JP2021054761A - 毛髪又は繊維の絡まり防止方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる絡まり防止方法を提供する。【解決手段】毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。(A)所定の第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン 0.005質量%以上5質量%以下(B)水性媒体【選択図】なし
Description
本発明は、毛髪又は繊維の絡まり防止方法に関する。
毛髪は生活環境(太陽光による紫外線や熱)、日常のヘアケア行動(洗髪やブラッシングによる摩擦)、化学処理(カラーリング、パーマ等)によりダメージを受けている。ダメージを受けた毛髪が擦れ合うと、表面に大きな摩擦力が発生し、絡まりが生じる。「毛髪の絡まり」は、ヘアケア行動におけるあらゆるストレスの原因となる。洗髪時にシャンプー等の毛髪洗浄剤を泡立てる操作中の指通りの悪さ、洗髪後の毛髪のすすぎ時の指通りの悪さ等で「毛髪の絡まり」は感知される。
洗髪後の毛髪の絡まりを解く方法として、コンディショナーやトリートメント等の毛髪化粧料を用いる場合は、これら毛髪化粧料を毛髪に塗布し絡まり部位に指を通しながら馴染ませることによって、毛髪表面に潤滑成分を行き渡らせながら毛髪の絡まりを解いている。従来の技術では、毛髪の指通りや櫛通りをよくする目的で、コンディショナーやトリートメント等の毛髪化粧料にカチオン性界面活性剤、カチオン性ポリマー、高級アルコール、シリコーン等が配合されている。
洗髪後の毛髪の絡まりを解く方法として、コンディショナーやトリートメント等の毛髪化粧料を用いる場合は、これら毛髪化粧料を毛髪に塗布し絡まり部位に指を通しながら馴染ませることによって、毛髪表面に潤滑成分を行き渡らせながら毛髪の絡まりを解いている。従来の技術では、毛髪の指通りや櫛通りをよくする目的で、コンディショナーやトリートメント等の毛髪化粧料にカチオン性界面活性剤、カチオン性ポリマー、高級アルコール、シリコーン等が配合されている。
例えば特許文献1には、第四級アンモニウム基を含み、シロキサン部分で分岐した特定構造のポリシロキサンが、毛髪の櫛通り、柔軟性、もつれた髪をほぐす特性、光沢性等を与える有効成分となることが記載され、シャンプー、ヘアリンス、コンディショナー等に配合した処方例が開示されている。
特許文献2には、油相として、少なくとも1つの第四級アンモニウム基を含有する特定構造のポリシロキサンを含むマイクロエマルションをシャンプー及びヘアリンスに使用すると、湿潤時及び乾燥時の櫛梳き性、感触、光沢性の評価が良好であることが開示されている。
特許文献2には、油相として、少なくとも1つの第四級アンモニウム基を含有する特定構造のポリシロキサンを含むマイクロエマルションをシャンプー及びヘアリンスに使用すると、湿潤時及び乾燥時の櫛梳き性、感触、光沢性の評価が良好であることが開示されている。
特許文献1及び2の実施例にはリンスオフコンディショナー等の処方例が開示されているが、いずれもカチオン性界面活性剤、カチオン性ポリマー、高級アルコール等が配合されている。また、特許文献1及び2には、毛髪の絡まりを抑制及び解消すること、特に、手を通すなどの操作を行うことなく自発的に毛髪の絡まりを解くことについては開示されていない。
本発明は、絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる、毛髪又は繊維の絡まり防止方法に関する。
本発明は、絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる、毛髪又は繊維の絡まり防止方法に関する。
本発明者は、毛髪又は繊維を、所定の第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び水性媒体を含有する処理剤に接触させる工程を行うことにより、前記課題を解決できることを見出した。
すなわち本発明は、毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法に関する。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体
すなわち本発明は、毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法に関する。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体
本発明の方法によれば、絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる。例えば本発明の方法を毛髪に適用すると、洗浄及びタオルドライ後の毛髪の絡まりを防止することができるので毛髪を短時間で乾燥させることができ、乾燥後の仕上がりも良好になる。
[毛髪又は繊維の絡まり防止方法]
本発明の毛髪又は繊維の絡まり防止方法(以下、単に「本発明の方法」ともいう)は、毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有することを特徴とする。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体
本発明の方法は上記工程を有することにより、絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる。なお、「成分(A)及び成分(B)を含有する」とは、「成分(A)及び成分(B)を配合してなる」ことをも意味する。
本発明の毛髪又は繊維の絡まり防止方法(以下、単に「本発明の方法」ともいう)は、毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有することを特徴とする。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体
本発明の方法は上記工程を有することにより、絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる。なお、「成分(A)及び成分(B)を含有する」とは、「成分(A)及び成分(B)を配合してなる」ことをも意味する。
