インターポーザに接続されている前記少なくとも1つのドライバ回路網要素と、
    動作可能なように前記1つ又は複数のインターポーザに接続されている少なくとも1つの追加回路要素であって、前記インターポーザが、前記少なくとも1つの光検出アレイセンサ、前記1つ又は複数の増幅回路、前記1つ又は複数の変換回路、前記1つ又は複数のドライバ回路、又は前記1つ又は複数の追加回路の内の少なくとも2つを電気的に結合するように構成された、少なくとも1つの追加回路網要素と、
    を備えるインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  2. 前記少なくとも1つの増幅回路網要素が前記インターポーザ上に製作される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  3. 前記少なくとも1つのアナログ‐デジタル変換回路網要素、前記少なくとも1つのドライバ回路網要素、又は前記少なくとも1つの追加回路網要素の内の少なくとも1つが、前記インターポーザ上に製作される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  4. 前記少なくとも1つのアナログ‐デジタル変換回路網要素、前記少なくとも1つのドライバ回路網要素、又は前記少なくとも1つの追加回路網要素の内の少なくとも1つが、別個の金型内に製作され、前記インターポーザ上に配置される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  5. 前記少なくとも1つの増幅器が、前記光検出アレイセンサの第1の列のピクセルの出力に結合される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  6. 前記少なくとも1つの増幅器が、前記少なくとも1つの光検出アレイセンサの第1の列のピクセルの出力に、及び/又は、前記少なくとも1つの光検出アレイセンサの少なくとも第2の列のピクセルに結合される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  7. 前記少なくとも1つの増幅器が、少なくとも1つの電荷変換増幅器を含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  8. 前記少なくとも1つのインターポーザ上に配置される前記少なくとも1つの光検出アレイセンサが、単一のインターポーザ上に配置される2つ以上の光検出アレイセンサを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  9. 単一のインターポーザ上に配置される前記2つ以上の光検出アレイセンサが、単一のインターポーザ上に配置される2つ以上の光検出アレイセンサであって、矩形グリッドパターンで配置される前記2つ以上の光検出アレイセンサを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  10. 単一のインターポーザ上に配置される前記2つ以上の光検出アレイセンサが、単一のインターポーザ上に配置される2つ以上の光検出アレイセンサであって、非矩形グリッドパターンで配置される前記2つ以上の光検出アレイセンサを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  11. 単一のインターポーザ上に配置される前記2つ以上の光検出アレイセンサ、非矩形グリッドパターンで配置される前記2つ以上の光検出アレイセンサが、単一のインターポーザに配置される2つ以上の光検出アレイセンサであって、前記2つ以上の光検出アレイセンサが非矩形グリッドパターンに配置され、前記非矩形グリッドパターンが第1のシリーズの光検出アレイセンサ及び第2のシリーズの光検出アレイセンサを含み、前記第1のシリーズの光検出アレイセンサからのイメージデータストリームが、前記第2のシリーズの光検出アレイセンサからのイメージデータストリームとインタリーブされる、2つ以上の光検出アレイセンサを含む、請求項10に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  12. 前記少なくとも1つのインターポーザ上に配置される前記少なくとも1つの光検出アレイセンサが、第1のインターポーザ上に配置される第1の光検出アレイセンサ及び少なくとも第2のインターポーザ上に配置される少なくとも第2の光検出アレイセンサであって、隣接して配置される前記第1のインターポーザ及び前記少なくとも第2のインターポーザを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  13. 前記少なくとも1つの光検出アレイセンサが、少なくとも1つの電荷結合素子(CCD)ベースの光検出アレイセンサを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  14. 前記少なくとも1つの電荷結合素子ベースの光検出アレイセンサが、少なくとも1つの時間領域積分(TDI)ベースの光検出アレイセンサを含む、請求項13に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  15. 前記少なくとも1つの光検出アレイセンサが、少なくとも500ピクセル列を有する少なくとも1つの光検出アレイを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  16. 前記少なくとも1つの光検出アレイセンサの表面に配置される紫外線(UV)反射防止コーティングをさらに備える、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  17. 前記少なくとも1つの光検出アレイセンサの表面に配置される前記紫外線(UV)反射防止コーティングが熱酸化物層であって、前記インターポーザの表面で成長する前記熱酸化物層を備える、請求項16に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  18. 前記熱酸化物層の表面に配置される1つ又は複数の誘電体層をさらに備える、請求項17に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  19. 前記インターポーザが、シリコンインターポーザを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  20. 前記少なくとも1つの光検出アレイセンサと前記少なくとも1つのインターポーザとの間に位置決めされるサポート構造であって、前記サポート構造が前記少なくとも1つの光検出アレイセンサにサポートを提供するように構成される、サポート構造をさらに備える、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  21. 前記サポート構造が、複数のソルダボールを含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  22. 前記サポート構造が、大量のエポキシ樹脂を含む、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  23. 前記基板が、選択された値を超える熱導電率を有する、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  24. 前記基板が、セラミック基板を含む、請求項23に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  25. 前記基板がプリント基板上に配置される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  26. 前記基板が、前記インターポーザと、プリント基板又は1つもしくは複数のソケットの内の少なくとも1つとの間のインタフェースを提供するように構成される、請求項1に記載のインターポーザベースの画像センシングデバイス。
