JP2014510776A - Sglt2の阻害物質として有用な化合物の調製プロセス - Google Patents
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Abstract
【化1】
Description
本出願は、本明細書にその全体が参照により組み込まれる米国仮出願特許第61/474,936号(2011年4月13日出願)の利益を請求する。
本発明は、腸又は腎臓に存在しているナトリウム−グルコース共輸送体(SGLT)に対して阻害活性を有する化合物を製造するための新規方法を目的とする。
(1)環Aは、所望により置換される不飽和の単環式複素環であり、かつ環Bは、所望により置換される不飽和の単環式複素環、所望により置換される不飽和縮合複素二環、又は所望により置換されるベンゼン環である、又は
(2)環Aは、所望により置換されるベンゼン環であり、かつ環Bは、所望により置換される不飽和の単環式複素環、又は所望により置換される不飽和縮合複素二環であり、ここで、Yは縮合複素二環の複素環に結合する、又は
(3)環Aは、所望により置換される不飽和縮合複素二環であり、式中、糖成分X−(糖)及び成分−Y−(環B)の両方が同一の縮合複素二環の複素環上にあり、かつ環Bは、所望により置換される不飽和の単環式複素環、所望により置換される不飽和縮合複素二環、又は所望により置換されるベンゼン環であり、
Xは、炭素原子であり、
Yは、−(CH2)n−であり、ここでnは1又は2であり、
環Aにおいては、Xは不飽和結合の一部であり、
並びにそれらの製薬学的に許容される塩又は溶媒和物であって、
(a)第1の炭化水素溶媒中で、約−78℃から室温程度までの温度範囲において、亜鉛塩及び有機リチウム試薬の混合物と反応させ、
(b)次に第1のエーテル溶媒と混合し、
(c)更に、任意追加的な第2のエーテル溶媒と第2の炭化水素溶媒の混合物中において、得られた混合物と、式中、各Zが独立して選択された酸素保護基であり、LG2が脱離基である、式(VIII)の化合物とを反応させることにより、式(IX)の化合物を生成することと、
(a)第1の炭化水素溶媒中で、約−78℃から室温程度までの温度範囲において、亜鉛塩及び有機リチウム試薬の混合物と反応させ、
(b)次に第1のエーテル溶媒と混合し、
(c)更に、任意追加的な第2のエーテル溶媒と第2の炭化水素溶媒の混合物中において、得られた混合物と、式中、各Zが独立して選択された酸素保護基であり、LG2が脱離基である、式(VIII−S)の化合物とを反応させることにより、対応する式(IX−S)の化合物を生成することと、
(a)第1の炭化水素溶媒中で、約−78℃から室温程度までの温度範囲において、亜鉛塩及び有機リチウム試薬の混合物と反応させ、
(b)次に第1のエーテル溶媒と混合し、
(c)更に、任意追加的な第2のエーテル溶媒と第2の炭化水素溶媒の混合物中において、得られた混合物と、式中、各Zが独立して選択された酸素保護基であり、LG2が脱離基である、式(VIII−K)の化合物とを反応させることにより、対応する式(IX−K)の化合物を生成することと、
所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環は、所望によりハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキル−スルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基で置換され得る不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環であり、並びに
所望により置換されていてもよいベンゼン環は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、アルキレン基及びアルケニレン基からなる群から独立して選択された1〜3個の置換基で所望により置換されていてもよい、ベンゼン環であり、
不飽和の単環式複素環、不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環及びベンゼン環上の、上述の置換基はそれぞれ更にハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェニル基、アルキレンオキシ基、アルキレンジオキシ基、オキソ基、カルバモイル基及びモノ−又はジ−アルキルカルバモイル基からなる群から独立して選択される1〜3個の置換基で置換され得る。
所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環は、所望によりハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、フェニル基、ヘテロシクリル基及びオキソ基からなる群から独立して選択される1〜3個の置換基で置換され得る不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環であり、並びに
所望により置換されたベンゼン環は、所望により、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、フェニル基、ヘテロシクリル基、アルキレン基及びアルケニレン基からなる群から独立して選択される1〜3個の置換基で置換され得るベンゼン環であり、
各不飽和の単環式複素環、不飽和縮合ヘテロ二環式複素環及びベンゼン環上の、上述の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルカノイル基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキレンジオキシ基、アルキレンオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基及びモノ−又はジ−アルキルカルバモイル基からなる群から独立して選択される1〜3個の置換基で更で置換され得る。
(1)環Aは、所望により、独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環であり、
