JP6198805B2 - リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、プログラム、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 - Google Patents
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Description
次に、本発明の第2実施形態に係るリソグラフィ装置について説明する。第1実施形態に係るクラスタ型インプリント装置200では、クラスタ制御部230は、各ウエハ1a〜1fを特定するための特定情報を、前処理装置300または上位の制御装置400から取得する。これに対して、本実施形態に係るクラスタ型インプリント装置の特徴は、クラスタ制御部230は、特定情報を基板収納部14内に収納されているウエハ1の位置に基づいて取得する点にある。
次に、本発明の第3実施形態に係るリソグラフィ装置について説明する。本実施形態に係るリソグラフィ装置の特徴は、上記各実施形態に関連し、さらに、クラスタ制御部230が、前処理装置300に対して、複数の処理部210A〜210Fのうちパターン形成に使用する処理部に関する情報を送信可能とする点にある。なお、前処理装置300は、前処理装置側制御部を含む。このような構成とすることで、前処理装置300は、使用する処理部210に応じて各ウエハ1の処理のタイミングや順序を変更することができる。リソグラフィ装置では、いずれかの処理部210において、保守作業等のためにパターン形成処理を開始することができなくなる場合や、スループットの低下に伴い、前処理されたウエハ1がリソグラフィ装置内でより長い時間滞留する場合なども考えられる。特にリソグラフィ装置内での長時間の滞留は、コンタミネーションの観点から好ましくない。そこで、クラスタ制御部230は、これらの状況が生じうる場合には、予め前処理装置300に情報を送信し、各ウエハ1の処理のタイミングや順序を変更させる。これにより、重ね合わせ精度の点に加え、生産性または歩留まりの点で有利なリソグラフィ装置を提供することができる。
一実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイスなどのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。当該製造方法は、物体(例えば、感光剤を表面に有する基板)上に上記のリソグラフィ装置を用いてパターン(例えば潜像パターン)を形成する工程と、該工程でパターンを形成された物体を処理する工程(例えば、現像工程)とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア(プログラム)を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ(又はCPUやMPU等)がプログラムを読み出して実行する処理である。
210 インプリント処理部
230 クラスタ制御部
Claims (24)
- 基板へのパターン形成がインプリント材を型で成形して行われる処理部を複数有するリソグラフィ装置であって、
1つのロットに属する複数の基板を個別に特定する特定情報と、前記特定情報と前記複数の処理部のうちの処理部との間の対応関係とに基づいて前記複数の処理部のうちから決定された、各基板を処理すべき処理部に、当該処理部が処理すべき基板を搬送し、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成が前記複数の処理部のうちパターン形成に使用できる処理部において前記1つのロットに対応するレシピ情報に基づいて並行に行われるように制御を行う制御部を有し、
前記制御部は、前記基板へのパターン形成前に当該基板に対する前処理を行う前処理装置に、前記使用できる処理部に関する情報に基づいて、前記1つのロットに属する複数の基板に対する前記前処理のタイミングまたは順序を変更させて、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成が前記使用できる処理部において並行に行われるように、前記使用できる処理部に関する情報を前記前処理装置に送信することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記1つのロットに属する複数の基板を収納する基板収納部を有し、前記基板収納部または前記基板収納部に収納されている基板から前記特定情報を取得することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板収納部に収納されている基板の位置を検出する検出部を有し、検出した位置情報を前記特定情報として用いることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記前処理装置から搬送された基板の順序に基づいて、前記特定情報を取得することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記前処理装置は前記基板に密着層となる材料を塗布する装置であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つのロットに属する複数の基板は、前記複数の処理部のいずれかに振り分けられるように、複数種類のグループに分類され、同じグループに属する複数の基板は同じ処理部でパターン形成が行われることを特徴とする請求項1ないし請求項5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の処理部に複数の基板を同時に搬送できる搬送部を有し、前記搬送部には複数のハンドが設けられ、各ハンドは前記複数の処理部のいずれかに基板を搬入することを特徴とする請求項1ないし請求項6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レシピ情報は、ショットのレイアウト、ショットの順番、各ショットでの処理条件、型個体情報、欠陥位置情報から選択される情報であることを特徴とする請求項1ないし請求項7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、基板収納部の中での前記基板の位置に基づいて前記特定情報を取得することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記前処理装置から搬送された前記基板の順序に基づいて前記特定情報を取得することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板からまたは前記基板を収納する基板収納部から前記特定情報を取得する取得手段を有することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記特定情報を受信する受信手段を有することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記複数の処理部がそれぞれ分類された複数のグループの中のグループと前記特定情報との間の予め設定された対応関係にも基づいて前記決定を行うことを特徴とする請求項9ないし請求項12のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記レシピ情報にも基づいて前記決定を行うことを特徴とする請求項9ないし請求項13のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記前処理装置の替わりに、それを制御する制御装置に対して、前記使用できる処理部に関する情報を送信することを特徴とする請求項1ないし請求項14のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記複数の処理部それぞれの状態に基づいて、前記使用できる処理部に関する情報を送信することを特徴とする請求項1ないし請求項15のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記特定情報および前記レシピ情報に基づいて、前記複数の処理部それぞれでの前記パターン形成のための処理条件を決定することを特徴とする請求項1ないし請求項16のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 基板へのパターン形成がインプリント材を型で成形して行われる処理部を複数有するリソグラフィ装置であって、
1つのロットに属する複数の基板を収納する基板収納部と、
前記基板収納部から、前記複数の処理部に、前記複数の基板を搬送する搬送部と、
前記基板へのパターン形成が前記複数の処理部において並行に行われるように前記複数の処理部を制御する制御部と、
を有し、
前記搬送部は、
前記複数の処理部のいずれかに個別に振り分けられるように、複数種類のグループに分類された、前記複数の基板を、
同じグループに属する複数の基板が同じ処理部でパターン形成されるように、1つのロットに属する複数の基板を個別に特定する特定情報と、前記特定情報と前記複数の処理部のうちの処理部との間の対応関係と、前記複数の処理部のうちパターン形成に使用できる処理部に関する情報とに基づいて前記複数の処理部のうちから決定された、各基板を処理すべき処理部に、当該処理部が処理すべき基板を搬送し、
前記制御部は、前記基板へのパターン形成前に当該基板に対する前処理を行う前処理装置に、前記複数の処理部のうちパターン形成に使用できる処理部に関する情報に基づいて、前記1つのロットに属する複数の基板に対する前記前処理のタイミングまたは順序を変更させて、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成が前記使用できとに理部において前記1つのロットに対応するレシピ情報に基づいて並行に行われるように、前記使用できる処理部に関する情報を前記前処理装置に送信する
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記複数の処理部のいずれかに振り分けられるように、複数種類のグループに分類された、前記複数の基板を、前記基板収納部の所定の位置に収納することを特徴とする請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 基板へのパターン形成を、インプリント材を型で成形して行う処理部を複数用いるリソグラフィ方法であって、
1つのロットに属する基板を個別に特定する特定情報と、前記特定情報と前記複数の処理部のうちの処理部との間の対応関係とに基づいて複数の処理部のうちから決定された、各基板を処理すべき処理部に、当該処理部が処理すべき基板を搬送し、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成を前記複数の処理部のうちパターン形成に使用できる処理部において前記1つのロットに対応するレシピ情報に基づいて並行に行い、前記基板へのパターン形成前に当該基板に対する前処理を行う前処理装置に、前記使用できる処理部に関する情報に基づいて、前記1つのロットに属する複数の基板に対する前記前処理のタイミングまたは順序を変更させて、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成が前記使用できる処理部において並行に行われるように、前記使用できる処理部に関する情報を前記前処理装置に送信することを特徴とするリソグラフィ方法。 - 基板へのパターン形成を、インプリント材を型で成形して行うリソグラフィ方法であって、
それぞれが基板へのパターン形成を行う複数の処理部のいずれかに個別に振り分けられるように、複数種類のグループに分類されて基板収納部に収納された、1つのロットに属する複数の基板を、同じグループに属する複数の基板が同じ処理部でパターン形成されるように、1つのロットに属する複数の基板を個別に特定する特定情報と、前記特定情報と前記複数の処理部のうちの処理部との間の対応関係とに基づいて前記複数の処理部のうちから決定された、各基板を処理すべき処理部に、当該処理部が処理すべきとは対応関係にある前記特定情報に係る基板を搬送し、
前記基板へのパターン形成前に当該基板に対する前処理を行う前処理装置に、前記複数の処理部のうちパターン形成に使用できる処理部に関する情報に基づいて、前記1つのロットに属する複数の基板に対する前記前処理のタイミングまたは順序を変更させて、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成が前記使用できる処理部において前記1つのロットに対応するレシピ情報に基づいて並行に行われるように、前記使用できる処理部に関する情報を前記前処理装置に送信して、前記1つのロットに属する複数の基板へのパターン形成を前記使用できる処理部において並行に行う、
ことを特徴とするリソグラフィ方法。 - 請求項20または請求項21に記載のリソグラフィ方法を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項1ないし請求項19のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置に基板を供給する前処理装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項1ないし請求項19のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置、請求項20もしくは請求項21に記載のリソグラフィ方法、請求項22に記載のプログラム、または請求項23に記載のリソグラフィシステムを用いて基板へのパターン形成を行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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