JP2014224024A - ガラスおよび光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3の少なくとも一種上の成分を含むガラス原料を熔融容器内にて加熱、熔融し、熔融ガラスを得る熔融工程(i)において、熔融ガラス中の水分量を高める操作を行うガラスの製造方法。前記熔融ガラス中の水分量を高める操作が、熔融雰囲気に水蒸気を付加する処理および熔融物内に水蒸気を含むガスをバブリングする処理の少なくともいずれか一方により行われる。更に、前記熔融ガラスを前記熔融容器外に流出する工程(ii)、前記熔融ガラスを成形する工程(iii)を有し、前記工程(ii),(iii)の少なくともいずれか一つの工程を酸化性雰囲気下で行うガラスの製造方法。前記ガラスを酸化性雰囲気下で熱処理する工程(iv)を更に有するガラスの製造方法。
【選択図】なし
Description
〔1〕 TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の少なくとも一種以上の成分を含むガラス原料を熔融容器内にて加熱、熔融し、熔融ガラスを得る熔融工程(i)において、熔融ガラス中の水分量を高める操作を行うガラスの製造方法。
前記熔融ガラスを成形する工程(iii)をさらに有し、
前記工程(ii)および前記工程(iii)の少なくともいずれか一つの工程を酸化性雰囲気下で行う上記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載のガラスの製造方法。
前記工程(iv)を酸化性雰囲気下で行う上記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のガラスの製造方法。
前記ガラスを、さらに成形または加工する工程と、を有する光学素子の製造方法。
すなわち、本実施形態のガラスの製造方法は、好ましくは、
調合材料を熔融してカレットを得るラフメルト工程と、前記カレットを再熔融してガラスを得るリメルト工程と、を有し、
前記ラフメルト工程および前記リメルト工程のうち少なくともいずれか一方において、熔融ガラス中の水分量を高める操作を行うことを特徴とする。
βOH=−[ln(B/A)]/t ・・・(1)
βOH≧0.4891×ln(1/HR)+2.48 ・・・(1−2)
βOH≧181.39×nd−3−325.75×nd−2+194.85×nd−1−38.1 ・・・(1−3)
以下、特記しない限り、ガラス成分の含有量、合計含有量、添加剤の含有量は酸化物換算のモル%で表示する。
次に、本実施態様における好ましいガラス組成について説明する。
本実施形態の製造方法により得られるガラスの用途は、特に限定されるものではないが、例えば光学ガラスとして好適に用いることができる。本実施形態の製造方法により作製した光学ガラスを使用して光学素子を作るには、公知の方法を適用すればよい。例えば、熔融ガラスを成形してプレス成形用ガラス素材を作製する。次に、このガラス素材を再加熱、プレス成形して光学素子ブランクを作製する。さらに光学素子ブランクの研磨を含む工程により加工して光学素子を作製する。
あるいは、熔融ガラスを成形してプレス成形用ガラス素材を作製し、このガラス素材を加熱、精密プレス成形して光学素子を作製する。
あるいは、熔融ガラスを成形してガラス成形体を作製し、この成形体を加工して光学素子を作製する。
光学素子としては、球面レンズ、非球面レンズ、マクロレンズ、レンズアレイなどの各種レンズ、プリズム、回折格子などを例示することができる。
以下、本実施形態の実施の別形態として、光学ガラスの製造方法を説明する。なお、下記の光学ガラスの製造方法は、好ましい別形態の一つであって、本発明のガラスの製造方法は、下記の光学ガラスの製造方法に限定されるものではない。
logτ=−(logT1−logT2)×10/Δd ・・・(2)
λτ80>aX+b ・・・(3)
なお、式(3)中、aは、定数(1.8359nm/mol%)を表し、bは、定数(351.06nm)を表す。
λτ80<aX+b ・・・(4)
なお、式(4)中、aおよびbは式(3)に示したものと同様である。
λτ80<aX+c ・・・(5)
λτ80<aX+d ・・・(6)
ここで式(5)中、aは式(3)に示したものと同様であり、cは定数(348.06nm)を表す。また、式(6)中、aは式(3)に示したものと同様であり、dは定数(345.06nm)を表す。