環Bは、不飽和の単環式複素環、不飽和の縮合二環式複素環又はベンゼン環であり、これらはそれぞれ所望により、独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、アルキレン基、及びアルケニレン基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されてもよく、
(2)環Aは所望により、独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、アルキレン基、及びアルケニレン基からなる群から選択される1〜3個の置換基で置換されてもよいベンゼン環であり、
環Bは、不飽和の単環式複素環又は不飽和の縮合複素二環であり、これらはそれぞれ所望により、独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、アルキレン基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されてもよく、あるいは
(3)環Aは所望により、独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基で置換されてもよい不飽和の縮合複素二環であり、
環Bは、不飽和の単環式複素環、不飽和の縮合複素二環又はベンゼン環であり、これらはそれぞれ所望により、独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、スルファモイル基、モノ−又はジ−アルキルスルファモイル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−又はジ−アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニル基、ヘテロシクリル基、アルキレン基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基で置換されてもよく、
ここで環A及び環B上の上述の置換基はそれぞれ、所望により、独立して、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルカノイル基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキレンジオキシ基、アルキレンオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、及びモノ−又はジ−アルキルカルバモイル基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい。
(1)環Aは所望により、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はオキソ基に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環であり、環Bは、(a)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基、所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、あるいは所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、に置換されていてもよいベンゼン環、(b)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−(mo-)もしくはジ−低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、及び所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基から選択される基に置換されていてもよいヘテロシクリル基から選択される基に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環、あるいは(c)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、及び所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基から選択される基に置換されていてもよいヘテロシクリル基から選択される基に置換されていてもよい不飽和の縮合二環式複素環であり、
(2)環Aは所望により、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル基又は低級アルケニレン基に置換されていてもよいベンゼン環であり、環Bは、(a)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、フェニル−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基、所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基又はカルバモイル基に置換されていてもよいフェニル基、あるいは所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基又はカルバモイル基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環、(b)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、フェニル−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−(mo-)もしくはジ−低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、及び所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基から選択される基に置換されていてもよいヘテロシクリル基から選択される基に置換されていてもよい不飽和の縮合二環式複素環であり、あるいは
