JP2014528967A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. 油相を形成する成分として、
   Ａ）少なくとも１つの第四級アンモニウム基を含有し、かつ、一般式（Ｉ）
   Ｍ_ａＭ’_ａ１Ｍ’’_ａ２Ｍ’’’_ａ３Ｄ_ｂＤ’_ｂ１Ｄ’’_ｂ２Ｄ’’’_ｂ３Ｔ_ｃＴ’_ｃ１Ｑ_ｄ
   式（Ｉ）
   ［式中、
   Ｍ ＝（Ｒ^１ _３ＳｉＯ_１／２）
   Ｍ’ ＝（Ｒ^２Ｒ^１ _２ＳｉＯ_１／２）
   Ｍ’’ ＝（Ｒ^３Ｒ^１ _２ＳｉＯ_１／２）
   Ｍ’’’＝（Ｒ^４Ｒ^１ _２ＳｉＯ_１／２）
   Ｄ ＝（Ｒ^１ _２ＳｉＯ_２／２）
   Ｄ’ ＝（Ｒ^２Ｒ^１ＳｉＯ_２／２）
   Ｄ’’ ＝（Ｒ^３Ｒ^１ＳｉＯ_２／２）
   Ｄ’’’＝（Ｒ^４Ｒ^１ＳｉＯ_２／２）
   Ｔ ＝（Ｒ^５ＳｉＯ_３／２）
   Ｔ’ ＝（Ｒ^２ＳｉＯ_３／２）
   Ｑ ＝（ＳｉＯ_４／２）
   ａ ＝０〜３２；
   ａ１ ＝０〜１０；
   ａ２ ＝０〜３２；
   ａ３ ＝０〜１０；
   ただし、
   ａ＋ａ１＋ａ２＋ａ３≧３；
   ｂ ＝１〜６００；
   ｂ１ ＝０〜１０；
   ｂ２ ＝０〜８０；
   ｂ３ ＝０〜２０；
   ｃ ＝０〜３０；
   ｃ１ ＝０〜１０；
   ｄ ＝０〜１５；
   ただし、
   ａ２＋ｂ２≧１、かつ、
   ｃ＋ｃ１＋ｄ≧１；
   Ｒ^１ ＝互いに独立して同一のもしくは異なる、線状もしくは分岐の、１〜３０個の炭素原子を有する任意選択的に芳香族である炭化水素；
   Ｒ^２ ＝互いに独立して同一のもしくは異なるアルコキシまたはアシルオキシラジカル；
   Ｒ^３ ＝第四級アンモニウム官能基を有する互いに独立して同一のもしくは異なる有機ラジカル；
   Ｒ^４ ＝互いに独立して同一のもしくは異なる有機エポキシラジカル；
   Ｒ^５ ＝互いに独立して同一のもしくは異なるラジカルＲ^１、Ｒ^３またはＲ^４］
   のポリシロキサン、
   Ｂ）非イオン界面活性剤、または、Ｃ）アニオン、カチオンおよび両性界面活性剤を含む群から選択される補助界面活性剤、および
   Ｄ）水
   を含み、
   成分Ａ）が、１０重量％〜６０重量％の量で存在し、重量％が総マイクロエマルションに関する、
   マイクロエマルション。
2. Ｒ^４が、群
   から選択される同一のもしくは異なるラジカルであるポリシロキサンを含むことを特徴とする、
   ［式中、
   Ｒ^８は、水素または１〜６個の炭素原子を有するアルキルからの同一のもしくは異なるラジカルであり；
   Ｒ^９は、エーテル官能基を任意選択的に含有する同一のもしくは異なる二価の炭化水素ラジカルであり；
   ｍ ＝２〜１８である］
   請求項１に記載のマイクロエマルション。
3. Ｒ^３が、構造−Ｒ^６−Ｒ^７［式中、
   Ｒ^６は、群
   から選択される同一のもしくは異なる二価ラジカルであり；
   Ｒ^７は、
   からなる群から選択され；
   Ｒ^８は、水素または１〜６個の炭素原子を有するアルキルからの同一のもしくは異なるラジカルであり；
   Ｒ^９は、エーテル官能基を任意選択的に含有する同一のもしくは異なる二価の炭化水素ラジカルであり；
   Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２は、各場合に互いに独立して水素または１〜３０個の炭素原子を有するアルキルラジカルまたは式
   のラジカルであり；
   Ｒ^１３は、群
   −Ｏ−；−ＮＲ^１６−
   からの同一のもしくは異なるラジカルであり；
   Ｒ^１４は、同一のもしくは異なる任意選択的に分岐の二価の炭化水素ラジカルであり；
   Ｒ^１５は、エーテル官能基を任意選択的に含有する１〜３０個の炭素原子を有する同一のもしくは異なるアルキル、アリールまたはアルカリールラジカルであり；
   Ｒ^１６は、水素または１〜６個の炭素原子を有するアルキルからの同一のもしくは異なるラジカルであり；
   ｍ ＝２〜１８；
   ｎ ＝２〜１８；
   ｏ ＝０〜３０；
   ｐ ＝０〜３０；
   Ａ⁻は、酸ＨＡの無機もしくは有機アニオン、およびそれらの誘導体から選択される、四級化窒素基上の正電荷に対する同一のもしくは異なる対イオンである］
   の基である
   ポリシロキサンを含むことを特徴とする請求項１に記載のマイクロエマルション。
4. ｃ＝１および
   ｃ＋ｃ１＋ｄ＝１
   であるポリシロキサンを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクロエマルション。