[バッチ原料の調製]
まず、所望の特性を備えた光学ガラスを作製するにあたり、ガラスの原材料として、リン酸、メタリン酸バリウム、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タングステン、酸化ビスマス、ホウ酸、炭酸バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび酸化ケイ素をそれぞれ準備した。次に、最終的に得られる光学ガラスのガラス組成が、表2に示す酸化物組成I〜VIIIとなるように、上記原材料を適宜選択、秤量し、十分混合してバッチ原料I〜VIIIを作製した。
調合されたバッチ原料I〜VIIIを、各光学ガラスのガラス原料とした。このガラス原料を石英製坩堝に投入し、大気雰囲気中で900〜1350℃で熔解して熔融物を得た。このようにして得られた熔融物を水中に滴下してカレットを得た。
次に、調合カレットを白金製坩堝(熔融容器)に投入し、800〜1350℃の範囲内で白金製坩堝内の調合カレットを加熱、熔融し、熔融ガラスとした(熔融工程)。
得られた光学ガラスサンプル(試料11〜試料84)の各種物性は、以下のように測定、評価した。
光学ガラスサンプルを適量採取し、これを酸およびアルカリ処理し、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP−MS法)、イオンクロマトグラフフィー法を用いて、各成分の含有量を定量することで測定し、酸化物組成I〜VIIIと一致していることを確認した。
光学ガラスサンプルを作製する際の、均質化工程を経た熔融ガラスを、鋳型に鋳込んで成形し、ガラス転移温度付近の温度で保持した後、10℃/時の降温速度で冷却し、測定用試料を作製した。得られた測定用試料について、日本光学硝子工業会規格で定められた屈折率測定法により、屈折率nd、ng、nF、ncを測定した。さらに、これら屈折率の測定値より、アッベ数νdを算出した。
光学ガラスサンプルを加工して、両面が互いに平行かつ平坦に光学研磨された厚さ1mmの板状ガラス試料を準備した。この板状ガラス試料の研磨面に垂直方向から光を入射して、波長2500nmにおける外部透過率Aおよび波長2900nmにおける外部透過率Bを、分光光度計を用いてそれぞれ測定し、下記式(1)により、βOHを算出した。
βOH=−[ln(B/A)]/t ・・・(1)
光学ガラスサンプルを、大気雰囲気中で、+100℃/時の速度で昇温し、所定の保持温度で100時間保持して、−30℃/時の速度で降温して、熱処理した。なお、保持温度は、組成に応じて異なるため、それぞれの光学ガラスサンプルの酸化物組成に応じて、表5に示す温度とした。
光学ガラスサンプルを適量採取し、これをアルカリ融解して、Ptを分離する処理した後、ICP−MS法によりガラス中のPt量を定量した。結果を表7に示す。
まず、光学ガラスサンプルを、T450(H)の場合と同様の条件で熱処理した。
熱処理後の光学ガラスサンプルを加工して、両面が互いに平行かつ平坦に光学研磨された厚さ10mm±0.1mmの板状ガラス試料を準備した。この板状ガラス試料の研磨面に垂直方向から光を入射して、波長280nm〜700nmの範囲で表面反射損失を含む分光透過率を、分光光度計を用いて測定し、分光透過率(外部透過率)が80%および70%になる波長を、それぞれ着色度λ80およびλ70とした。λ80およびλ70の値は、いずれも小さいほど、ガラスの着色が少ないことを意味する。結果を表7に示す。なお、λ80により評価した試料については、表7に示す結果に下線を付した。
光学ガラスサンプルを作製する際の、均質化工程を経た熔融ガラスを、0.5〜0.7cc採取し、浮上成形用の鋳型(熔融ガラスを受ける凹部が多孔質体で形成され、多孔質体を通して凹部表面からガスが噴出する構造になっている鋳型)の凹部に流し込み、凹部からガスを噴出し、凹部上の熔融ガラス塊に上向きの風圧を加え、ガラス塊を浮上状態で成形した。
光学ガラスサンプルを作製する際の、清澄工程を開始する前の熔融ガラス(ガラス融液)を40cc採取し、大気中で別の白金坩堝で一定時間清澄し、ガラス融液を白金坩堝中で冷却し、固化させた。この過程で、ガラス中に含まれる泡の数をカウントできる程度に着色を低減した。次に固化したガラスを白金坩堝から取り出した。