  27. インターポーザベースの光検出アレイセンサデバイスを製作する方法であって、
    基板を提供することと、
    前記基板の表面の上に少なくとも1つのインターポーザを配置することと、
    前記少なくとも1つのインターポーザの表面上に光検出アレイセンサを配置することであって、前記光検出アレイセンサが裏面入射型であり、背面照明のために構成される、配置すること、
    を含み、
    前記少なくとも1つのインターポーザが、前記1つ又は複数の光検出アレイセンサの出力を増幅するように構成された1つ又は複数の増幅回路網要素、前記1つ又は複数の光検出アレイセンサの出力をデジタル信号に変換するように構成された1つ又は複数のアナログ‐デジタル変換回路網要素、又は1つもしくは複数のドライバ回路網要素、又は1つもしくは追加の回路網要素の内の少なくとも1つを備えること、
    を含む、方法。
  28. サンプルステージ上に配置される対象物体の表面に向かって照明を導くように構成された照明光源と、検出器であって、前記検出器が少なくとも1つの光検出アレイデバイスを備え、前記少なくとも1つの光検出アレイデバイスが少なくとも1つのインターポーザ上に配置される少なくとも1つの裏面入射型光検出アレイセンサを備え、前記少なくとも1つの裏面照射型光検出アレイセンサが背面照明用にさらに構成され、前記少なくとも1つのインターポーザが1つもしくは複数の増幅器回路網要素、1つもしくは複数のアナログ‐デジタル変換回路網要素、1つもしくは複数のドライバ回路網要素、又は1つもしくは追加の回路網要素の内の少なくとも1つを備える、検出器と、
    前記対象物体の前記表面の上に照明の焦点を合わせるように構成された焦点調節レンズのセットと、
    前記対象物体の前記表面から反射される照明を前記検出器に導くように構成された集光レンズのセットと、
    を備える検査システム。
  29. 前記検査システムが、明視野検査システム又は暗視野検査システムの内の少なくとも1つを備える、請求項28に記載の検査システム。
  30. 前記照明システムが、紫外線(UV)光、深UV光、極UV(EUV)光又は真空UV光の内の少なくとも1つを生成するように構成される、請求項28に記載の検査システム。
  31. 前記1つ又は複数のドライバ回路網要素が、4ボルトを超える電圧振幅で動作するように構成される、請求項28に記載の検査システム。
  32. 前記1つ又は複数のドライバ回路網要素が、負の電圧レベルと正の電圧レベルの両方で動作するように構成される、請求項28に記載の検査システム。
  33. 前記対象物体が半導体ウェハを含む、請求項28に記載の検査システム。
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Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9793673B2 (en) 2011-06-13 2017-10-17 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US8873596B2 (en) 2011-07-22 2014-10-28 Kla-Tencor Corporation Laser with high quality, stable output beam, and long life high conversion efficiency non-linear crystal
US10197501B2 (en) 2011-12-12 2019-02-05 Kla-Tencor Corporation Electron-bombarded charge-coupled device and inspection systems using EBCCD detectors
US9496425B2 (en) 2012-04-10 2016-11-15 Kla-Tencor Corporation Back-illuminated sensor with boron layer
US9601299B2 (en) 2012-08-03 2017-03-21 Kla-Tencor Corporation Photocathode including silicon substrate with boron layer
US9151940B2 (en) 2012-12-05 2015-10-06 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US8929406B2 (en) 2013-01-24 2015-01-06 Kla-Tencor Corporation 193NM laser and inspection system
US9529182B2 (en) 2013-02-13 2016-12-27 KLA—Tencor Corporation 193nm laser and inspection system
US9448343B2 (en) 2013-03-15 2016-09-20 Kla-Tencor Corporation Segmented mirror apparatus for imaging and method of using the same
US9608399B2 (en) 2013-03-18 2017-03-28 Kla-Tencor Corporation 193 nm laser and an inspection system using a 193 nm laser
US9478402B2 (en) 2013-04-01 2016-10-25 Kla-Tencor Corporation Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor
US9347890B2 (en) 2013-12-19 2016-05-24 Kla-Tencor Corporation Low-noise sensor and an inspection system using a low-noise sensor
US9748294B2 (en) 2014-01-10 2017-08-29 Hamamatsu Photonics K.K. Anti-reflection layer for back-illuminated sensor
US9410901B2 (en) 2014-03-17 2016-08-09 Kla-Tencor Corporation Image sensor, an inspection system and a method of inspecting an article
