JP6312379B2 - リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、リソグラフィシステム、プログラム、物品の製造方法 - Google Patents
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Description
一実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスなどのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。当該製造方法は、物体(例えば、感光剤を表面に有する基板)上に上記のリソグラフィ装置を用いてパターン(例えば潜像パターン)を形成する工程と、該工程でパターンを形成された物体を処理する工程(例えば、現像工程)とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
3 前処理装置
4 処理部
6 クラスタ制御部
101 ウエハ
Claims (32)
- 前処理装置から供給された基板に対して、前記基板に対するレシピ情報に基づいて、パターン形成処理をそれぞれが行う複数の処理部を有するリソグラフィ装置であって、
複数のロットのそれぞれに属する複数の前記基板に対して、並行したパターン形成処理を行うように、前記複数のロットのそれぞれに対応する複数のレシピ情報に基づいて前記複数の処理部を制御し、かつ前記前処理装置に対して前記基板を要求するタイミングを含む、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を前記前処理装置に送信する制御部を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記スケジュールに関する情報を、前記複数の処理部のそれぞれでそれに対応するロットを処理するのに要する処理時間に基づいて生成する、ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記処理時間を、前記レシピ情報と前記処理部の状態とに基づいて得る、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記処理時間を、1以上の処理済みロットの処理時間の実績値の情報に基づいて得る、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記複数の処理部でのパターン形成処理の状態に基づいて、前記スケジュールに関する情報を更新して前記前処理装置に送信する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記前処理装置でなく、前記リソグラフィ装置と前記前処理装置とに通信接続された情報処理装置に、前記スケジュールに関する情報を送信する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の処理部は、インプリント処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の処理部は、荷電粒子線でパターン形成を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前処理装置から供給された基板に対するパターン形成処理を、前記基板に対するレシピ情報に基づいて、複数の処理部で並行して行うリソグラフィ方法であって、
複数のロットのそれぞれに対応する複数のレシピ情報に基づいて、前記複数の処理部により前記複数のロットのそれぞれに属する複数の前記基板に対して、並行したパターン形成処理を行い、かつ前記前処理装置に対して前記基板を要求するタイミングを含む、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を生成し、
前記スケジュールに関する情報を前記前処理装置に送信する、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。 - 請求項9に記載のリソグラフィ方法を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項1ないし請求項8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置と、
該リソグラフィ装置に基板を供給する前処理装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項1ないし請求項8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置または請求項9に記載のリソグラフィ方法を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 前処理装置から供給された基板に対するパターン形成処理を、リソグラフィ装置に含まれている複数の処理部で並行して、前記基板に対するレシピ情報に基づいて行うことにより、物品を製造する方法であって、
複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて、前記複数の処理部により前記複数のロットのそれぞれに属する複数の基板に対して、並行したパターン形成処理を行い、かつ前記前処理装置に対して前記基板を要求するタイミングを含む、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を、生成し、
前記スケジュールに関する情報に基づいて、前記複数の基板に対する処理を前記前処理装置に行わせ、
前記前処理装置から供給された前記複数の基板に対する並行したパターン形成処理を前記リソグラフィ装置に行わせる、
ことを特徴とする方法。 - リソグラフィ装置であって、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第1処理部と、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第2処理部と、
第1ロットに属する第1基板のパターン形成処理を前記第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部が行い、かつ第2ロットに属する第2基板のパターン形成処理を前記第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部が行う並行したパターン形成処理を前記第1処理部および前記第2処理部に行わせ、前記第1処理部および前記第2処理部に前記基板を供給する前処理装置に対して、前記基板を要求するタイミングを含む、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を送信する制御部と、
を有するリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第1処理部と、
インプリント処理によってパターン形成処理を基板に行う第2処理部と、
第1ロットに属する第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部がパターン形成処理を前記第1基板に行い、かつ第2ロットに属する第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部がパターン形成処理を前記第2基板に行う並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第1処理部に前記第1基板を搬送し、かつ前記第2処理部に前記第2基板を搬送する搬送部と、
前記第1処理部および前記第2処理部に前記並行したパターン形成処理を行わせ、前記搬送部に前記第1基板および前記第2基板を供給する前処理装置に対して、前記第1基板および前記第2基板を要求するタイミングを含む、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を送信する制御部と、
を有するリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
パターン形成処理を基板に行う第1処理部と、
パターン形成処理を基板に行う第2処理部と、