(3)環Aは所望により、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はオキソ基に置換されていてもよい不飽和の縮合二環式複素環であり、環Bは、(a)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−(mo-)もしくはジ−低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、及び所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基から選択される基に置換されていてもよいヘテロシクリル基から選択される基により置換されていてもよいベンゼン環、(b)所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基、所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、あるいは所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環、あるいは(c)所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、モノ−(mo-)もしくはジ−低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基に置換されていてもよいフェニル基、及び所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基から選択される基に置換されていてもよいヘテロシクリル基から選択される基に置換されていてもよい不飽和の縮合二環式複素環である。
(1)環Aは所望により、独立して、ハロゲン原子、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、フェニル基、及び低級アルケニレン基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよいベンゼン環であり、
環Bは、不飽和の単環式複素環又は不飽和の縮合二環式複素環であり、これらはそれぞれ所望により、独立して、ハロゲン原子、所望により、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はフェニル基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基又はカルバモイル基に置換されていてもよいフェニル基、所望により、ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基又はカルバモイル基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されてもよく、
(2)環Aは所望により、独立して、ハロゲン原子、所望により低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環であり、
環Bは所望により、独立して、ハロゲン原子、所望によりハロゲン原子、低級アルコキシ基又はフェニル基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいフェニル基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、低級アルキレン基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよいベンゼン環であり、
(3)環Aは、所望により、独立して、ハロゲン原子、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環であり、
環Bは、不飽和の単環式複素環又は不飽和の縮合二環式複素環であり、これらはそれぞれ所望により、独立して、ハロゲン原子、所望によりハロゲン原子、低級アルコキシ基又はフェニル基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいフェニル基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されてもよく、
(4)環Aは、所望により、独立して、ハロゲン原子、所望により低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい不飽和の縮合二環式複素環であり、
環Bは、所望により、独立して、ハロゲン原子、所望によりハロゲン原子、低級アルコキシ基又はフェニル基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいフェニル基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、及び低級アルキレン基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよいベンゼン環であり、あるいは
(5)環Aは、所望により独立して、ハロゲン原子、所望により低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい不飽和の単環式複素環であり、
環Bは、不飽和の単環式複素環又は不飽和の縮合二環式複素環であり、これらはそれぞれ所望により、独立して、ハロゲン原子、所望によりハロゲン原子、低級アルコキシ基又はフェニル基に置換されていてもよい低級アルキル基、所望によりハロゲン原子又は低級アルコキシ基に置換されていてもよい低級アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいフェニル基、所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基に置換されていてもよいヘテロシクリル基、及びオキソ基からなる群から選択される1〜3個の置換基に置換されていてもよい。
環Bは
