JP2014236055A - エッチング方法 - Google Patents
エッチング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014236055A JP2014236055A JP2013115577A JP2013115577A JP2014236055A JP 2014236055 A JP2014236055 A JP 2014236055A JP 2013115577 A JP2013115577 A JP 2013115577A JP 2013115577 A JP2013115577 A JP 2013115577A JP 2014236055 A JP2014236055 A JP 2014236055A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- etching
- etching method
- chamber
- fno
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 99
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 190
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 21
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 19
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 9
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 abstract description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 54
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 32
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 23
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 4
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000681 Silicon-tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67069—Apparatus for fluid treatment for etching for drying etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3205—Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
- H01L21/321—After treatment
- H01L21/3213—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer
- H01L21/32133—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by chemical means only
- H01L21/32135—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by chemical means only by vapour etching only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/12—Gaseous compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31105—Etching inorganic layers
- H01L21/31111—Etching inorganic layers by chemical means
- H01L21/31116—Etching inorganic layers by chemical means by dry-etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
図1は、本発明の実施形態に係るエッチング方法を実施するために用いられるエッチング装置を搭載した処理システムを示す概略構成図である。この処理システム1は、半導体ウエハ(以下、単にウエハと記す)Wを搬入出する搬入出部2と、搬入出部2に隣接させて設けられた2つのロードロック室(L/L)3と、各ロードロック室3にそれぞれ隣接して設けられた、ウエハWに対してPHT(Post Heat Treatment)処理を行なうPHT処理装置(PHT)4と、各PHT処理装置4にそれぞれ隣接して設けられた、ウエハWに対してノンプラズマエッチングを行なうエッチング装置5とを備えている。ロードロック室3、PHT処理装置4およびエッチング装置5は、この順に一直線上に並べて設けられている。
次に、このような処理システム1を用いた本実施形態のエッチング方法について説明する。
次に、実験例について説明する。
本実験例においては、SiO2上に、厚さ200nmのpoly−Si膜と、厚さ300nmのSiN膜を形成した複数のサンプルについて、図3に示した構成を有するエッチング装置を用い、ガス供給機構から、FNO/F2比を変化させて、F2ガス、FNOガス、N2ガスを供給し、載置台の温度を50〜200℃、チャンバー内の圧力を1〜100Torr(133.3〜13330Pa)の範囲でエッチングした。図6にこの際のFNOガスとF2ガスの体積比率とpoly−Si膜のSiN膜に対する選択比との関係を示す。なお、エッチング量は各膜の4点にて測定したこの条件でのSiNのエッチングレートは非常に小さく測定に誤差を含むため、0.1nm/minとし、ポリシリコンとの選択比を計算した。
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく種々変形可能である。例えば、上記実施形態の装置は一例に過ぎず、種々の構成の装置により本発明のエッチング方法を実施することができる。また、被処理基板として半導体ウエハを用いた場合について示したが、半導体ウエハに限らず、LCD(液晶ディスプレイ)用基板に代表されるFPD(フラットパネルディスプレイ)基板や、セラミックス基板等の他の基板であってもよい。
2;搬入出部
3;ロードロック室
4;PHT処理装置
5;エッチング装置
11;第1ウエハ搬送機構
17;第2ウエハ搬送機構
40;チャンバー
42;載置台
43;ガス供給機構
44;排気機構
90;制御部
W;半導体ウエハ
Claims (13)
- 被処理基板の表面に存在するシリコン部分を選択的にエッチングするエッチング方法であって、
チャンバー内に被処理基板を配置し、
前記チャンバー内にFNOガスおよびF2ガスを、不活性ガスで希釈して供給し、FNOガスおよびF2ガスを前記被処理基板の表面のシリコン部分と反応させることを特徴とするエッチング方法。 - 前記シリコン部分はポリシリコン膜であることを特徴とする請求項1に記載のエッチング方法。
- 前記被処理基板の前記シリコン部分をそれ以外の部分に対して高選択比でエッチングすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエッチング方法。
- 前記被処理基板は、前記シリコン部分に隣接して窒化シリコン部分を有し、前記シリコン部分を前記窒化シリコン部分に対して高選択比でエッチングすることを特徴とする請求項3に記載のエッチング方法。
- 前記FNOガスは、F2ガスとNOガスとの反応により生成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- 前記FNOガスの濃度は、体積比率で0.5〜3.0%であり、前記F2ガスの濃度は、体積比率で0.01〜3.0%であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- 前記FNOガスと前記F2ガスの体積比率は、30:1〜1:1の範囲であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- 前記不活性ガスは、N2ガス、Arガス、およびHeガスから選択された少なくとも一種であることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- 前記FNOガスおよび前記F2ガスとの合計と不活性ガスとの体積比率は、1:150〜1:10の範囲であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項の記載のエッチング方法。
- 前記エッチングを行う際に、前記チャンバー内で前記被処理基板を載置する載置台の温度を50〜200℃の範囲とすることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- 前記エッチングを行う際に、前記チャンバー内の圧力を1〜100Torrの範囲とすることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- FNOガスおよびF2ガスを前記被処理基板の表面のシリコン部分と反応させた後、前記被処理基板を別のチャンバー内で加熱処理して前記被処理基板上の反応生成物を除去することを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載のエッチング方法。