US9804101B2 (en) 2014-03-20 2017-10-31 Kla-Tencor Corporation System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser
US9432121B2 (en) 2014-06-05 2016-08-30 Xilinx, Inc. Optical communication circuits
DE102014213734B4 (de) * 2014-07-15 2021-01-21 Siemens Healthcare Gmbh Bildgebende Vorrichtung für elektromagnetische Strahlung
US9767986B2 (en) 2014-08-29 2017-09-19 Kla-Tencor Corporation Scanning electron microscope and methods of inspecting and reviewing samples
US9419407B2 (en) 2014-09-25 2016-08-16 Kla-Tencor Corporation Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus
US10728450B2 (en) 2014-09-30 2020-07-28 Qualcomm Incorporated Event based computer vision computation
US20170132466A1 (en) 2014-09-30 2017-05-11 Qualcomm Incorporated Low-power iris scan initialization
US9838635B2 (en) 2014-09-30 2017-12-05 Qualcomm Incorporated Feature computation in a sensor element array
US9940533B2 (en) 2014-09-30 2018-04-10 Qualcomm Incorporated Scanning window for isolating pixel values in hardware for computer vision operations
US9554100B2 (en) 2014-09-30 2017-01-24 Qualcomm Incorporated Low-power always-on face detection, tracking, recognition and/or analysis using events-based vision sensor
US9762834B2 (en) 2014-09-30 2017-09-12 Qualcomm Incorporated Configurable hardware for computing computer vision features
US9923004B2 (en) 2014-09-30 2018-03-20 Qualcomm Incorporated Hardware acceleration of computer vision feature detection
US10515284B2 (en) 2014-09-30 2019-12-24 Qualcomm Incorporated Single-processor computer vision hardware control and application execution
US9986179B2 (en) 2014-09-30 2018-05-29 Qualcomm Incorporated Sensor architecture using frame-based and event-based hybrid scheme
US9748729B2 (en) 2014-10-03 2017-08-29 Kla-Tencor Corporation 183NM laser and inspection system
DE102014221829B4 (de) * 2014-10-27 2018-02-22 Siemens Healthcare Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sensorboards für ein Detektormodul und damit hergestelltes Detektormodul
US9723179B2 (en) * 2014-11-25 2017-08-01 Raytheon Company Time delay and integration (TDI) imaging sensor and method
US9581696B2 (en) 2014-12-22 2017-02-28 Google Inc. Image sensor and light source driver integrated in a same semiconductor package
US9704056B2 (en) 2015-04-02 2017-07-11 Qualcomm Incorporated Computing hierarchical computations for computer vision calculations
US9860466B2 (en) 2015-05-14 2018-01-02 Kla-Tencor Corporation Sensor with electrically controllable aperture for inspection and metrology systems
US10748730B2 (en) 2015-05-21 2020-08-18 Kla-Tencor Corporation Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer
US10462391B2 (en) 2015-08-14 2019-10-29 Kla-Tencor Corporation Dark-field inspection using a low-noise sensor
EP3144032A1 (en) * 2015-09-15 2017-03-22 Pixium Vision SA Photosensitive pixel structure with front side coating
US20170287757A1 (en) * 2016-03-30 2017-10-05 Robert F. Kwasnick Damage monitor
US10313622B2 (en) 2016-04-06 2019-06-04 Kla-Tencor Corporation Dual-column-parallel CCD sensor and inspection systems using a sensor
US10778925B2 (en) 2016-04-06 2020-09-15 Kla-Tencor Corporation Multiple column per channel CCD sensor architecture for inspection and metrology
US10429321B2 (en) * 2016-08-29 2019-10-01 Kla-Tencor Corporation Apparatus for high-speed imaging sensor data transfer
