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  1. パターンデータに従って基板を独立して露光するように構成されている1つまたは複数のリソグラフィ要素(10)を備えるクラスタ化リソグラフィシステムであって、
    各リソグラフィ要素、複数のリソグラフィサブシステム(16)を備え、
    前記クラスタ化リソグラフィシステムは、
    前記複数のリソグラフィサブシステムと少なくとも1つの要素制御ユニット(12)との間における制御情報の通信のための制御ネットワーク(120)と、ここで、前記要素制御ユニットは、前記複数のリソグラフィサブシステムに複数のコマンドを送信するように構成され、前記複数のリソグラフィサブシステムは、前記要素制御ユニットに複数の応答を送信するように構成されている、
    オペレータコンソールまたはホストシステム(2、4)とのインターフェースのためのクラスタフロントエンド(6)であって、1つまたは複数のウエハの露光のために前記1つまたは複数のリソグラフィサブシステムの動作を制御する制御情報を、前記少なくとも1つの要素制御ユニットに発行するように構成されている、クラスタフロントエンド(6)と、
    をさらに備え、
    前記クラスタフロントエンドは、前記要素制御ユニットにプロセスプログラムを発行するように構成され、
    前記プロセスプログラムは、あらかじめ規定された複数のコマンドからなるセットおよび関連する複数のパラメータを備え、
    各コマンドは、前記複数のリソグラフィサブシステムのうちの1つまたは複数によって実施されるべき、あらかじめ規定された1つのアクションまたは一連のアクションに対応し、
    前記複数のパラメータは、前記1つのアクションまたは一連のアクションがどのように実施されるべきかをさらに定義し、
    前記要素制御ユニットは、リソグラフィサブシステムに送信された先行するコマンドの実行状況にかかわらず、前記プロセスプログラムのコマンドをリソグラフィサブシステムに送信するように構成されている、クラスタ化リソグラフィシステム。
  2. 前記要素制御ユニットが、前記複数のリソグラフィサブシステムによって実行するための対応するプロセスジョブを生成するように前記プロセスプログラムをスケジューリングするように構成され、
    前記プロセスジョブが、前記プロセスプログラムの前記複数のコマンドからなるセットと、前記複数のコマンドの各々についてのスケジュールされた実行時間とを備える、請求項に記載のシステム。
  3. 前記要素制御ユニットが、前記プロセスプログラムの前記複数のコマンドからなるセットと、前記複数のコマンドの各々について、前記コマンドを実行するようにスケジュールされたリソグラフィサブシステムの識別情報とを備える前記プロセスジョブを生成するように構成される、請求項に記載のシステム。
  4. 前記要素制御ユニットが、前記プロセスジョブの前記複数のコマンドの各々を、前記複数のコマンドの各々に対して前記スケジュールされた実行時間に、識別されたリソグラフィサブシステムに送信することによって前記プロセスジョブを実行するように構成される、請求項に記載のシステム。
  5. 前記要素制御ユニットが、前記プロセスジョブの前記複数のコマンドの各々を、前記プロセスジョブの先行コマンドの実行状況にかかわらず、前記複数のコマンドの各々に対して前記スケジュールされた実行時間に、識別されたリソグラフィサブシステムに送信するように構成される、請求項に記載のシステム。
  6. 前記プロセスプログラムが、対応するコマンドについての所定の期間を定義し、
    前記要素制御ユニットが、前記複数のリソグラフィサブシステムによって実行するためのプロセスジョブを生成するように前記プロセスプログラムをスケジューリングするように構成され、
    前記プロセスジョブが、各コマンドについてのスケジュールされた実行時間を備え、
    前記所定の期間が、前記プロセスジョブ中の前記対応するコマンドについての前記スケジュールされた時間を決定するために使われる、請求項に記載のシステム。
  7. 前記プロセスプログラムが、対応する第1のコマンドについての第1の所定の期間を定義し、
    前記要素制御ユニットが、前記期間の時間切れまで、前記第1のコマンドの実行状況にかかわらず、前記第1のコマンドに続く次のコマンドの開始を遅らせるように構成される、請求項に記載のシステム。
  8. 前記要素制御ユニットが、1つのアクションまたは複数のアクションについての前記1つまたは複数のパラメータを、前記制御ネットワークを介して前記サブシステムに送り、その後、前記1つのアクションまたは複数のアクションに対応する前記コマンドを前記サブシステムに送ることによって、前記複数のリソグラフィサブシステムのうちの1つによって前記1つのアクションまたは一連のアクションを開始するように構成される、請求項に記載のシステム。
  9. 前記要素制御ユニットが、前記コマンドを実行するためのスケジュールされた時間より一定期間だけ前に、前記サブシステムに前記1つまたは複数のパラメータを送るように構成され、
    前記期間は、前記コマンドが前記サブシステムに送られる前に前記サブシステムが前記1つまたは複数のパラメータを受信したことを保証するのに十分である、請求項8に記載のシステム。
  10. 前記要素制御ユニットによって発行されたコマンドに対応する1つのアクションまたは一連のアクションが完了すると、前記1つのアクションまたは一連のアクションを完了した前記リソグラフィサブシステムが、前記要素制御ユニットに前記完了を通知するように構成され、前記要素制御ユニットから命令を受信すると、前記1つのアクションまたは一連のアクションの実行に関するデータを発行するように構成される、請求項に記載のシステム。
  11. 前記プロセスプログラムが条件ステップを含まない、請求項1に記載のシステム。
  12. 前記プロセスプログラムが、複数の代替コマンドとしてプログラムされた複数の条件ステップを含み、
    前記要素制御ユニットが、前記複数のリソグラフィサブシステムによる実行のためにプロセスジョブを生成するように、前記プロセスプログラムをスケジューリングするように構成され、
    前記プロセスジョブが、各コマンドについてのスケジュールされた実行時間を備え、
    前記複数の代替コマンドが、前記プロセスジョブ内で並行してスケジュールされ、
    前記プロセスジョブの前記実行時間が全体として、どの代替コマンドが実行のために選択されるかによって変わらないように、各代替コマンドには、同じ実行時間が割り当てられる、請求項に記載のシステム。
  13. ソフトウェアをアップデートまたはアップグレードするための、リソグラフィサブシステム内の前記ソフトウェアの修正が、前記要素制御ユニット内でプロセスジョブを実行することによって実施される、請求項1に記載のシステム。
  14. 前記制御ネットワークが、リアルタイムの通信プロトコルを使わずに準リアルタイム性能を提供する、請求項1に記載のシステム。
  15. 前記要素制御ユニットおよび前記複数のリソグラフィサブシステムが、前記制御ネットワーク上で複数のメッセージシーケンスを送信するように構成され、
    メッセージシーケンスの第1のメッセージが2つの要素を備え、