- コンピュータ上で動作し、エッチング装置を制御するためのプログラムが記憶された記憶媒体であって、前記プログラムは、実行時に、請求項1から請求項12のいずれかのエッチング方法が行われるように、コンピュータに前記エッチング装置を制御させることを特徴とする記憶媒体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013115577A JP6139986B2 (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | エッチング方法 |
KR1020140064601A KR101853522B1 (ko) | 2013-05-31 | 2014-05-28 | 에칭 방법 및 기억 매체 |
US14/290,036 US9012331B2 (en) | 2013-05-31 | 2014-05-29 | Etching method and non-transitory storage medium |
TW103118727A TWI594321B (zh) | 2013-05-31 | 2014-05-29 | Etching method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013115577A JP6139986B2 (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | エッチング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014236055A true JP2014236055A (ja) | 2014-12-15 |
JP6139986B2 JP6139986B2 (ja) | 2017-05-31 |
Family
ID=51985595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013115577A Active JP6139986B2 (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | エッチング方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9012331B2 (ja) |
JP (1) | JP6139986B2 (ja) |
KR (1) | KR101853522B1 (ja) |
TW (1) | TWI594321B (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014197603A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
JP2016152367A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | 国立大学法人名古屋大学 | エッチング装置およびエッチング方法 |
WO2018181104A1 (ja) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 関東電化工業株式会社 | ドライエッチング方法またはドライクリーニング方法 |
JP2020092135A (ja) * | 2018-12-04 | 2020-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 発光モニタ方法、基板処理方法、および基板処理装置 |
US10854463B2 (en) | 2016-08-22 | 2020-12-01 | Tokyo Electron Limited | Etching method and method for manufacturing DRAM capacitor |
JP2021509538A (ja) * | 2017-12-29 | 2021-03-25 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 3D NANDデバイスアプリケーションのための非プラズマ乾式処理によるSiO2に対するSiN選択的エッチング |
WO2022019103A1 (ja) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法およびエッチング装置 |
JP2022515063A (ja) * | 2018-12-20 | 2022-02-17 | レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 半導体プロセス用のf3noを含まないfnoガス及びf3noを含まないfnoガス混合物の貯蔵及び供給のためのシステム及び方法 |
WO2022085520A1 (ja) * | 2020-10-22 | 2022-04-28 | 昭和電工株式会社 | エッチング方法及び半導体素子の製造方法 |
WO2023017696A1 (ja) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 昭和電工株式会社 | エッチング方法及び半導体素子の製造方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016025195A (ja) * | 2014-07-18 | 2016-02-08 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
JP6494226B2 (ja) | 2014-09-16 | 2019-04-03 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
US10903083B2 (en) * | 2016-01-13 | 2021-01-26 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system |
JP6667354B2 (ja) * | 2016-04-15 | 2020-03-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
CN108847391B (zh) * | 2018-06-01 | 2021-06-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种非等离子干法刻蚀方法 |
JP7427155B2 (ja) * | 2019-08-23 | 2024-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 別の金属及び誘電体に対してチューニング可能な選択性を有するチタン含有材料層の非プラズマエッチング |
US20220285230A1 (en) * | 2021-03-05 | 2022-09-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | System and methods for controlling an amount of primer in a primer application gas |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01194327A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-04 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2004511088A (ja) * | 2000-09-25 | 2004-04-08 | 財団法人地球環境産業技術研究機構 | 反応器の内部をクリーニングするため、ならびにケイ素含有化合物の膜をエッチングするためのガス組成物 |
JP2005039185A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-02-10 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体処理装置、その被処理体処理方法、圧力制御方法、被処理体搬送方法、及び搬送装置 |
JP2008160000A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Tokyo Electron Ltd | ガス処理装置およびガス処理方法ならびに記憶媒体 |
JP2011233570A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2014060221A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | エッチング装置およびエッチング方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3298205B2 (ja) | 1992-03-25 | 2002-07-02 | ソニー株式会社 | ドライエッチング方法 |
US20080142039A1 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Advanced Technology Materials, Inc. | Removal of nitride deposits |
JP5210191B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-06-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 窒化珪素膜のドライエッチング方法 |
-
2013
- 2013-05-31 JP JP2013115577A patent/JP6139986B2/ja active Active
-
2014
- 2014-05-28 KR KR1020140064601A patent/KR101853522B1/ko active IP Right Grant