US10469782B2 (en) 2016-09-27 2019-11-05 Kla-Tencor Corporation Power-conserving clocking for scanning sensors
US10614332B2 (en) 2016-12-16 2020-04-07 Qualcomm Incorportaed Light source modulation for iris size adjustment
US10984235B2 (en) 2016-12-16 2021-04-20 Qualcomm Incorporated Low power data generation for iris-related detection and authentication
TWI616794B (zh) * 2016-12-20 2018-03-01 友達光電股份有限公司 光感測電路與其缺陷修補方法
US10175555B2 (en) 2017-01-03 2019-01-08 KLA—Tencor Corporation 183 nm CW laser and inspection system
WO2018175564A1 (en) * 2017-03-21 2018-09-27 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Neuromorphic digital focal plane array
EP3428692B1 (de) * 2017-07-10 2021-03-10 Siemens Healthcare GmbH Röntgendetektor mit zwischeneinheit und auswerteebene
CN107396007B (zh) * 2017-09-01 2020-02-14 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种连续转移模式下tdi ccd时序驱动方法及系统
WO2019042587A2 (de) * 2017-09-02 2019-03-07 Cetteen Gmbh Ansteuervorrichtung für eine röntgenröhre und verfahren zum betrieb einer röntgenröhre
US20190198460A1 (en) * 2017-12-21 2019-06-27 AP Memory Technology Corp. Circuit system having compact decoupling structure
DE102018200845B4 (de) * 2018-01-19 2021-05-06 Siemens Healthcare Gmbh Montageverfahren für die Herstellung eines Röntgendetektors, Röntgendetektor und Röntgengerät
US11114489B2 (en) 2018-06-18 2021-09-07 Kla-Tencor Corporation Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor
US10943760B2 (en) 2018-10-12 2021-03-09 Kla Corporation Electron gun and electron microscope
US11114491B2 (en) 2018-12-12 2021-09-07 Kla Corporation Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor
US20220291140A1 (en) * 2019-08-02 2022-09-15 Hitachi High-Tech Corporation Defect inspection device and defect inspection method
KR20210053392A (ko) 2019-11-01 2021-05-12 삼성전자주식회사 센서 소자
WO2021199397A1 (ja) * 2020-04-02 2021-10-07 株式会社日立ハイテク 欠陥検査装置および欠陥検査方法
US11848350B2 (en) 2020-04-08 2023-12-19 Kla Corporation Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor using a silicon on insulator wafer
KR20220051698A (ko) 2020-10-19 2022-04-26 삼성전자주식회사 반도체 패키지
WO2023105921A1 (ja) * 2021-12-06 2023-06-15 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 イメージセンサ装置、機器及びイメージセンサ装置の製造方法

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0620442B1 (en) * 1993-04-08 2001-07-25 Lecroy S.A. Charge sampling circuit
JPH06350068A (ja) * 1993-06-03 1994-12-22 Hamamatsu Photonics Kk 半導体エネルギー線検出器の製造方法
US5525914A (en) * 1995-01-23 1996-06-11 International Business Machines Corporation CMOS driver circuit
JP3924352B2 (ja) * 1997-06-05 2007-06-06 浜松ホトニクス株式会社 裏面照射型受光デバイス
US6236454B1 (en) * 1997-12-15 2001-05-22 Applied Materials, Inc. Multiple beam scanner for an inspection system
JP3545247B2 (ja) * 1998-04-27 2004-07-21 シャープ株式会社 二次元画像検出器
JP4184543B2 (ja) * 1999-06-10 2008-11-19 株式会社日立製作所 光学像検出方法および外観検査装置
JP2002151729A (ja) * 2000-11-13 2002-05-24 Sony Corp 半導体装置及びその製造方法
US6426991B1 (en) * 2000-11-16 2002-07-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Back-illuminated photodiodes for computed tomography detectors
US7045758B2 (en) * 2001-05-07 2006-05-16 Panavision Imaging Llc Scanning image employing multiple chips with staggered pixels
JP3722367B2 (ja) * 2002-03-19 2005-11-30 ソニー株式会社 固体撮像素子の製造方法