本発明の方法により上記効果を奏する理由については定かではないが、以下のように推察される。
毛髪や繊維の絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも自発的に解けるような状態にするには、毛髪又は繊維間に働く摩擦力を低下させることが重要であると考えられる。本発明者は、毛髪又は繊維間に働く摩擦力を低下させ、さらに毛髪等の絡まりが自発的に解けるような状態にするために、親水性の高い所定の第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン(成分(A))を所定量含有する処理剤を用いることが有効であることを見出した。疎水性の高いシリコーンとは異なり、親水性が高い成分(A)は、洗浄時に毛髪又は繊維が絡んだ部位にも容易に侵入することができるため、毛髪又は繊維に有効に作用して、毛髪等の絡まりが自発的に解けるようにする効果が高いと考えられる。
毛髪や繊維の絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも自発的に解けるような状態にするには、毛髪又は繊維間に働く摩擦力を低下させることが重要であると考えられる。本発明者は、毛髪又は繊維間に働く摩擦力を低下させ、さらに毛髪等の絡まりが自発的に解けるような状態にするために、親水性の高い所定の第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン(成分(A))を所定量含有する処理剤を用いることが有効であることを見出した。疎水性の高いシリコーンとは異なり、親水性が高い成分(A)は、洗浄時に毛髪又は繊維が絡んだ部位にも容易に侵入することができるため、毛髪又は繊維に有効に作用して、毛髪等の絡まりが自発的に解けるようにする効果が高いと考えられる。
例えば本発明の方法を毛髪に適用し、毛髪の絡まりが解けた状態でタオルドライを行うことで、毛髪とタオルとの接触面積が増大して毛髪の水分がタオルに速く吸収される。またドライヤー乾燥時や自然乾燥時には毛髪と空気との接触面積が増大して毛髪中の水分が速く蒸散するため、毛髪の乾燥速度が向上すると考えられる。
発明の効果を有効に得る観点から、本発明の方法を適用する対象物は毛髪であることが好ましい。すなわち本発明の方法に用いる処理剤は、好ましくは毛髪処理剤である。
処理剤の剤型には特に制限はなく、毛髪又は繊維を処理剤に接触させる方法に応じて、例えば液体状、泡状、ペースト状、クリーム状、固形状、粉末状等、任意の剤型とすることが可能である。毛髪又は繊維を処理剤に浸漬することにより接触させる場合は、液体状であることが好ましい。
以下、本発明に用いる処理剤に含有される各成分について説明する。
処理剤の剤型には特に制限はなく、毛髪又は繊維を処理剤に接触させる方法に応じて、例えば液体状、泡状、ペースト状、クリーム状、固形状、粉末状等、任意の剤型とすることが可能である。毛髪又は繊維を処理剤に浸漬することにより接触させる場合は、液体状であることが好ましい。
以下、本発明に用いる処理剤に含有される各成分について説明する。
<成分(A):第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン>
本発明に用いる処理剤は、成分(A)として、下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上を含有する。
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
処理剤が成分(A)を含有することで、前述した作用機構により毛髪又は繊維の絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる。
本発明に用いる処理剤は、成分(A)として、下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上を含有する。
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
処理剤が成分(A)を含有することで、前述した作用機構により毛髪又は繊維の絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる。
一般式(1−1)及び(1−2)において、R11はそれぞれ独立に、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。
一般式(1−1)及び(1−2)において、R12は炭素数1以上20以下の炭化水素基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
一般式(1−1)及び(1−2)において、R12は炭素数1以上20以下の炭化水素基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
一般式(1−1)及び(1−2)において、R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基が好ましく、炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基がより好ましく、−R15−NHCO−R16が更に好ましい。
ここで、R15は炭素数1以上18以下のアルキレン基又はオキシアルキレン基であり、好ましくは炭素数1以上18以下のアルキレン基、より好ましくは炭素数2以上6以下のアルキレン基である。R16は炭素数1以上18以下のアルキル基であり、好ましくは炭素数8以上18以下のアルキル基である。
ここで、R15は炭素数1以上18以下のアルキレン基又はオキシアルキレン基であり、好ましくは炭素数1以上18以下のアルキレン基、より好ましくは炭素数2以上6以下のアルキレン基である。R16は炭素数1以上18以下のアルキル基であり、好ましくは炭素数8以上18以下のアルキル基である。