5. 前記ポリシロキサンが４０００ｇ／モル超の平均分子量を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のマイクロエマルション。
6. アルコキシル化化合物を含まないことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のマイクロエマルション。
7. 成分Ｂ）が、
   飽和および不飽和脂肪酸のグリセロールモノ−およびジエステルならびにソルビタンモノ−およびジエステル、
   アルキルモノ−およびオリゴグリセリド、線状、分岐、不飽和もしくは飽和脂肪酸、リシノール酸、および１２−ヒドロキシステアリン酸ならびにグリセロール、ポリグリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、糖アルコール、アルキルグルコシド、およびポリグルコシドをベースとする部分エステル、
   モノ−、ジ−およびトリアルキルホスフェートならびにそれらの塩、
   クエン酸エステル、ならびにグリセリルカプリレート、ポリグリセリルカプリレート、ポリグリセリルカプレート
   ならびにこれらの界面活性剤の混合物
   からなる群から選択されることを特徴とする請求項６に記載のマイクロエマルション。
8. さらに、
   ヒドロトロープを含む群から選択される成分Ｅ）、溶剤が存在することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のマイクロエマルション。
9. さらに成分Ｆ）、防腐剤、および／または成分Ｇ）、油または油混合物が存在することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のマイクロエマルション。
10. 成分Ｂ）が、３重量％〜３０重量％の量で存在し；
    成分Ｃ）が、０重量％〜３０重量％の量で存在し；
    成分Ｄ）が、１０重量％〜７５重量％の量で存在し；
    成分Ｅ）が、０重量％〜３５重量％の量で存在し；
    成分Ｆ）が、０重量％〜１重量％の量で存在し、かつ、
    成分Ｇ）が、Ａ）およびＢ）からなる総油相の０重量％〜５０重量％の量で存在し、
    重量％が、成分Ｇ）の場合は別として、総マイクロエマルションに関する、
    ことを特徴とする請求項９に記載のマイクロエマルション。
11. プロセス工程
    Ｉ）上記少なくとも１つのポリシロキサンの提供、
    ＩＩ）少なくとも１つの溶剤Ｅ）および／または成分Ｂ）の非イオン界面活性剤および／または油Ｇ）での前記ポリシロキサンの任意選択の溶解、
    ＩＩＩ）前記成分水および防腐剤が最後に添加される、前記マイクロエマルションを形成する残りの成分の添加
    を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のマイクロエマルションの調製方法。
12. 混合が、簡単な攪拌機でプロセス工程Ｉ）〜ＩＩＩ）中に実施されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
13. ケアおよびクリーニング調合物を製造するための請求項１〜１０のいずれか一項に記載の少なくとも１つのマイクロエマルションまたは請求項１１もしくは１２に記載の方法に従って得られる少なくとも１つのマイクロエマルションの使用。
14. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の少なくとも１つのマイクロエマルションまたは請求項１１もしくは１２に記載の方法により得られる少なくとも１つのマイクロエマルションを含む、ケアおよびクリーニング調合物。
15. コーティングおよびペイントの添加剤添加のための、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の少なくとも１つのマイクロエマルションまたは請求項１１もしくは１２に記載の方法に従って得られる少なくとも１つのマイクロエマルションの使用。
16. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の少なくとも１つのマイクロエマルションまたは請求項１１もしくは１２に記載の方法に従って得られる少なくとも１つのマイクロエマルションを含む、
    コーティング。
17. ０．１重量％〜９９重量％の量で前記マイクロエマルションを含む、請求項１４に記載の調合物または請求項１６に記載のコーティングであって、重量％は総調合物に関する、コーティング。