JP2014240461A - 活性エネルギー線架橋性樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 35
- -1 vinyl aromatic hydrocarbon Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 34
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 32
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 209
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 158
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 96
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 44
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 32
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 27
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 19
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 17
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 17
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 5
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000011925 1,2-addition Methods 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019482 Palm oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002540 palm oil Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBWWINQJTZYDFK-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C=C)=C1 DBWWINQJTZYDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006257 Heat-shrinkable film Polymers 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical group [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- 229920001890 Novodur Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- ICKXMDGNIZPYRS-UHFFFAOYSA-N [Li]CCCCCC[Li] Chemical compound [Li]CCCCCC[Li] ICKXMDGNIZPYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical compound [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000010097 foam moulding Methods 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].C[CH-]C SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].CC[CH2-] XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010551 living anionic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001225 nuclear magnetic resonance method Methods 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012785 packaging film Substances 0.000 description 1
- 229920006280 packaging film Polymers 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 150000008039 phosphoramides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
Description
1.下記(A)、(B)を満たす、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体からなる活性エネルギー線架橋性樹脂組成物。
(A)樹脂組成物中の共役ジエンの質量比が21〜29%である樹脂組成物。
(B)樹脂組成物中のビニル芳香族炭化水素のブロック率が80〜85%である樹脂組成物。
2.請求項1に記載の活性エネルギー線架橋性樹脂組成物を成形し、更に活性エネルギー線を照射した成形体。
3.トルエンに対する不溶物の割合(ゲル分率)が38質量%以上61質量%以下である、請求項2に記載の成形体。
4.活性エネルギー線が紫外線、電子線のうち少なくとも一方である、請求項2または3に記載の成形体。
ブロック率(%)=(W/W0)×100
ここで、Wはブロック状ビニル芳香族炭化水素量、即ちビニル芳香族炭化水素が連続して5個以上結合した状態のビニル芳香族炭化水素量、W0は全ビニル芳香族炭化水素量を示す。W、W0は核磁気共鳴法(NMR法)により測定する。
ゲル分率(質量%)=(トルエン不溶分/試験サンプル量)×100
ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)を用いた。本発明において特に断りが無い場合、分子量はピークトップ分子量Mp、分散度は重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnとする。
装置名:東ソー社製「HLC−8220GPC」
使用カラム:昭和電工社製「ShodexGPCKF−404」を直列に4本接続
カラム温度:40℃
検出方法:示差屈折率法
移動相:テトラヒドロフラン
サンプル濃度:2質量%
検量線:VARIAN社製標準ポリスチレン(ピークトップ分子量Mp=2,560,0000、841,700、280,500、143,400、63,350、31,420、9,920、2,930)を用いて検量線を作成した。
重合例で使用した全モノマー量に対する1,3−ブタジエン量の割合および配合比から、樹脂組成物の共役ジエン質量比をそれぞれ算出した。参考例1、2は分析値を使用した。核磁気共鳴(NMR)を用いて1H−NMRを測定し、ポリスチレンの芳香環上の5つのプロトンとして帰属される6.2〜7.6ppmのピーク強度の積分値から重クロロホルムのピーク強度の積分値を除算した値と、ブタジエンの1,2−付加により生じるビニル基上の2つのプロトンとして帰属される4.1〜5.1ppmのピーク強度の積分値およびブタジエンの1,2−付加により生じるビニル基上の1つのプロトンと1,4−付加により生じる二重結合上の2つのプロトンとして帰属される5.1〜5.8ppmのピーク強度の積分値を用い、スチレン、ブタジエンのモル比を求め、スチレン、ブタジエンの分子量から質量比に換算した。求めたブタジエンの質量比を共役ジエン質量比の分析値として使用した。
装置名:ブルカー・バイオスピン製AVANCE−300
測定核種:1H
共鳴周波数:300MHz(1H)
測定溶媒:CDCl3
核磁気共鳴(NMR)を用いて1H−NMRを測定し、ポリスチレンの芳香環上のプロトン5つの内、オルト位の2つのプロトンとして帰属される6.2〜6.8ppmのピーク強度積分値から、プロトン5つに換算した値をブロック状スチレン量(ブロック状ビニル芳香族炭化水素量)Wとした。一方、パラ位とメタ位に付加した3つのプロトンとして帰属される6.8〜7.6ppmのピーク強度の積分値を含む、6.2〜7.6ppmのピーク強度の積分値から重クロロホルムのピーク強度の積分値を除算した値を全スチレン量(全ビニル芳香族炭化水素量)W0とした。求めたW、W0を下記定義式に代入し、ブロック率を算出した。なお、ブロック状スチレン量(ブロック状ビニル芳香族炭化水素量)は、5個以上のモノマー単位からなる連鎖とする。
ブロック率(%)=(W/W0)×100
装置名:ブルカー・バイオスピン製AVANCE−300
測定核種:1H
共鳴周波数:300MHz(1H)
測定溶媒:CDCl3
・重合例1
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1520mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン68.0kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は57℃まで上昇した。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン24.0kgを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。内温は53℃まで上昇した。