一般式(1−1)及び(1−2)において、Lは好ましくは*1−R13−CH2−CHOH−CH2−*2である。ここで、R13は、好ましくは炭素数1以上20以下のアルキレン基、又は炭素数1以上20以下のオキシアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1以上20以下のオキシアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2以上6以下のオキシアルキレン基である。*1はケイ素原子との結合部位を示し、*2は窒素原子との結合部位を示す。
一般式(1−2)において、R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基であり、フェニル基であることが好ましい。
一般式(1−1)において、r1は好ましくは2以上200以下の数、より好ましくは2以上100以下の数、更に好ましくは10以上100以下の数、より更に好ましくは20以上100以下の数である。
一般式(1−2)において、r2は好ましくは2以上200以下の数、より好ましくは2以上100以下の数である。
一般式(1−2)において、r2は好ましくは2以上200以下の数、より好ましくは2以上100以下の数である。
一般式(1−1)及び(1−2)において、Q−は塩化物イオン、臭化物イオン等のハロゲン化物イオン;炭素数1以上3以下のアルキル硫酸イオン、酢酸イオン、乳酸イオン、安息香酸イオン、アジピン酸イオン、ギ酸イオン、リンゴ酸イオン、クエン酸イオン、グリコール酸イオン等の有機酸イオン;等のアニオンを示す。これらの中でも有機酸イオンが好ましく、酢酸イオン又は乳酸イオンであることがより好ましい。
一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンの中でも、より好ましくは下記一般式(1−3)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンであり、一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンの中でも、より好ましくは、下記一般式(1−4)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンである。
〔式(1−3)中、r1は前記と同じである。R16は炭素数8以上18以下のアルキル基である。〕
〔式(1−4)中、r2は前記と同じである。R16は炭素数8以上18以下のアルキル基である。〕
〔式(1−3)中、r1は前記と同じである。R16は炭素数8以上18以下のアルキル基である。〕
〔式(1−4)中、r2は前記と同じである。R16は炭素数8以上18以下のアルキル基である。〕
一般式(1−3)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンとして、クオタニウム−80が挙げられる。その具体例としては、Evonik社製の「ABIL QUAT 3272」(r1=30)、「ABIL QUAT 3474」(r1=80)等が挙げられる。
一般式(1−4)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンとして、シリコーンクオタニウム−22が挙げられる。その具体例としては、Evonik社製の「ABIL TQUAT60」、「ABIL ME 45」等が挙げられる。
一般式(1−4)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンとして、シリコーンクオタニウム−22が挙げられる。その具体例としては、Evonik社製の「ABIL TQUAT60」、「ABIL ME 45」等が挙げられる。
処理剤中の成分(A)の含有量は、毛髪又は繊維の絡まり防止効果、処理後の毛髪又は繊維の速乾性の観点から、0.005質量%以上であり、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.02質量%以上、更に好ましくは0.03質量%以上、より更に好ましくは0.05質量%以上であり、同様の観点から、5質量%以下、好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質量%以下、更に好ましくは1質量%以下、より更に好ましくは0.8質量%以下、より更に好ましくは0.5質量%以下、より更に好ましくは0.3質量%以下である。処理剤中の成分(A)の含有量の具体的範囲は、0.005〜5質量%であり、好ましくは0.005〜3質量%、より好ましくは0.01〜3質量%、更に好ましくは0.01〜2質量%、より更に好ましくは0.01〜1質量%、より更に好ましくは0.01〜0.8質量%、より更に好ましくは0.01〜0.5質量%、より更に好ましくは0.01〜0.3質量%、より更に好ましくは0.02〜0.3質量%、より更に好ましくは0.03〜0.3質量%、より更に好ましくは0.05〜0.3質量%である。
<成分(B):水性媒体>
本発明に用いる処理剤は、成分(B)として水性媒体を含有する。水性媒体は、成分(A)を分散又は溶解しうるもので、毛髪又は繊維にダメージを与えないものであれば特に制限はない。成分(B)は水が主成分であることが好ましく、水以外の水性媒体を含有していてもよい。水以外の水性媒体としては、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール;1,3−ブチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等の炭素数6以下の低分子ジオール及びトリオールが挙げられる。
水性媒体中の水の含有量は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、上限は100質量%である。
処理剤中の水性媒体の含有量は、好ましくは85質量%以上、より好ましくは90質量%以上、更に好ましくは95質量%以上、より更に好ましくは97質量%以上、より更に好ましくは98質量%以上、より更に好ましくは99質量%以上であり、99.995質量%以下、好ましくは99.99質量%以下、より好ましくは99.95質量%以下である。