R4b、R5b、R4c及びR5cはそれぞれ独立して水素原子;ハロゲン原子;ヒドロキシ基;アルコキシ基;アルキル基;ハロアルキル基;ハロアルコキシ基;ヒドロキシアルキル基;アルコキシアルキル基;フェニルアルキル基;アルコキシアルコキシ基;ヒドロキシアルコキシ基;アルケニル基;アルキニル基;シクロアルキル基;シクロアルキリデンメチル基;シクロアルケニル基;シクロアルキルオキシ基;フェニルオキシ基;フェニルアルコキシ基;シアノ基;ニトロ基;アミノ基;モノ−若しくはジ−アルキルアミノ基;アルカノイルアミノ基;カルボキシル基;アルコキシカルボニル基;カルバモイル基;モノ−若しくはジ−アルキルカルバモイル基;アルカノイル基;アルキルスルホニルアミノ基;フェニルスルホニルアミノ基;アルキルスルフィニル基;アルキルスルホニル基;フェニルスルホニル基;所望によりハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、エチレンオキシ基、又はモノ−若しくはジ−アルキルアミノ基で置換されたフェニル基;あるいは所望によりハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はハロアルコキシ基で置換されたヘテロシクリル基である化合物が挙げられる。
R4a及びR5aがそれぞれ独立して水素原子;ハロゲン原子;低級アルキル基;ハロ−低級アルキル基;フェニル−低級アルキル基;所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、メチレンジオキシ基、エチレンオキシ基、モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ基、カルバモイル基、又はモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイル基で置換されたフェニル基;あるいはハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルバモイル基、又はモノ−又はジ−低級アルキルカルバモイル基で所望により置換されたヘテロシクリル基であるか、あるいはR4a及びR5aが互いの末端で結合して低級アルキレン基を形成し、かつ
R4b、R5b、R4c及びR5cがそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ−低級アルコキシ基である化合物である。
式中、R4aが所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、メチレンジオキシ基、エチレンオキシ基、モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ基、カルバモイル基、又はモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイル基で置換されたフェニル基;あるいは所望によりハロゲン原子、シアノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルバモイル基、又はモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイル基で置換されたヘテロシクリル基であり、かつ
R5aは水素原子であり、あるいは
R4a及びR5aは互いの末端で結合して低級アルキレン基を形成する化合物である。
以下の式で表される基は、
式中、R6a及びR7aはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキリデンメチル基、シクロアルケニル基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、モノ−若しくはジ−アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ−若しくはジ−アルキルカルバモイル基、アルカノイル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基であり、かつR6b及びR7bはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基又はアルコキシ基である。
以下の式で表される基は、
式中、R6a、R7aはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシ−低級アルキル基、ハロ−低級アルキル基、低級アルコキシ−低級アルキル基、低級アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ハロ−低級アルコキシ基、又は低級アルコキシ−低級アルコキシ基、あるいは以下の式で表わされる基であり、
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−(6−エチルベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(5−チアゾリル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニル−メチル)ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(2−ピリミジニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(2−ピリミジニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(3−シアノフェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(4−シアノフェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(6−フルオロ−2−ピリジル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(6−フルオロ−2−ピリジル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(3−ジフルオロメチル−フェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(3−シアノフェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(4−シアノフェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−チエニルメチル]ベンゼン;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−フルオロ−3−(5−(3−シアノフェニル)−2−チエニルメチル)ベンゼン;