(5)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン6.0kgとスチレン102.0kgを同時に添加し、重合を完結させた。内温は105℃まで上昇した。
(6)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(7)この重合液を脱揮して、重合例1のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は159,000、Mw/Mnは1.010であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液4230mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン44.0kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は45℃まで上昇した。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン90.0kgとスチレン66.0kgを同時に添加し、重合を完結させた。内温は130℃まで上昇した。
(5)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(6)この重合液を脱揮して、重合例2のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は64,000、Mw/Mnは1.025であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液2050mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン15.6kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は51℃まで上昇した。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を50℃に下げ、1,3−ブタジエン48.0kgとスチレン65.2kgを同時に添加した。内温は104℃まで上昇した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、内温を70℃まで下げ、純水を14.0g加え、一部の重合活性末端を失活させた。
(6)反応系の内温を60℃に下げ、スチレン71.2kgを添加し、重合を完結させた。内温は87℃まで上昇した。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体2種類を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例3のブロック共重合体樹脂組成物を得た。ピークトップ分子量(Mp)および面積比は180,000/82,000=59.0%/41.0%、Mw/Mnは1.288であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1120mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン4.0kgを加え、内温を80℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を80℃に保ちながら、総量167.6kgのスチレン、および総量24.4kgの1,3−ブタジエンを、それぞれ83.8kg/h、12.2kg/hの一定添加速度で両者を同時に添加した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、4.0kgのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。内温は85℃まで上昇した。
(6)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(7)この重合液を脱揮して、重合例4のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は249,000、Mw/Mnは1.118であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1750mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン4.0kgを加え、内温を80℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を80℃に保ちながら、総量119.0kgのスチレン、および総量11.8kgの1,3−ブタジエンを、それぞれ100.8kg/h、10.0kg/hの一定添加速度で両者を同時に添加した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を70℃に下げ、36.4kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。内温は97℃まで上昇した。
(6)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を70℃に下げ、28.8kgのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。内温は83℃まで上昇した。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例5のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は125,000、Mw/Mnは1.021であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1920mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン50.0kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は55℃まで上昇した。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を80℃に保ちながら、総量45.0kgのスチレン、及び総量5.0kgの1,3−ブタジエンを、それぞれ90.0kg/h、10.0kg/hの一定添加速度で両者を同時に添加した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を50℃に下げ、66.0kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。内温は75℃まで上昇した。
(6)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を70℃に下げ、34.0kgのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。内温は85℃まで上昇した。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例6のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は150,000、Mw/Mnは1.015であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン490.0kg、THF73.5gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1650mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン35.7kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は58℃まで上昇した。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン8.9kgとスチレン69.3kgを同時に添加した。内温は104℃まで上昇した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、内温を50℃まで下げ、純水を5.5g加えた。
(6)反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン26.8kgとスチレン69.3kgを同時に添加し、重合を完結させた。内温は107℃まで上昇した。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例7のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)および面積比は199,000/73,000=74.6%/25.4%、Mw/Mnは1.349であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン490.0kg、THF73.5gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液950mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン105.0kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は73℃まで上昇した。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、n−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1160mLを加え、40℃に保った。