本発明に用いる処理剤は、成分(B)として水性媒体を含有する。水性媒体は、成分(A)を分散又は溶解しうるもので、毛髪又は繊維にダメージを与えないものであれば特に制限はない。成分(B)は水が主成分であることが好ましく、水以外の水性媒体を含有していてもよい。水以外の水性媒体としては、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール;1,3−ブチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等の炭素数6以下の低分子ジオール及びトリオールが挙げられる。
水性媒体中の水の含有量は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、上限は100質量%である。
処理剤中の水性媒体の含有量は、好ましくは85質量%以上、より好ましくは90質量%以上、更に好ましくは95質量%以上、より更に好ましくは97質量%以上、より更に好ましくは98質量%以上、より更に好ましくは99質量%以上であり、99.995質量%以下、好ましくは99.99質量%以下、より好ましくは99.95質量%以下である。
また、毛髪又は繊維に処理剤を接触させて本発明の効果を有効に発揮させる観点から、処理剤中の成分(A)及び成分(B)の合計含有量は、好ましくは90質量%以上、より好ましくは95質量%以上、更に好ましくは98質量%以上、より更に好ましくは99質量%以上である。また、上限は100質量%である。
<その他の成分>
処理剤は、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を適宜含有又は配合してもよい。当該成分としては、例えば、毛髪化粧料に通常配合される成分である、界面活性剤、pH調整剤、酸化防止剤、油剤、抗フケ剤、ビタミン剤、殺菌剤、抗炎症剤、防腐剤、キレート剤、保湿剤、パール剤、セラミド類、香料、紫外線吸収剤等が挙げられる。但しこれら成分の合計含有量は、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、更に好ましくは2質量%以下、より更に好ましくは1質量%以下である。また、下限は0質量%である。
処理剤は、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を適宜含有又は配合してもよい。当該成分としては、例えば、毛髪化粧料に通常配合される成分である、界面活性剤、pH調整剤、酸化防止剤、油剤、抗フケ剤、ビタミン剤、殺菌剤、抗炎症剤、防腐剤、キレート剤、保湿剤、パール剤、セラミド類、香料、紫外線吸収剤等が挙げられる。但しこれら成分の合計含有量は、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、更に好ましくは2質量%以下、より更に好ましくは1質量%以下である。また、下限は0質量%である。
中でも、成分(A)を毛髪又は繊維に有効に作用させて、成分(A)に基づく毛髪又は繊維の絡まり防止効果、並びに処理後の毛髪又は繊維の速乾性向上効果を得る観点から、本発明に用いる処理剤は、毛髪の指通りや櫛通りをよくする目的でコンディショナーやトリートメント等の毛髪化粧料に通常使用される成分、例えば、カチオン性界面活性剤、カチオン性ポリマー、高級アルコール、及び成分(A)以外のシリコーンの含有量が少ない方が好ましい。具体的には、処理剤中のカチオン性界面活性剤、カチオン性ポリマー、高級アルコール、及び成分(A)以外のシリコーンの合計含有量は、好ましくは5質量%以下、更に好ましくは2質量%以下、より更に好ましくは1質量%以下、より更に好ましくは0.5質量%以下、より更に好ましくは0.1質量%以下、より更に好ましくは0.05質量%以下である。また、下限は0質量%である。
なお、高級アルコールとは、炭素数8以上の脂肪族1価アルコールを意味し、例えば、2−エチルヘキシルアルコール、オクチルアルコール、デシルアルコール、イソデシルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、2−オクチルドデカノール、イコシルアルコール、ベヘニルアルコール等が挙げられる。
また成分(A)以外のシリコーンとしては、アミノ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノポリエーテル変性シリコーン、ジメチルポリシロキサン(ジメチコン)、メチルフェニルポリシロキサン、脂肪酸変性シリコーン、アルコキシ変性シリコーン、アルキル変性シリコーン等が挙げられる。
また成分(A)以外のシリコーンとしては、アミノ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノポリエーテル変性シリコーン、ジメチルポリシロキサン(ジメチコン)、メチルフェニルポリシロキサン、脂肪酸変性シリコーン、アルコキシ変性シリコーン、アルキル変性シリコーン等が挙げられる。
<pH>
処理剤のpHは、毛髪又は繊維へのダメージを防止する観点から、好ましくは3.0以上、より好ましくは3.2以上、更に好ましくは3.5以上であり、好ましくは7.0以下、より好ましくは6.5以下、更に好ましくは6.0以下、より更に好ましくは5.5以下である。
上記pHは25℃における測定値であり、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
処理剤のpHは、毛髪又は繊維へのダメージを防止する観点から、好ましくは3.0以上、より好ましくは3.2以上、更に好ましくは3.5以上であり、好ましくは7.0以下、より好ましくは6.5以下、更に好ましくは6.0以下、より更に好ましくは5.5以下である。
上記pHは25℃における測定値であり、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
処理剤の製造方法は特に限定されない。例えば、成分(A)、(B)、及び必要に応じて用いられるその他の成分を実施例に記載の方法で配合し、公知の攪拌装置等を用いて混合することにより製造できる。
<処理方法>
本発明の方法は、毛髪又は繊維を前記処理剤に接触させる工程を有する。この工程を行うことにより、毛髪又は繊維の絡まり防止効果を発現し、処理後の毛髪又は繊維の速乾性、乾燥後の仕上がり向上効果も得ることができる。
本発明の方法においては、毛髪又は繊維の少なくとも一部を前記処理剤に接触させればよい。例えば毛髪を処理剤に接触させる場合は、頭髪の少なくとも一部を処理剤に接触させればよい。
毛髪又は繊維を処理剤に接触させる方法としては、例えば、毛髪又は繊維に処理剤を塗布、噴霧又は流延する方法、毛髪又は繊維を処理剤に浸漬させる方法等が挙げられる。
例えば毛髪の絡まりを解く場合には、毛髪に前記処理剤を塗布、噴霧又は流延し、必要に応じて放置する方法、又は、毛髪を前記処理剤に浸漬させ、次いで処理剤から引き上げる操作を行う方法等が挙げられる。これらの操作を行うことにより毛髪が処理され、処理後の毛髪は、手を通すなどの操作を行わなくても絡まりを解くことができるという効果を奏する。
処理剤に接触させる際の毛髪又は繊維は乾燥状態でも湿潤状態でもよいが、短時間で処理を行う観点からは、湿潤状態であることが好ましい。
本発明の方法は、毛髪又は繊維を前記処理剤に接触させる工程を有する。この工程を行うことにより、毛髪又は繊維の絡まり防止効果を発現し、処理後の毛髪又は繊維の速乾性、乾燥後の仕上がり向上効果も得ることができる。
本発明の方法においては、毛髪又は繊維の少なくとも一部を前記処理剤に接触させればよい。例えば毛髪を処理剤に接触させる場合は、頭髪の少なくとも一部を処理剤に接触させればよい。
毛髪又は繊維を処理剤に接触させる方法としては、例えば、毛髪又は繊維に処理剤を塗布、噴霧又は流延する方法、毛髪又は繊維を処理剤に浸漬させる方法等が挙げられる。
例えば毛髪の絡まりを解く場合には、毛髪に前記処理剤を塗布、噴霧又は流延し、必要に応じて放置する方法、又は、毛髪を前記処理剤に浸漬させ、次いで処理剤から引き上げる操作を行う方法等が挙げられる。これらの操作を行うことにより毛髪が処理され、処理後の毛髪は、手を通すなどの操作を行わなくても絡まりを解くことができるという効果を奏する。
処理剤に接触させる際の毛髪又は繊維は乾燥状態でも湿潤状態でもよいが、短時間で処理を行う観点からは、湿潤状態であることが好ましい。
毛髪又は繊維を処理剤に接触させる工程における温度、時間には特に制限はないが、効率よく処理を行う観点から、温度範囲は好ましくは5〜50℃、より好ましくは15〜45℃である。また、処理剤の接触時間は、好ましくは5秒〜60分間、より好ましくは5秒〜20分間である。処理剤の接触時間とは、毛髪又は繊維に処理剤を塗布、噴霧又は流延する時間、あるいは毛髪又は繊維を処理剤に浸漬させる時間を意味し、放置時間は含まないものとする。
本発明の方法は、毛髪又は繊維を前記処理剤に接触させる工程を有していればよく、該工程以外の任意の工程を行ってもよい。
例えば、毛髪又は繊維を洗浄した後に処理剤に接触させる工程を行ってもよい。毛髪又は繊維を洗浄する過程で絡まりが生じやすいため、毛髪又は繊維を洗浄した後に処理剤に接触させる工程を行うことで、絡まりを効果的に解くことができる。毛髪又は繊維の洗浄は、毛髪洗浄剤、繊維用洗浄剤を用いて公知の方法で行うことができる。
例えば、毛髪又は繊維を洗浄した後に処理剤に接触させる工程を行ってもよい。毛髪又は繊維を洗浄する過程で絡まりが生じやすいため、毛髪又は繊維を洗浄した後に処理剤に接触させる工程を行うことで、絡まりを効果的に解くことができる。毛髪又は繊維の洗浄は、毛髪洗浄剤、繊維用洗浄剤を用いて公知の方法で行うことができる。
また、毛髪又は繊維をコンディショニング剤により処理した後に、前記処理剤に接触させる工程を行うこともできる。毛髪又は繊維を洗浄した後に、さらにコンディショニング剤により処理し、次いで処理剤に接触させる工程を行ってもよい。
コンディショニング剤による処理は、毛髪又は繊維に対しコンディショニング剤を塗布する等の公知の方法により行うことができる。コンディショニング剤により処理した後に、必要に応じてさらにすすぎを行ってもよい。
コンディショニング剤による処理は、毛髪又は繊維に対しコンディショニング剤を塗布する等の公知の方法により行うことができる。コンディショニング剤により処理した後に、必要に応じてさらにすすぎを行ってもよい。
本発明の方法の具体例としては、下記が挙げられる。
(1)毛髪又は繊維を洗浄し、次いで処理剤に接触させる工程を行う方法
(2)毛髪又は繊維を洗浄した後、コンディショニング剤を塗布し、すすぎを行わずに処理剤に接触させる工程を行う方法
(3)毛髪又は繊維を洗浄した後、コンディショニング剤を塗布し、すすぎを行い、次いで処理剤に接触させる工程を行う方法
(4)毛髪又は繊維にコンディショニング剤を塗布し、すすぎを行わずに処理剤に接触させる工程を行う方法
(5)毛髪又は繊維にコンディショニング剤を塗布し、すすぎを行い、次いで処理剤に接触させる工程を行う方法
処理剤に接触させた後の毛髪又は繊維は、必要に応じすすぎを行ってもよい。
(1)毛髪又は繊維を洗浄し、次いで処理剤に接触させる工程を行う方法
(2)毛髪又は繊維を洗浄した後、コンディショニング剤を塗布し、すすぎを行わずに処理剤に接触させる工程を行う方法
(3)毛髪又は繊維を洗浄した後、コンディショニング剤を塗布し、すすぎを行い、次いで処理剤に接触させる工程を行う方法
(4)毛髪又は繊維にコンディショニング剤を塗布し、すすぎを行わずに処理剤に接触させる工程を行う方法
(5)毛髪又は繊維にコンディショニング剤を塗布し、すすぎを行い、次いで処理剤に接触させる工程を行う方法
処理剤に接触させた後の毛髪又は繊維は、必要に応じすすぎを行ってもよい。
上述の実施形態に関し、本発明は毛髪又は繊維の絡まり防止方法を開示する。
<1>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体
<2>
前記処理剤中の成分(A)の含有量が0.01〜1質量%である、<1>の方法。
<3>
前記処理剤中の成分(A)の含有量が0.05〜0.3質量%である、<2>の方法。
<4>
前記処理剤中の成分(B)の含有量が85〜99.99質量%である、<1>〜<3>のいずれか1の方法。
<5>
前記処理剤中の成分(B)の含有量が95〜99.95質量%である、<4>の方法。
<6>
前記処理剤の25℃におけるpHが3.0〜7.0である、<1>〜<5>のいずれか1の方法。
<7>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.01〜1質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 85〜99.99質量%
<8>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.05〜0.3質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 95〜99.95質量%
<9>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有し、前記処理剤の25℃におけるpHが3.0〜7.0である、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.01〜1質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 85〜99.99質量%
<10>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有し、前記処理剤の25℃におけるpHが3.0〜7.0である、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.05〜0.3質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 95〜99.95質量%
<11>
毛髪又は繊維に前記処理剤を塗布、噴霧又は流延するか、毛髪又は繊維を前記処理剤に浸漬することにより接触させる、<1>〜<10>のいずれか1の方法。
<12>
毛髪又は繊維を洗浄した後に前記処理剤に接触させる工程を行う、<1>〜<11>のいずれか1の方法。
<13>
毛髪又は繊維をコンディショニング剤により処理した後に前記処理剤に接触させる工程を行う、<1>〜<12>のいずれか1の方法。
<1>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体
<2>
前記処理剤中の成分(A)の含有量が0.01〜1質量%である、<1>の方法。
<3>
前記処理剤中の成分(A)の含有量が0.05〜0.3質量%である、<2>の方法。
<4>
前記処理剤中の成分(B)の含有量が85〜99.99質量%である、<1>〜<3>のいずれか1の方法。
<5>
前記処理剤中の成分(B)の含有量が95〜99.95質量%である、<4>の方法。
<6>
前記処理剤の25℃におけるpHが3.0〜7.0である、<1>〜<5>のいずれか1の方法。
<7>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.01〜1質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 85〜99.99質量%
<8>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.05〜0.3質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 95〜99.95質量%
<9>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有し、前記処理剤の25℃におけるpHが3.0〜7.0である、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.01〜1質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 85〜99.99質量%
<10>
毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有し、前記処理剤の25℃におけるpHが3.0〜7.0である、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.05〜0.3質量%
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 95〜99.95質量%
<11>
毛髪又は繊維に前記処理剤を塗布、噴霧又は流延するか、毛髪又は繊維を前記処理剤に浸漬することにより接触させる、<1>〜<10>のいずれか1の方法。
<12>
毛髪又は繊維を洗浄した後に前記処理剤に接触させる工程を行う、<1>〜<11>のいずれか1の方法。
<13>
毛髪又は繊維をコンディショニング剤により処理した後に前記処理剤に接触させる工程を行う、<1>〜<12>のいずれか1の方法。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は実施例の範囲に限定されない。なお本実施例において、各種測定及び評価は以下の方法により行った。
(pH測定)
pHメーター(F−51、(株)堀場製作所製)を用いて、25℃におけるpHを測定した。
pHメーター(F−51、(株)堀場製作所製)を用いて、25℃におけるpHを測定した。
(評価用毛束の作製)
質量20g、長さ20cmの中国人未処理毛の毛束に対し下記のブリーチ剤20gを塗布し、30分静置後、35〜40℃の温水で十分にすすいだ。この操作を4回繰り返し、各例の毛髪処理に使用する評価用毛束を作製した。
〔ブリーチ剤の組成〕
成分 (質 量%)
モノエタノールアミン 1.5
28質量%アンモニア水 4.0
重炭酸アンモニウム 1.0
35質量%過酸化水素水 8.2
精製水 残 量
計 100.0
質量20g、長さ20cmの中国人未処理毛の毛束に対し下記のブリーチ剤20gを塗布し、30分静置後、35〜40℃の温水で十分にすすいだ。この操作を4回繰り返し、各例の毛髪処理に使用する評価用毛束を作製した。
〔ブリーチ剤の組成〕
成分 (質 量%)
モノエタノールアミン 1.5
28質量%アンモニア水 4.0
重炭酸アンモニウム 1.0
35質量%過酸化水素水 8.2
精製水 残 量
計 100.0
(くし通し荷重測定)
各例で得られた処理後の毛束を35〜40℃の温水で十分にすすいだ後に、コーミングフォース測定装置(宇都宮精機(株)製「KOT−0303」)にセットし、毛束の最上部にくし(直径2mmのピンを4mm間隔に9本、直線状に並べたもの)を貫通させ、くしを毛先まで通した時に掛かる荷重(gf)を測定した。荷重は長さ20cmの毛束に対して200点算出され、計200点の合計値を「くし通し荷重」とした。