- 2014-05-29 US US14/290,036 patent/US9012331B2/en active Active
- 2014-05-29 TW TW103118727A patent/TWI594321B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01194327A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-04 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2004511088A (ja) * | 2000-09-25 | 2004-04-08 | 財団法人地球環境産業技術研究機構 | 反応器の内部をクリーニングするため、ならびにケイ素含有化合物の膜をエッチングするためのガス組成物 |
JP2005039185A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-02-10 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体処理装置、その被処理体処理方法、圧力制御方法、被処理体搬送方法、及び搬送装置 |
JP2008160000A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Tokyo Electron Ltd | ガス処理装置およびガス処理方法ならびに記憶媒体 |
JP2011233570A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2014060221A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | エッチング装置およびエッチング方法 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014197603A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
JP2016152367A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | 国立大学法人名古屋大学 | エッチング装置およびエッチング方法 |
US10854463B2 (en) | 2016-08-22 | 2020-12-01 | Tokyo Electron Limited | Etching method and method for manufacturing DRAM capacitor |
WO2018181104A1 (ja) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 関東電化工業株式会社 | ドライエッチング方法またはドライクリーニング方法 |
KR20190133012A (ko) | 2017-03-27 | 2019-11-29 | 칸토 덴카 코교 가부시키가이샤 | 드라이 에칭 방법 또는 드라이 클리닝 방법 |
US11814726B2 (en) | 2017-03-27 | 2023-11-14 | Kanto Denka Kogyo Co., Ltd. | Dry etching method or dry cleaning method |
US11584989B2 (en) | 2017-03-27 | 2023-02-21 | Kanto Denka Kogyo Co., Ltd. | Dry etching method or dry cleaning method |
JP2021509538A (ja) * | 2017-12-29 | 2021-03-25 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 3D NANDデバイスアプリケーションのための非プラズマ乾式処理によるSiO2に対するSiN選択的エッチング |
JP7026237B2 (ja) | 2017-12-29 | 2022-02-25 | レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 3D NANDデバイスアプリケーションのための非プラズマ乾式処理によるSiO2に対するSiN選択的エッチング |
JP2020092135A (ja) * | 2018-12-04 | 2020-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 発光モニタ方法、基板処理方法、および基板処理装置 |
JP7224160B2 (ja) | 2018-12-04 | 2023-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 発光モニタ方法、基板処理方法、および基板処理装置 |
JP7187700B2 (ja) | 2018-12-20 | 2022-12-12 | レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 半導体プロセス用のf3noを含まないfnoガス及びf3noを含まないfnoガス混合物の貯蔵及び供給のためのシステム及び方法 |
JP2022515063A (ja) * | 2018-12-20 | 2022-02-17 | レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 半導体プロセス用のf3noを含まないfnoガス及びf3noを含まないfnoガス混合物の貯蔵及び供給のためのシステム及び方法 |
JPWO2022019103A1 (ja) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | ||
WO2022019103A1 (ja) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法およびエッチング装置 |
JP7413542B2 (ja) | 2020-07-20 | 2024-01-15 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法およびエッチング装置 |
WO2022085520A1 (ja) * | 2020-10-22 | 2022-04-28 | 昭和電工株式会社 | エッチング方法及び半導体素子の製造方法 |
WO2023017696A1 (ja) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 昭和電工株式会社 | エッチング方法及び半導体素子の製造方法 |
TWI819706B (zh) * | 2021-08-10 | 2023-10-21 | 日商力森諾科股份有限公司 | 蝕刻方法及半導體元件之製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201511127A (zh) | 2015-03-16 |
US20140357085A1 (en) | 2014-12-04 |
KR20140141497A (ko) | 2014-12-10 |
KR101853522B1 (ko) | 2018-04-30 |
TWI594321B (zh) | 2017-08-01 |
JP6139986B2 (ja) | 2017-05-31 |
US9012331B2 (en) | 2015-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6139986B2 (ja) | エッチング方法 | |
TWI648791B (zh) | Etching method | |
TWI806835B (zh) | 蝕刻方法及dram電容器之製造方法 | |
JP2016143781A (ja) | エッチング方法 | |
JP6073172B2 (ja) | エッチング方法 | |
US10312079B2 (en) | Etching method | |
JP6097192B2 (ja) | エッチング方法 | |
JP6110848B2 (ja) | ガス処理方法 | |
JP2020053448A (ja) | エッチング方法、エッチング装置、および記憶媒体 | |
JP2016062947A (ja) | エッチング方法 | |
KR101716535B1 (ko) | 에칭 장치 및 에칭 방법 | |
JP2016012609A (ja) | エッチング方法 | |
JPWO2013183437A1 (ja) | ガス処理方法 | |
JP2015073035A (ja) | エッチング方法 | |
WO2015186461A1 (ja) | エッチング方法 | |
JP2020205304A (ja) | エッチング方法およびエッチング装置 | |
JP2014013841A (ja) | 処理方法およびコンデショニング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160328 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170414 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170425 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170428 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6139986 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |