JP2015023146A - リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、リソグラフィシステム、プログラム、物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このリソグラフィ装置は、前処理装置から供給された基板に対してパターン形成処理をそれぞれが行う複数の処理部を有するものであり、複数のロットにそれぞれ属する複数の基板が並行処理されるように、複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて複数の処理部を制御し、かつ並行処理のスケジュールに関する情報を前処理装置に送信する制御部を有する。
【選択図】図8
Description
一実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスなどのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。当該製造方法は、物体(例えば、感光剤を表面に有する基板)上に上記のリソグラフィ装置を用いてパターン(例えば潜像パターン)を形成する工程と、該工程でパターンを形成された物体を処理する工程(例えば、現像工程)とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
3 前処理装置
4 処理部
6 クラスタ制御部
101 ウエハ
Claims (12)
- 前処理装置から供給された基板に対してパターン形成処理をそれぞれが行う複数の処理部を有するリソグラフィ装置であって、
複数のロットにそれぞれ属する複数の前記基板が並行処理されるように、前記複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて前記複数の処理部を制御し、かつ前記並行処理のスケジュールに関する情報を前記前処理装置に送信する制御部を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記スケジュールに関する情報を、前記複数の処理部のそれぞれでそれに対応するロットを処理するのに要する処理時間に基づいて生成する、ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記処理時間を、前記レシピ情報と前記処理部の状態とに基づいて得る、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記処理時間を、それに対応する実績値の情報に基づいて得る、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記複数の処理部での処理の状態に基づいて、前記スケジュールに関する情報を更新して前記前処理装置に送信する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記前処理装置でなく、前記リソグラフィ装置と前記前処理装置とに通信接続された情報処理装置に、前記スケジュールに関する情報を送信する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の処理部は、インプリント処理を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の処理部は、荷電粒子線でパターン形成を行う処理部を含む、ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前処理装置から供給された基板に対するパターン形成処理を複数の処理部で並行して行うリソグラフィ方法であって、
複数のロットにそれぞれ属する複数の前記基板に対する並行処理のスケジュールに関する情報を前記複数のロットにそれぞれ対応する複数のレシピ情報に基づいて生成し、
前記スケジュールに関する情報を前記前処理装置に送信する、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。 - 請求項9に記載のリソグラフィ方法を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置と、
該リソグラフィ装置に基板を供給する前処理装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置または請求項9に記載のリソグラフィ方法を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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