くし通し荷重が15000gfよりも小さければ毛髪の絡まりを解く効果が非常に高く、かつ、10000gf以下であれば絡まりは消失していることを意味する。
各例で得られた処理後の毛束を35〜40℃の温水で十分にすすいだ後に、コーミングフォース測定装置(宇都宮精機(株)製「KOT−0303」)にセットし、毛束の最上部にくし(直径2mmのピンを4mm間隔に9本、直線状に並べたもの)を貫通させ、くしを毛先まで通した時に掛かる荷重(gf)を測定した。荷重は長さ20cmの毛束に対して200点算出され、計200点の合計値を「くし通し荷重」とした。
くし通し荷重が15000gfよりも小さければ毛髪の絡まりを解く効果が非常に高く、かつ、10000gf以下であれば絡まりは消失していることを意味する。
(タオルドライ後のブラッシングのしやすさ)
各例で得られた処理後の毛束を35〜40℃の温水で十分にすすいだ後に、タオルに乗せ、両面を覆ってこすり合わせるようにタオルドライを行った。
上記毛束を、コーミングフォース測定装置(宇都宮精機(株)製「KOT−0303」)にセットし、2本のブラシを用いて左右から毛束の根元をはさみ込み、毛先へ向けて同時にブラシをストロークする動作を10回繰り返した。1ストローク中の最大荷重を測定し、400gf以下になるまでに必要なストローク数を評価した。表に示すストローク数が少ないほど、タオルドライ後にも毛髪の絡まりが少なく、ブラッシングしやすいことを意味する。なお、1回のストロークで最大荷重が400gf以下となった場合を「ストローク数0回」とする。
各例で得られた処理後の毛束を35〜40℃の温水で十分にすすいだ後に、タオルに乗せ、両面を覆ってこすり合わせるようにタオルドライを行った。
上記毛束を、コーミングフォース測定装置(宇都宮精機(株)製「KOT−0303」)にセットし、2本のブラシを用いて左右から毛束の根元をはさみ込み、毛先へ向けて同時にブラシをストロークする動作を10回繰り返した。1ストローク中の最大荷重を測定し、400gf以下になるまでに必要なストローク数を評価した。表に示すストローク数が少ないほど、タオルドライ後にも毛髪の絡まりが少なく、ブラッシングしやすいことを意味する。なお、1回のストロークで最大荷重が400gf以下となった場合を「ストローク数0回」とする。
(速乾性評価)
各例で得られた処理後の毛束を、35〜40℃の温水で30秒間すすいだ後、手ぐしをしながら毛束から5〜15cmの距離でドライヤー((株)キャン製「Sobis TYPE315」、風量設定:High)の熱風を当てて乾燥させ、濡れた毛髪が乾燥状態の重量に戻るまでの時間を測定した(測定回数は1回)。乾燥時間が短いほど速乾性が高いことを示す。
各例で得られた処理後の毛束を、35〜40℃の温水で30秒間すすいだ後、手ぐしをしながら毛束から5〜15cmの距離でドライヤー((株)キャン製「Sobis TYPE315」、風量設定:High)の熱風を当てて乾燥させ、濡れた毛髪が乾燥状態の重量に戻るまでの時間を測定した(測定回数は1回)。乾燥時間が短いほど速乾性が高いことを示す。
実施例1(処理剤の調製、毛髪処理及び評価)
表1に示す配合に従って各成分を混合し、処理剤500gを調製した。なお、表1に記載した配合量は各成分の有効成分量(質量%)である。
前記方法で作製した評価用毛束を下記のプレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束を、室温(25℃)で上記処理剤500gに30秒間浸漬させて処理した後に引き上げ、処理後の毛束について、前記方法で各種評価を行った。結果を表1に示す。
表1に示す配合に従って各成分を混合し、処理剤500gを調製した。なお、表1に記載した配合量は各成分の有効成分量(質量%)である。
前記方法で作製した評価用毛束を下記のプレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束を、室温(25℃)で上記処理剤500gに30秒間浸漬させて処理した後に引き上げ、処理後の毛束について、前記方法で各種評価を行った。結果を表1に示す。
〔プレーンシャンプーの組成〕
成分 (質 量%)
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸Na 11.3(*1)
ヤシ油脂肪酸N−メチルエタノールアミド(*2) 3.0
クエン酸 0.2
メチルパラベン 0.3
精製水 残 量
計 100.0
*1:エマールE−27C(花王(株)製、有効成分27質量%)として42.0質量%
*2:アミノーンC−11S(花王(株)製)
成分 (質 量%)
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸Na 11.3(*1)
ヤシ油脂肪酸N−メチルエタノールアミド(*2) 3.0
クエン酸 0.2
メチルパラベン 0.3
精製水 残 量
計 100.0
*1:エマールE−27C(花王(株)製、有効成分27質量%)として42.0質量%
*2:アミノーンC−11S(花王(株)製)
実施例2〜6、比較例1
処理剤の配合を表1に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様の方法で毛髪処理を行い、各種評価を行った。結果を表1に示す。
処理剤の配合を表1に示すとおりに変更したこと以外は、実施例1と同様の方法で毛髪処理を行い、各種評価を行った。結果を表1に示す。
実施例7
表1に示す配合に従って各成分を混合し、実施例2と同じ組成の処理剤500gを調製した。
作製した評価用毛束を前記プレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束に下記のプレーンコンディショナーを塗布し、35〜40℃の温水で30秒間すすいだ。得られた毛束を、室温(25℃)で上記処理剤500gに30秒間浸漬させて処理した後に引き上げ、処理後の毛束について、前記方法でくし通し荷重測定及び速乾性評価を行った。結果を表1に示す。
表1に示す配合に従って各成分を混合し、実施例2と同じ組成の処理剤500gを調製した。