US7639419B2 (en) * 2003-02-21 2009-12-29 Kla-Tencor Technologies, Inc. Inspection system using small catadioptric objective
US7609309B2 (en) * 2004-11-18 2009-10-27 Kla-Tencor Technologies Corporation Continuous clocking of TDI sensors
GB0503827D0 (en) 2005-02-24 2005-04-06 E2V Tech Uk Ltd Enhanced spectral range imaging sensor
US8049293B2 (en) * 2005-03-07 2011-11-01 Sony Corporation Solid-state image pickup device, electronic apparatus using such solid-state image pickup device and method of manufacturing solid-state image pickup device
JP4802520B2 (ja) * 2005-03-07 2011-10-26 ソニー株式会社 固体撮像装置及びその製造方法
JP4940667B2 (ja) * 2005-06-02 2012-05-30 ソニー株式会社 固体撮像素子及びその製造方法
EP3203235A1 (en) * 2005-05-23 2017-08-09 Harald F. Hess Optical microscopy with phototransformable optical labels
TW201101476A (en) * 2005-06-02 2011-01-01 Sony Corp Semiconductor image sensor module and method of manufacturing the same
JP2007013362A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Konica Minolta Holdings Inc 撮像装置及び撮像方法
JP4723362B2 (ja) * 2005-11-29 2011-07-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 光学式検査装置及びその方法
JP4760564B2 (ja) * 2006-06-20 2011-08-31 日本電気株式会社 パターン形状の欠陥検出方法及び検出装置
JP2008035047A (ja) * 2006-07-27 2008-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd カメラ部品およびカメラと、カメラ部品の製造方法
US7785915B2 (en) * 2006-10-30 2010-08-31 Aptina Imaging Corporation Wafer level method of locating focal plane of imager devices
JP4609428B2 (ja) * 2006-12-27 2011-01-12 ソニー株式会社 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法および撮像装置
JP2009005262A (ja) 2007-06-25 2009-01-08 Olympus Imaging Corp 半導体装置および撮像装置
JP2009049290A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Fujifilm Corp 撮像装置及びその製造方法
US8126255B2 (en) * 2007-09-20 2012-02-28 Kla-Tencor Corp. Systems and methods for creating persistent data for a wafer and for using persistent data for inspection-related functions
US7884015B2 (en) * 2007-12-06 2011-02-08 Micron Technology, Inc. Methods for forming interconnects in microelectronic workpieces and microelectronic workpieces formed using such methods
US20090256156A1 (en) 2008-04-09 2009-10-15 E-Phocus, Inc Hybrid imaging sensor with approximately equal potential photodiodes
JP5198150B2 (ja) * 2008-05-29 2013-05-15 株式会社東芝 固体撮像装置
US8624971B2 (en) * 2009-01-23 2014-01-07 Kla-Tencor Corporation TDI sensor modules with localized driving and signal processing circuitry for high speed inspection
JP2010268353A (ja) * 2009-05-18 2010-11-25 Toshiba Corp 固体撮像装置及びその製造方法。
US20100330728A1 (en) * 2009-06-26 2010-12-30 Mccarten John P Method of aligning elements in a back-illuminated image sensor
JP5442394B2 (ja) * 2009-10-29 2014-03-12 ソニー株式会社 固体撮像装置とその製造方法、及び電子機器
JP2011124439A (ja) 2009-12-11 2011-06-23 Mitsubishi Electric Corp 撮像センサー評価装置
US20130062536A1 (en) * 2010-01-04 2013-03-14 BT Imaging Pty. Ltd. Illumination Systems and Methods for Photoluminescence Imaging of Photovoltaic Cells and Wafers
US8436423B2 (en) * 2010-01-21 2013-05-07 Roper Scientific, Inc. Solid state back-illuminated photon sensor
US8564065B2 (en) * 2011-06-03 2013-10-22 Analog Devices, Inc. Circuit architecture for metal oxide semiconductor (MOS) output driver electrical overstress self-protection

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