ガラス原料として、バッチ原料Vに酸化アンチモン(Sb2O3)を添加した以外は、実施例1の試料51〜試料56と同様の条件で光学ガラスサンプルを作製した(試料51a〜試料56a)。酸化アンチモンの添加量を表8に示す。なお、単位は、バッチ原料100質量%に対するppmである。
得られた光学ガラスサンプル(試料51a〜試料56a)の各種物性は、実施例1の場合と同様の条件により測定、評価した。
実施例1の試料55と同様の方法で作製された熔融ガラス(流出工程を開始する直前の熔融ガラス)を、大気雰囲気中で、流出し(流出工程)、鋳型に流し込んで成形し(成形工程)、−100℃/時の降温速度でアニール(アニール工程)し、光学ガラスサンプル(試料55b)を作製した。
[9]分光透過率
光学ガラスサンプルを加工して、両面が互いに平行かつ平坦に光学研磨された同じ厚みの板状ガラス試料を準備した。この板状ガラス試料の研磨面(板厚方向)に垂直方向から光を入射して、波長280nm〜700nmの範囲で表面反射損失を含む分光透過率を、分光光度計を用いて測定した。結果を図4に示す。図4の横軸は波長、縦軸は外部透過率である。
実施例1〜3で作製した光学ガラスサンプル(ガラスブロック)を分割し、必要に応じて、さらに加工を施し、各光学ガラスに対応するプレス成形用ガラス素材を得た。
(実施例A1〜A6および実施例B1〜B6)
バッチ原料を粗熔解してカレットを作製し、カレットを白金製坩堝に入れて加熱、熔融、成形して、表1に示すNo.1〜No.4の組成の各光学ガラスを以下の手順で作製した。まず最初に、リン酸塩、正リン酸、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩を秤量し、十分混合して調合した原料(バッチ原料)とした。次に、このバッチ原料を石英製容器に入れて、No.1およびNo.2のガラスについては液相温度LT〜1400℃の範囲で加熱し、No.3およびNo.4のガラスについては液相温度LT〜1300℃の範囲で加熱することで、熔融ガラスとし、この熔融ガラスを水中に滴下してカレット原料を作製した。
熔融容器に蓋をせず開放状態とした以外は実施例A1〜A3と同様にしてガラスブロック(光学ガラス用素材)を作製した後、実施例A1〜A6と同様にして熱処理を行った。しかしながら、熱処理されたガラスブロック(光学ガラス)の着色度合は、実施例A1〜A6よりも大きかった。
熔融容器に蓋をせず開放状態とした以外は実施例B1〜B3と同様にしてガラスブロック(光学ガラス用素材)を作製した後、実施例B1〜B6と同様にして熱処理を行った。しかしながら、熱処理されたガラスブロック(光学ガラス)の着色度合は、実施例B1〜B6よりも大きかった。
熔融容器内に水蒸気の代わりに窒素ガスを導入した以外は実施例A4〜A6と同様にしてガラスブロック(光学ガラス用素材)を作製した後、実施例A1〜A6と同様にして熱処理を行った。しかしながら、熱処理したガラスブロック(光学ガラス)の着色度合は、比較例A1のガラスブロック(光学ガラス)よりも非常に大きくなった。
熔融容器内に水蒸気の代わりに窒素ガスを導入した以外は実施例B4〜B6と同様にしてガラスブロック(光学ガラス用素材)を作製した後、実施例B1〜B6と同様にして熱処理を行った。しかしながら、熱処理したガラスブロック(光学ガラス)の着色度合は、比較例B1のガラスブロック(光学ガラス)よりも非常に大きくなった。
熔融容器内に水蒸気の代わりに一酸化炭素ガスなどの還元性ガスを導入した以外は実施例A4〜A6と同様にしてガラスブロック(光学ガラス用素材)を作製した後、実施例A1〜A6と同様にして熱処理を行った。しかしながら、熱処理したガラスブロック(光学ガラス)の着色度合は、比較例1のガラスブロック(光学ガラス)よりも非常に大きくなった。
表11に、各実施例および比較例で作製したガラスブロックの熱処理前後の着色度合の観察結果を示す。なお、着色度合は、白色の用紙上に、平面形状が略円形状のガラスブロックを配置して、室内光下にて目視観察することにより評価した。なお、観察に用いたいずれの実施例および比較例のガラスブロックも厚みはほぼ同じである。また、表11中に示す透明度の評価基準は以下の通りである。A:ガラスブロック(光学ガラス)が薄く着色しているものの、ガラスブロック(光学ガラス)の下方に位置する用紙の白さも十分に認識できる程に透明度が高い(高透明度)。B:