(5)スチレン23.1kgを加え、スチレンをアニオン重合させた。内温は52℃まで上昇した。
(6)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン33.6kgとスチレン48.3kgを同時に添加し、重合を完結させた。内温は100℃まで上昇した。
(6)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(7)この重合液を脱揮して、重合例8のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)および面積比は168,000/65,000=71.3%/28.7%、Mw/Mnは1.227であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン518.0kg、THF77.7gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液2200mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン18.2kgを加え、内温を65℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、5.5kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。
(5)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を35℃に下げ、1,3−ブタジエン56.4kgとスチレン101.9kgを同時に添加し、重合を完結させた。内温は120℃まで上昇した。
(6)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ポリブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(7)この重合液を脱揮して、重合例9のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は108,000、Mw/Mnは1.033であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1200mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン10.0kgを加え、内温を65℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、4.0kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。
(5)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を40℃に下げ、1,3−ブタジエン32.0kgとスチレン57.8kgを同時に添加した。内温は107℃まで上昇した。
(6)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を50℃に下げ、スチレン96.2kgを添加し、重合を完結させた。内温は91℃まで上昇した。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ポリブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例10のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は180,000、Mw/Mnは1.013であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1150mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン10.0kgを加え、内温を50℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、1,3−ブタジエン26.5kgとスチレン49.1kgを同時に添加し、重合を完結させた。内温は90℃まで上昇した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を50℃に下げ、スチレン103.9kgを添加し、重合を完結させた。内温は98℃まで上昇した。
(6)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、スチレンとブタジエンのテーパードブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(7)この重合液を脱揮して、重合例11のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は202,000、Mw/Mnは1.018であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液2190mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン8.0kgを加え、内温を80℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を80℃に保ちながら、総量106.4kgのスチレン、および総量12.2kgの1,3−ブタジエンを、それぞれ106.4kg/h、12.2kg/hの一定添加速度で両者を同時に添加した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を50℃に下げ、65.4kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。内温は95℃まで上昇した。
(6)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を85℃に下げ、8.0kgのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例12のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は120,000、Mw/Mnは1.014であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液1260mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン8.0kgを加え、内温を80℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を80℃に保ちながら、総量110.0kgのスチレン、および総量13.4kgの1,3−ブタジエンを、それぞれ87.8kg/h、10.7kg/hの一定添加速度で両者を同時に添加した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を75℃に下げ、18.6kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。内温は91℃まで上昇した。
(6)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を75℃に下げ、50.0kgのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。内温は97℃まで上昇した。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例13のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は206,000、Mw/Mnは1.021であった。
(1)反応容器中にシクロヘキサン500.0kg、THF75.0gを入れた。
(2)この中に重合開始剤溶液としてn−ブチルリチウムの10質量%シクロヘキサン溶液2370mLを加え、30℃に保った。
(3)スチレン8.0kgを加え、内温を80℃まで上昇させ、スチレンをアニオン重合させた。
(4)スチレンが完全に消費された後、反応系の内温を80℃に保ちながら、総量114.0kgのスチレン、および総量9.4kgの1,3−ブタジエンを、それぞれ121.3kg/h、10.0kg/hの一定添加速度で両者を同時に添加した。
(5)スチレンと1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を50℃に下げ、60.6kgの1,3−ブタジエンを加え、1,3−ブタジエンをアニオン重合させた。内温は95℃まで上昇した。
(6)1,3−ブタジエンが完全に消費された後、反応系の内温を85℃に下げ、8.0kgのスチレンを一括添加し、重合を完結させた。
(7)最後に全ての重合活性末端を水により失活させて、ポリスチレンブロック、ブタジエンブロック、スチレンとブタジエンのランダムブロックを持つ重合体を含む重合液を得た。