これらの薬剤として許容される塩:並びにこれらのプロドラッグ。
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(3−シアノ−フェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(4−シアノ−フェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(4−フルオロ−フェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(3−シアノ−フェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(6−フルオロ−2−ピリジル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(6−フルオロ−2−ピリジル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−クロロ−3−[5−(6−フルオロ−3−ピリジル)−2−チエニルメチル]ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグ;並びに
1−(β−D−グルコピラノシル)−4−フルオロ−3−(5−(3−シアノフェニル)−2−チエニルメチル)ベンゼン、又はこれらの薬剤として許容される塩又はこれらのプロドラッグが挙げられる。
ジブロモ亜鉛(ZnBr2)、亜鉛ジヨージド(ZnI2)、亜鉛ジトリフラートなど(好ましくはZnBr2)の好適に選択された亜鉛塩の混合物、又はピリジン臭化亜鉛錯体、N−メチルモルホリン臭化亜鉛錯体などの亜鉛ハロゲン化物のアミン錯体(ここで、亜鉛塩又は亜鉛ハロゲン化物のアミン錯体は、好ましくは約0.33〜約3.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約0.33〜約1.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約0.5モル当量に相当する量で存在する)と、トリメチルシリルメチルリチウム、n−ヘキシルリチウム、sec−ブチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチウムなど(好ましくはn−ヘキシルリチウム又はn−ブチルリチウム)の好適に選択された有機リチウム試薬(ここで、有機リチウム試薬は、好ましくは約0.5〜約2.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約1.0〜約1.2モル当量の範囲の量で存在する)とを、
トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなど(好ましくはトルエン)の好適に選択された第1の炭化水素溶媒中において、好ましくは室温程度を下回る温度、より好ましくは約−78℃から室温程度までの温度、より好ましくは約0℃の温度において、反応させることにより、式中M1がリチウムである対応する式(VI)の化合物と亜鉛塩との混合物を調製する。好ましくは、式(VI)の化合物は単離されていない。
任意追加的な好適に選択された第2のエーテル溶媒と好適に選択された第2の炭化水素溶媒との混合物中において(ここで、第2のエーテル溶媒は、例えば、ジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、MTBE、2−メチル−THF、ジ−イソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルなどであり、好ましくはジ−n−ブチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルであり、第2の炭化水素溶媒は、例えば、トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどであり、好ましくはトルエンである。一実施形態では、第2のエーテル溶媒と第2の炭化水素溶媒は、それぞれ第1のエーテル溶媒と第1の炭化水素溶媒と同一である)、
室温程度〜還流温度程度の範囲の温度において、より好ましくは約60℃〜約95℃の範囲の温度で、反応させることにより、対応する式(IX)の化合物を調製する。
ジブロモ亜鉛(ZnBr2)、亜鉛ジヨージド(ZnI2)、亜鉛ジトリフラートなど(好ましくはZnBr2)の好適に選択された亜鉛塩の混合物、又はピリジン臭化亜鉛錯体、N−メチルモルホリン臭化亜鉛錯体などの亜鉛ハロゲン化物のアミン錯体(ここで、亜鉛塩又は亜鉛ハロゲン化物のアミン錯体は、好ましくは約0.33〜約3.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約0.33〜約1.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約0.5モル当量に相当する量で存在する)と、トリメチルシリルメチルリチウム、n−ヘキシルリチウム、sec−ブチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチウムなど(好ましくはn−ヘキシルリチウム又はn−ブチルリチウム)の好適に選択された有機リチウム試薬(ここで、有機リチウム試薬は、好ましくは約0.5〜約2.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約1.0〜約1.2モル当量の範囲の量で存在する)とを、
トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなど(好ましくはトルエン)の好適に選択された第1の炭化水素溶媒中において、好ましくは室温程度を下回る温度、より好ましくは約−78℃から室温程度までの温度、より好ましくは約0℃の温度において、反応させることにより、式中M1がリチウムである対応する式(VI−S)の化合物と亜鉛塩との混合物を調製する。好ましくは、式(VI−S)の化合物は単離されていない。