    第1の要素が、メッセージタイプをもつストリングを含み、
    第2の要素が、前記メッセージについての複数の名前付き引数をもつ辞書を含む、請求項に記載のシステム。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2579533C2 (ru) * 2010-12-14 2016-04-10 МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б. В. Литографическая система и способ обработки подложек в такой литографической системе
US8893059B2 (en) 2012-02-06 2014-11-18 Kla-Tencor Corporation Pattern data system for high-performance maskless electron beam lithography
JP2014204012A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 キヤノン株式会社 描画装置、及び物品の製造方法
CN103389625A (zh) * 2013-07-11 2013-11-13 浙江大学 一种应用于浸没式光刻机中浸液液体传送系统的通讯方法
JP6312379B2 (ja) * 2013-07-19 2018-04-18 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、リソグラフィシステム、プログラム、物品の製造方法
JP2015204401A (ja) * 2014-04-15 2015-11-16 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP6198805B2 (ja) * 2015-02-16 2017-09-20 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、プログラム、リソグラフィシステムおよび物品製造方法
US9927725B2 (en) 2015-02-16 2018-03-27 Canon Kabushiki Kaisha Lithography apparatus, lithography method, program, lithography system, and article manufacturing method
CN109478024B (zh) * 2016-07-19 2021-03-26 Asml荷兰有限公司 用于直接写入无掩模光刻的设备
US10714427B2 (en) 2016-09-08 2020-07-14 Asml Netherlands B.V. Secure chips with serial numbers
NL2019502B1 (en) * 2016-09-08 2018-08-31 Mapper Lithography Ip Bv Method and system for fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system
US20180068047A1 (en) * 2016-09-08 2018-03-08 Mapper Lithography Ip B.V. Method and system for fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system
US10079206B2 (en) 2016-10-27 2018-09-18 Mapper Lithography Ip B.V. Fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system
CN106647181B (zh) * 2016-12-19 2018-03-09 电子科技大学 一种用于dmd无掩膜光刻机的高速图像曝光方法
EP3514640B1 (de) 2018-01-18 2023-05-17 Gebr. Saacke GmbH & Co.KG Vorrichtung und verfahren zur bereitstellung von maschinendaten
CN115297183B (zh) * 2022-07-29 2023-11-03 天翼云科技有限公司 一种数据处理方法、装置、电子设备和存储介质

Family Cites Families (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3157308A (en) 1961-09-05 1964-11-17 Clark Mfg Co J L Canister type container and method of making the same
US3159408A (en) 1961-10-05 1964-12-01 Grace W R & Co Chuck
US4524308A (en) 1984-06-01 1985-06-18 Sony Corporation Circuits for accomplishing electron beam convergence in color cathode ray tubes
JP3336436B2 (ja) 1991-04-02 2002-10-21 株式会社ニコン リソグラフィシステム、情報収集装置、露光装置、及び半導体デバイス製造方法
AU6449994A (en) 1993-04-30 1994-11-21 Board Of Regents, The University Of Texas System Megavoltage scanning imager and method for its use
TW276353B (ja) 1993-07-15 1996-05-21 Hitachi Seisakusyo Kk
EP0766405A1 (en) 1995-09-29 1997-04-02 STMicroelectronics S.r.l. Successive approximation register without redundancy
US5778386A (en) 1996-05-28 1998-07-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Global view storage management system for semiconductor manufacturing plants
JP3087696B2 (ja) * 1997-07-25 2000-09-11 日本電気株式会社 分散メモリ型マルチプロセッサ・システム制御方法およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体
KR19990062942A (ko) * 1997-12-10 1999-07-26 히로시 오우라 전하 입자 빔 노출 장치
US6011952A (en) * 1998-01-20 2000-01-04 Viasat, Inc. Self-interference cancellation for relayed communication networks
US6610150B1 (en) * 1999-04-02 2003-08-26 Asml Us, Inc. Semiconductor wafer processing system with vertically-stacked process chambers and single-axis dual-wafer transfer system
AU2001238036A1 (en) * 2000-02-16 2001-08-27 Cymer, Inc. Process monitoring system for lithography lasers
US6714830B2 (en) * 2000-02-28 2004-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Push-type scheduling for semiconductor fabrication
US6689519B2 (en) 2000-05-04 2004-02-10 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for lithography process control
US7149792B1 (en) * 2000-11-20 2006-12-12 Axeda Corporation Device registration mechanism
JP2002252161A (ja) 2001-02-23 2002-09-06 Hitachi Ltd 半導体製造システム
JP4713773B2 (ja) * 2001-07-09 2011-06-29 株式会社アドバンテスト 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法
US7280883B2 (en) * 2001-09-06 2007-10-09 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing system managing apparatus information of substrate processing apparatus
JP2003288496A (ja) 2002-03-27 2003-10-10 Toshiba Corp 描画支援システム、描画支援方法、マスク製造支援システム、及びマスク製造支援方法
JP4078150B2 (ja) 2002-08-22 2008-04-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 半導体製造装置
KR100523839B1 (ko) * 2002-10-07 2005-10-27 한국전자통신연구원 건식 리소그라피 방법 및 이를 이용한 게이트 패턴 형성방법
US6958804B2 (en) 2002-10-25 2005-10-25 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system
CN101414129B (zh) 2002-10-30 2012-11-28 迈普尔平版印刷Ip有限公司 电子束曝光系统
CN1759465B (zh) 2003-03-10 2010-06-16 迈普尔平版印刷Ip有限公司 用于产生多个小波束的装置
DE602004005704T2 (de) 2003-05-28 2007-12-27 Mapper Lithography Ip B.V. Belichtungssystem unter Verwendung von Beamlets geladener Teilchen
CN1829945B (zh) 2003-07-30 2010-05-05 迈普尔平版印刷Ip有限公司 调制器电路
US7094613B2 (en) * 2003-10-21 2006-08-22 Applied Materials, Inc. Method for controlling accuracy and repeatability of an etch process
JP2005174959A (ja) * 2003-12-05 2005-06-30 Nikon Corp リソグラフィシステム、プログラム及び情報記録媒体、支援装置、並びに露光方法
US7728880B2 (en) * 2004-06-25 2010-06-01 Qualcomm Incorporated Automatic white balance method and apparatus
JP2006113705A (ja) * 2004-10-13 2006-04-27 Nikon Corp 情報処理システム及びプログラム
DE102004055149B4 (de) * 2004-11-16 2007-07-19 Leica Microsystems Lithography Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Abbilden eines Mehrfach-Partikelstrahls auf ein Substrat
CN100361113C (zh) * 2005-02-05 2008-01-09 上海微电子装备有限公司 步进扫描投影光刻机的高速同步广播总线系统
JP2006338232A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Murata Mach Ltd 通信システム
US20070010905A1 (en) * 2005-07-07 2007-01-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Systems and methods for monitoring processing tool
US7709815B2 (en) 2005-09-16 2010-05-04 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system and projection method
US8055727B2 (en) * 2005-09-22 2011-11-08 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Use of a really simple syndication communication format in a process control system
US8090875B2 (en) * 2005-10-28 2012-01-03 Nikon Corporation Device and method for connecting device manufacturing processing apparatuses, program, device manufacturing processing system, exposure apparatus and method, and measurement and inspection apparatus and method