(8)この重合液を脱揮して、重合例14のブロック共重合体を得た。ピークトップ分子量(Mp)は113,000、Mw/Mnは1.014であった。
・配合例1〜16
重合例で得られたブロック共重合体を表1に示した配合比率で混ぜ、田端機械工業社製φ40mm単軸押出機HV−40−30を用い、押出温度200℃、スクリュー回転数100rpmで溶融混練し、ストランド状に押し出した樹脂組成物を冷却し、ペレタイザーにてペレットとした。それぞれの配合、共役ジエン質量比、ブロック率を表1に記した。
・シートの作製
先端に幅40cmのTダイを取り付けた田辺プラスチックス社製φ40mm単軸押出機VS40−26を用い、押出温度200℃、Tダイ温度200℃、スクリュー回転数50rpmにて、配合例の樹脂を用いてシート押出を実施し、田辺プラスチックス社製480型シーティング装置を用い、冷却ロール温度50℃でシート厚0.3mmの単層シートを作製した。シートの厚みはダイのリップ開度で調整し、シートの引き取り速度は一定とした。使用した樹脂について表2に記載した。
アイ・エレクトロンビーム社製電子線照射装置「CB250/30/180L」を用い、加速電圧250kV、吸収線量200kGyでシートに電子線を照射した。照射の有無について表2に記載した。
電子線未照射のシートについて、次の様に行った。シートの作製を開始してから15分後に、MD方向200mm、TD方向150mmのサンプルを3枚採取し、目視にて外観をチェックし、これらの平均を下記の様に1から4までの4段階で評価した。欠点とは樹脂の未溶融物もしくは劣化物が集中して発生している箇所、ブツは欠点以外の目視で確認可能な異物のことを表す。
4:欠点なし、ブツが4個以下
3:欠点なし、ブツが5個以上9個以下
2:欠点なし、ブツが10個以上14個以下
1:欠点あり、もしくはブツが15個以上
それぞれの評価結果を表2に記載した。
電子線照射前あるいは電子線照射後のシートについて、次の様に測定した。シートより任意に切り出した試験片2.0g(試験サンプル量)をトルエン200g中で48時
間撹拌もしくは振とう(シェイキング)し、これをろ過した。ろ過物をトルエンで十分に洗浄した後、ろ過物を60℃、0.02MPa下の真空乾燥機で24時間真空乾燥し、重量を測定することでトルエン不溶分とし、下記に示す式で計算した。
ゲル分率(質量%)=(トルエン不溶分/試験サンプル量)×100
それぞれの評価結果を表2に記載した。
耐溶剤性試験は次の様に行った。縦横17mm、深さ20mmの直方体形状の空間を有する治具を用意し、シート(0.3mm厚)よりMD方向×TD方向=10mm×50mmに切削した試験片を弓状にたわませて、直方体形状の空間へ挿入した。この際、試験片の両端が治具表面から同じ深さとなる様に位置させると共に、試験片の頂点が治具表面より15mm高い位置となる様に調整した(図1参照)。その頂点にスポイトでヤシ油もしくはトルエンを1滴垂らし、シートが割れるまでの時間を測定した。測定は目視で行い、割れを確認した段階で測定終了とした。測定は2回行い、割れるまでの時間がより早い値を採用した。測定は対象溶剤滴下から1時間後、3時間後、5時間後、10時間後、24時間後、48時間後とした。48時間後でも割れが発生しなかった場合は「>48」と表現した。
それぞれの評価結果を表2に記載した。
2 試験片
Claims (4)
- 下記(A)、(B)を満たす、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとのブロック共重合体からなる活性エネルギー線架橋性樹脂組成物。
(A)樹脂組成物中の共役ジエンの質量比が21〜29%である樹脂組成物。
(B)樹脂組成物中のビニル芳香族炭化水素のブロック率が80〜85%である樹脂組成物。 - 請求項1に記載の活性エネルギー線架橋性樹脂組成物を成形し、更に活性エネルギー線を照射した成形体。
- トルエンに対する不溶物の割合(ゲル分率)が38質量%以上61質量%以下である、請求項2に記載の成形体。
- 活性エネルギー線が紫外線、電子線のうち少なくとも一方である、請求項2または3に記載の成形体。
Priority Applications (1)
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---|---|
JP2014240461A true JP2014240461A (ja) | 2014-12-25 |
JP6174383B2 JP6174383B2 (ja) | 2017-08-02 |
Family
ID=52139869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013123311A Expired - Fee Related JP6174383B2 (ja) | 2013-06-12 | 2013-06-12 | 活性エネルギー線架橋性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6174383B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017039873A (ja) * | 2015-08-21 | 2017-02-23 | デンカ株式会社 | ブロック共重合体、その組成物及びそれを用いた熱収縮性フィルム |
WO2020026969A1 (ja) | 2018-08-01 | 2020-02-06 | デンカ株式会社 | ブロック共重合体組成物及びそれを用いてなる熱収縮フィルム、並びに熱収縮フィルムを備えた被包装体 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11158241A (ja) * | 1997-01-07 | 1999-06-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | ブロック共重合体、ブロック共重合体組成物及びその熱収縮性フィルム |
JP2000026698A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-25 | Denki Kagaku Kogyo Kk | ブロック共重合体組成物、及びその製造方法 |
JP2003033968A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱収縮性フィルム |
JP2004122514A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱収縮性多層フィルム |
JP2004162049A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-06-10 | Kuraray Co Ltd | ポリオレフィン系樹脂組成物およびその用途 |
JP2007154119A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | フィルム基材及び粘着テープ |
-
2013
- 2013-06-12 JP JP2013123311A patent/JP6174383B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11158241A (ja) * | 1997-01-07 | 1999-06-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | ブロック共重合体、ブロック共重合体組成物及びその熱収縮性フィルム |
JP2000026698A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-25 | Denki Kagaku Kogyo Kk | ブロック共重合体組成物、及びその製造方法 |
JP2003033968A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱収縮性フィルム |
JP2004122514A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 熱収縮性多層フィルム |
JP2004162049A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-06-10 | Kuraray Co Ltd | ポリオレフィン系樹脂組成物およびその用途 |
JP2007154119A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | フィルム基材及び粘着テープ |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017039873A (ja) * | 2015-08-21 | 2017-02-23 | デンカ株式会社 | ブロック共重合体、その組成物及びそれを用いた熱収縮性フィルム |
WO2020026969A1 (ja) | 2018-08-01 | 2020-02-06 | デンカ株式会社 | ブロック共重合体組成物及びそれを用いてなる熱収縮フィルム、並びに熱収縮フィルムを備えた被包装体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6174383B2 (ja) | 2017-08-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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