式中、M2が対応する反応性亜鉛種である式(VII−S)の化合物であって、単離されていない化合物を調製する。
任意追加的な好適に選択された第2のエーテル溶媒と好適に選択された第2の炭化水素溶媒との混合物中において(ここで、第2のエーテル溶媒は、例えば、ジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、MTBE、2−Me−THF、シクロペンチルメチルエーテル、ジ−イソプロピルエーテルなどであり、好ましくはジ−n−ブチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルであり、第2の炭化水素溶媒は、例えば、トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどであり、好ましくはトルエンである。一実施形態では、第2のエーテル溶媒と第2の炭化水素溶媒は、それぞれ第1のエーテル溶媒と第1の炭化水素溶媒と同一である)、
室温程度〜還流温度程度の範囲の温度において、より好ましくは約60℃〜約95℃の範囲の温度で、反応させることにより、対応する式(IX−S)の化合物を調製する。
ジブロモ亜鉛(ZnBr2)、亜鉛ジヨージド(ZnI2)、亜鉛ジトリフラートなど(好ましくはZnBr2)の好適に選択された亜鉛塩の混合物、又はピリジン臭化亜鉛錯体、N−メチルモルホリン臭化亜鉛錯体などの亜鉛ハロゲン化物のアミン錯体(ここで、亜鉛塩又は亜鉛ハロゲン化物のアミン錯体は、好ましくは約0.33〜約3.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約0.33〜約1.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約0.5モル当量に相当する量で存在する)と、トリメチルシリルメチルリチウム、n−ヘキシルリチウム、sec−ブチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチウムなど(好ましくはn−ヘキシルリチウム又はn−ブチルリチウム)の好適に選択された有機リチウム試薬(ここで、有機リチウム試薬は、好ましくは約0.5〜約2.0モル当量の範囲の量、より好ましくは約1.0〜約1.2モル当量の範囲の量で存在する)とを、
トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなど(好ましくはトルエン)の好適に選択された第1の炭化水素溶媒中において、好ましくは室温程度を下回る温度、より好ましくは約−78℃から室温程度までの温度、より好ましくは約0℃の温度において、反応させることにより、式中M1がリチウムである対応する式(VI−K)の化合物と亜鉛塩との混合物を調製する。好ましくは、式(VI−K)の化合物は単離されていない。
式中、M2が対応する反応性亜鉛種である式(VII−K)の化合物であって、単離されていない化合物を調製する。
任意追加的な好適に選択された第2のエーテル溶媒と好適に選択された第2の炭化水素溶媒との混合物中において(ここで、第2のエーテル溶媒は、例えば、ジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、MTBE、2−Me−THF、シクロペンチルメチルエーテルなどであり、好ましくはジ−n−ブチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルであり、第2の炭化水素溶媒は、例えば、トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどであり、好ましくはトルエンである(一実施形態では、第2のエーテル溶媒と第2の炭化水素溶媒は、それぞれ第1のエーテル溶媒と第1の炭化水素溶媒と同一である))、
室温程度〜還流温度程度の範囲の温度において、より好ましくは約60℃〜約95℃の範囲の温度で、反応させることにより、対応する式(IX−K)の化合物を調製する。
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2R,3R,4S,5R,6R)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−2,3,4,5−テトライルテトラキス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2R,3R,4S,5R,6R)−2−ブロモ−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
2−(4−フルオロフェニル)−5−(5−ヨード−2−メチルベンジル)チオフェン(12.81g、31.37ミリモル)を、アルゴン雰囲気の乾燥したシュレンク管に入れた。無水トルエン(15.7mL)及び無水CPME(9.4mL)を攪拌せずに注射器で加え、得られた混合物を−45℃まで冷却してから攪拌した。次に、得られた冷却混合物に、n−ヘキシルリチウム(14.3g、32.94ミリモル)をヘキサン(14.3mL)中2.5M溶液として、約5〜10分間かけて加え、この混合物を−25℃まで1時間かけて温めた。
シュレンク管内の無水CPME(18.6mL)において、臭化亜鉛(3.88g、17.25ミリモル)及び臭化リチウム(2.72g、34.50ミリモル)を、減圧下200℃で乾燥した。次に、−25℃にてこの混合物をカニューレでアリールリチウム混合物(上記工程Aに記載するように調製)に添加し、得られた混合物を0℃まで1時間かけて温めた。続いて、得られた混合物に、無水トルエン(31.4mL)中(2R,3R,4S,5R,6R)−2−ブロモ−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)(20.0g、34.50ミリモル)を添加した。氷浴を外し、得られた混合物を室温で30分間攪拌し、次に65℃まで48時間加熱した。得られた懸濁液をガラスフリットで濾過し、トルエン(20mL)ですすぎ、濾液を1Nの塩化アンモニウム溶液(100mL)及び水(100mL)で洗浄した。トルエンを蒸留して少量にした。メタノール(157mL)を得られた残渣に加え、この混合物を0℃まで冷却して結晶の形成をもたらし、これを濾過し、40℃で一晩減圧下乾燥して、表題の化合物を得た。収率:18.30g(75%)。