第1ロットに属する第1基板のパターン形成処理を前記第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部が行い、かつ第2ロットに属する第2基板のパターン形成処理を前記第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部が行う並行したパターン形成処理を前記第1処理部および前記第2処理部に行わせ、前記第1処理部および前記第2処理部に前記第1基板および前記第2基板を供給する前処理装置に対して、前記第1基板および前記第2基板を要求するタイミングを含む、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を送信する制御部と、
を有するリソグラフィ装置。 - パターン形成処理を基板に行う処理部をさらに少なくとも1つ有することを特徴とする請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第1処理部および前記第2処理部に前記第1基板および前記第2基板をそれぞれ搬送する搬送部を有することを特徴とする請求項16または請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記スケジュールに関する前記情報を、前記第1処理部で前記第1ロットを処理するのに要する第1処理時間と前記第2処理部で前記第2ロットを処理するのに要する第2処理時間とに基づいて生成する、ことを特徴とする請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記第1基板に対する前記レシピ情報と前記第1処理部の状態とに基づいて前記第1処理時間を得る、ことを特徴とする請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記第1処理時間を、前記第1処理時間の実績値の情報に基づいて得る、ことを特徴とする請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記第1処理部でのパターン形成処理の状態と前記第2処理部でのパターン形成処理の状態とに基づいて、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を更新し、前記第1基板および前記第2基板に対する前記前処理装置に更新された前記情報を送信する、ことを特徴とする請求項16ないし請求項21のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記リソグラフィ装置と前記第1基板および前記第2基板に対する前処理装置とに通信接続された情報処理装置に、前記並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報を送信する、ことを特徴とする請求項16ないし請求項22のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1処理部および前記第2処理部は、インプリント処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項16ないし請求項23のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1処理部および前記第2処理部は、荷電粒子線でパターン形成処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項16ないし請求項23のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 第1処理部および第2処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うリソグラフィ方法であって、
第1ロットに属する第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部がパターン形成処理を前記第1基板に行い、かつ第2ロットに属する第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部がパターン形成処理を前記第2基板に行う並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第1処理部に前記第1基板を搬送し、かつ前記第2処理部に前記第2基板を搬送し、
前記パターン形成処理のスケジュールに関する情報および前記搬送に関する情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板に前処理を行い、
前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。 - 第1処理部および第2処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うリソグラフィ方法であって、
第1ロットに属する第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部がパターン形成処理を前記第1基板に行い、かつ第2ロットに属する第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部がパターン形成処理を前記第2基板に行う並行したパターン形成処理および、前記第1処理部および前記第2処理部へ前記第1基板および前記第2基板を供給するタイミングを含む、スケジュールに関する情報を生成し、
生成された前記スケジュールに関する情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板に前処理を行い、
生成された前記スケジュールに関する情報に基づいて、前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。 - 請求項26または請求項27に記載のリソグラフィ方法を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項14ないし請求項25うちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置に基板を供給する前処理装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項14ないし請求項25のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成処理を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成処理を行われた基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 第1処理部および第2処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うことにより物品を製造する方法であって、
第1ロットに属する第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部がパターン形成処理を前記第1基板に行い、かつ第2ロットに属する第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部がパターン形成処理を前記第2基板に行う並行したパターン形成処理のスケジュールに関する情報に基づいて、前記第1処理部に前記第1基板を搬送し、かつ前記第2処理部に前記第2基板を搬送し、
前記パターン形成処理のスケジュールに関する情報および前記搬送に関する情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板に前処理を行い、
前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とする方法。 - 第1処理部および第2処理部を用いてパターン形成処理を基板に行うことによって物品を製造する方法であって、
第1ロットに属する第1基板に対するレシピ情報に基づいて前記第1処理部がパターン形成処理を前記第1基板に行い、かつ第2ロットに属する第2基板に対するレシピ情報に基づいて前記第2処理部がパターン形成処理を前記第2基板に行う並行したパターン形成処理および、前記第1処理部および前記第2処理部へ前記第1基板および前記第2基板を供給するタイミングを含む、スケジュールに関する情報を生成し、
生成された前記スケジュールに関する情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板に前処理を行い、
生成された前記スケジュールに関する情報に基づいて、前記並行したパターン形成処理を行う、
ことを特徴とする方法。
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