作製した評価用毛束を前記プレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束に下記のプレーンコンディショナーを塗布し、35〜40℃の温水で30秒間すすいだ。得られた毛束を、室温(25℃)で上記処理剤500gに30秒間浸漬させて処理した後に引き上げ、処理後の毛束について、前記方法でくし通し荷重測定及び速乾性評価を行った。結果を表1に示す。
〔プレーンコンディショナーの組成〕
成分 (質 量%)
ベヘントリモニウムクロリド 1.9
ステアリルアルコール 2.6
セタノール 1.3
ジプロピレングリコール 2.0
精製水 残 量
計 100.0
成分 (質 量%)
ベヘントリモニウムクロリド 1.9
ステアリルアルコール 2.6
セタノール 1.3
ジプロピレングリコール 2.0
精製水 残 量
計 100.0
実施例8
表1に示す配合に従って各成分を混合し、実施例2と同じ組成の処理剤500gを調製した。
評価用毛束を前記プレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束に前記プレーンコンディショナーを塗布し、次いで、室温(25℃)で上記処理剤500gに30秒間浸漬させて処理した後に引き上げ、処理後の毛束について、前記方法でくし通し荷重測定及び速乾性評価を行った。結果を表1に示す。
表1に示す配合に従って各成分を混合し、実施例2と同じ組成の処理剤500gを調製した。
評価用毛束を前記プレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束に前記プレーンコンディショナーを塗布し、次いで、室温(25℃)で上記処理剤500gに30秒間浸漬させて処理した後に引き上げ、処理後の毛束について、前記方法でくし通し荷重測定及び速乾性評価を行った。結果を表1に示す。
比較例2
評価用毛束を前記プレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束に前記プレーンコンディショナーを塗布し、35〜40℃の温水で30秒間すすいだ。得られた毛束を用いて、前記方法でくし通し荷重測定及び速乾性評価を行った。結果を表1に示す。
評価用毛束を前記プレーンシャンプーで洗浄し、すすいだ後、35〜40℃の温水で十分に湿らせた。この毛束に前記プレーンコンディショナーを塗布し、35〜40℃の温水で30秒間すすいだ。得られた毛束を用いて、前記方法でくし通し荷重測定及び速乾性評価を行った。結果を表1に示す。
本発明の方法によれば、絡まりが生じやすい毛髪又は繊維において、絡まりの発生を抑制し、絡まりが生じた場合にも手を通すなどの操作を行うことなく自発的に絡まりを解くことができる。例えば本発明の方法を毛髪に適用すると、洗浄及びタオルドライ後の毛髪の絡まりを防止することができるので、毛髪を短時間で乾燥させることができ、乾燥後の仕上がりも良好になる。
Claims (5)
- 毛髪又は繊維を、次の成分(A)及び成分(B)を含有する処理剤に接触させる工程を有する、毛髪又は繊維の絡まり防止方法。
(A)下記一般式(1−1)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーン及び下記一般式(1−2)で表される第四級アンモニウムカチオン変性シリコーンからなる群から選ばれる1種以上 0.005質量%以上5質量%以下
〔式(1−1)中、R11は炭素数1以上6以下の炭化水素基を示す。R12は、水素原子、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。R14は、炭素数1以上20以下の炭化水素基、又は炭素数1以上20以下のアミド結合を含む炭化水素基を示す。Lは2価の有機基を示す。Q−は第四級アンモニウムイオンの対イオンである。r1は2以上の数を示す。括弧内の構造単位同士の結合順序は問わず、結合形態はブロック状でもランダム状でもよい。また、複数個のR11及びR12は同一でも異なっていてもよい。〕
〔式(1−2)中、R11、R12、R14、L、及びQ−は前記と同じである。R17は、炭素数1以上6以下のアルキル基、又はフェニル基を示す。r2は2以上の数を示す。〕
(B)水性媒体 - 前記処理剤中の前記成分(A)及び成分(B)の合計含有量が90質量%以上である、請求項1に記載の方法。
- 前記毛髪又は繊維に前記処理剤を塗布、噴霧又は流延するか、前記毛髪又は繊維を前記処理剤に浸漬することにより接触させる、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記毛髪又は繊維を洗浄した後に前記処理剤に接触させる工程を行う、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記毛髪又は繊維をコンディショニング剤により処理した後に前記処理剤に接触させる工程を行う、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
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Citations (4)
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JPH072629A (ja) * | 1993-03-30 | 1995-01-06 | Helene Curtis Inc | 透明なコンディショニング組成物 |
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JP2014528967A (ja) * | 2011-06-30 | 2014-10-30 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | アンモニウム基を含有する第四級ポリシロキサンのマイクロエマルション、その製造および使用 |
-
2019
- 2019-09-30 JP JP2019180415A patent/JP2021054761A/ja active Pending
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