JP5061904B2 (ja) * 2005-10-28 2012-10-31 株式会社ニコン デバイス製造処理装置間の接続装置及び接続方法、プログラム、デバイス製造処理システム、露光装置及び露光方法、並びに測定検査装置及び測定検査方法
US7652749B2 (en) * 2006-02-14 2010-01-26 Asml Netherlands B.V. Software upgrades in a lithographic apparatus
TW200745771A (en) * 2006-02-17 2007-12-16 Nikon Corp Adjustment method, substrate processing method, substrate processing apparatus, exposure apparatus, inspection apparatus, measurement and/or inspection system, processing apparatus, computer system, program and information recording medium
US8134681B2 (en) * 2006-02-17 2012-03-13 Nikon Corporation Adjustment method, substrate processing method, substrate processing apparatus, exposure apparatus, inspection apparatus, measurement and/or inspection system, processing apparatus, computer system, program and information recording medium
JP4682107B2 (ja) * 2006-08-28 2011-05-11 株式会社リコー 画像形成装置、情報処理方法及び情報処理プログラム
US7801635B2 (en) * 2007-01-30 2010-09-21 Tokyo Electron Limited Real-time parameter tuning for etch processes
US8636458B2 (en) 2007-06-06 2014-01-28 Asml Netherlands B.V. Integrated post-exposure bake track
JP4992750B2 (ja) * 2008-02-14 2012-08-08 日本電気株式会社 中継装置
TWI377593B (en) 2008-02-26 2012-11-21 Mapper Lithography Ip Bv A charged particle multi-beamlet system for exposing a target using a plurality of beamlets
US8445869B2 (en) 2008-04-15 2013-05-21 Mapper Lithography Ip B.V. Projection lens arrangement
WO2009106397A1 (en) 2008-02-26 2009-09-03 Mapper Lithography Ip B.V. Projection lens arrangement
US8258484B2 (en) 2008-04-15 2012-09-04 Mapper Lithography Ip B.V. Beamlet blanker arrangement
JP5587299B2 (ja) 2008-05-23 2014-09-10 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 結像システム
KR101647768B1 (ko) 2008-06-04 2016-08-11 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. 타겟을 노출하는 방법 및 시스템
JP2010067759A (ja) * 2008-09-10 2010-03-25 Canon Inc 露光装置
JP5420670B2 (ja) 2008-10-01 2014-02-19 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 静電レンズ構造体
JP2010093125A (ja) * 2008-10-09 2010-04-22 Toray Eng Co Ltd 基板処理システムおよび基板処理方法
JP5008768B2 (ja) * 2008-12-15 2012-08-22 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム、基板処理方法、プログラムを記憶した記憶媒体およびバルブ
JP4615071B2 (ja) 2008-12-29 2011-01-19 キヤノンアネルバ株式会社 基板処理システム及び基板処理装置
NL2004392A (en) * 2009-04-15 2010-10-18 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, control system, multi-core processor, and a method to start tasks on a multi-core processor.
JP5801289B2 (ja) * 2009-05-20 2015-10-28 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. リソグラフシステムのためのパターンデータ変換
KR101854828B1 (ko) 2009-05-20 2018-05-04 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. 듀얼 패스 스캐닝
JP2011054679A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP5392190B2 (ja) * 2010-06-01 2014-01-22 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム及び基板処理方法
US8822106B2 (en) * 2012-04-13 2014-09-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Grid refinement method
US10168208B2 (en) 2015-04-03 2019-01-01 Hitachi High-Technologies Corporation Light amount detection device, immune analyzing apparatus and charged particle beam apparatus that each use the light amount detection device

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