(2S,3R,4R,5S,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリオール
(2S,3R,4R,5S,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリオール
オーバーヘッドスターラーを備えたジャケット付き反応器を、乾燥窒素フロー下で16時間100℃で加熱し、次に窒素フロー下で約20℃まで冷却した。反応器にZnBr2(10g、44.45ミリモル、0.55eq)及びトルエン(264mL、8V)を窒素下で充填し、得られた混合物を5分間撹拌した。ヘプタン(84.87ミリモル、1.05eq.)中でn−BuLi、2.3Mを、窒素下約20℃で一度に添加した。得られた混合物を2時間撹拌し、30分以内に0℃まで冷却した。2−(4−フルオロフェニル)−5−(5−ヨード−2−メチルベンジル)チオフェンの固体(1eq.、33g、80.83ミリモル)を、反応器に窒素下で10分以内に添加し、得られた混合物を0℃で1時間撹拌した。n−Bu2O(26.4mL、0.8V、10v%)を窒素下反応器に添加した。得られた混合物を約20℃まで温め、次に3時間撹拌した。
メタノール(13mL、.2.56V)及び(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−((ピバロイルオキシ)メチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)(5.08g、6.50ミリモル、1eq.)を反応器に充填した。メタノール(0.233g、0.2eq.)中にNaOCH3 30w/w%を添加し、得られた混合物を還流にて加熱(65℃)し、5時間撹拌した。
(2S,3S,4R,5R,6R)−2−(3−((5−(4−フルオロフェニル)チオフェン−2−イル)メチル)−4−メチルフェニル)−6−(ピバロイルオキシメチル)テトラヒドロ−2H−ピラン−3,4,5−トリイルトリス(2,2−ジメチルプロパノアート)
固形経口製剤−予想例
経口組成物の具体的な実施形態として、上記実施例11で調製した化合物100mgを、十分な微粉乳糖と共に配合して、580〜590mgの合計量にし、サイズOの硬質ゲルカプセル剤に充填した。
Claims (21)
- 式(I)の化合物の調製プロセスであって、
(1)環Aは、場合により置換される不飽和の単環式複素環であり、かつ環Bは、所望により置換される不飽和の単環式複素環、所望により置換される不飽和縮合複素二環、又は所望により置換されるベンゼン環である、又は
(2)環Aは、所望により置換されるベンゼン環であり、かつ環Bは、所望により置換される不飽和の単環式複素環、又は所望により置換される不飽和縮合複素二環であり、ここでYは縮合複素二環の複素環に結合する、又は
(3)環Aは、所望により置換される不飽和縮合複素二環であり、式中、糖成分X−(糖)及び成分−Y−(環B)の両方が同一の縮合複素二環の複素環上にあり、かつ環Bは、所望により置換される不飽和の単環式複素環、所望により置換される不飽和縮合複素二環、又は所望により置換されるベンゼン環であり、
Xは、炭素原子であり、
Yは、−(CH2)n−であり、ここでnは1又は2であり、
環AにおいてXは、不飽和結合の一部であり、
又はそれらの製薬学的に許容される塩又は溶媒和物であって、
- 亜鉛塩がZnBr2であり、有機リチウム試薬がn−ブチルリチウムである、請求項1に記載のプロセス。
- 亜鉛塩と有機リチウム試薬が約1:2のモル比で存在する、請求項1に記載のプロセス。
- 亜鉛塩と有機リチウム試薬が約1時間〜約2時間において事前混合される、請求項1に記載のプロセス。
- 第1の炭化水素溶媒がトルエンである、請求項1に記載のプロセス。
- LG1がヨードであり、亜鉛塩がZnBr2であり、有機リチウム試薬がn−ブチルリチウムであり、亜鉛塩と有機リチウム試薬が事前混合され、第1の炭化水素溶媒がトルエンであり、かつ式(V)の化合物が約0℃の温度で亜鉛塩と有機リチウム試薬との混合物と反応する、請求項1に記載のプロセス。
- 第1のエーテル溶媒がジ−n−ブチルエーテルである、請求項1に記載のプロセス。
- 第1のエーテル溶媒が体積で約7%〜約10%の範囲の量で存在する、請求項1に記載のプロセス。
- LG1がヨードであり、Zがピバロイルであり、LG2が臭素である、請求項1に記載のプロセス。
- 請求項1に記載のプロセスであって、
Xは炭素原子であり、
環Aは、4−メチルフェニル及び4−クロロフェニルから成る群から選択され、
Yは−CH2−であり、かつ環Aの3位に結合し、
環Bは、2−(5−(4−フルオロフェニル)−チエニル)及び2−(5−(6−フルオロ−ピリド−3−イル)−チエニル)からなる群から選択される、請求項1に記載のプロセス。 - 式(I−S)
- 亜鉛塩がZnBr2であり、有機リチウム試薬がn−ブチルリチウムである、請求項11に記載のプロセス。
- 亜鉛塩と有機リチウム試薬が約1:2のモル比で存在する、請求項11に記載のプロセス。
- 亜鉛塩と有機リチウム試薬が約1時間〜約2時間において事前混合される、請求項11に記載のプロセス。
- 第1の炭化水素溶媒がトルエンである、請求項11に記載のプロセス。
- LG1がヨードであり、亜鉛塩がZnBr2であり、有機リチウム試薬がn−ブチルリチウムであり、亜鉛塩と有機リチウム試薬が事前混合され、第1の炭化水素溶媒がトルエンであり、式(V−S)の化合物が約0℃の温度で亜鉛塩と有機リチウム試薬との混合物と反応する、請求項1に記載のプロセス。
- 第1のエーテル溶媒がジ−n−ブチルエーテルである、請求項11に記載のプロセス。
- 第1のエーテル溶媒が体積で約7%〜約10%の範囲の量で存在する、請求項11に記載のプロセス。
- LG1がヨードであり、Zがピバロイルであり、LG2が臭素である、請求項11に記載のプロセス。
- 請求項1に記載のプロセスに従って調製される、化合物。
- 請求項11に記載のプロセスに従って調製される、化合物。
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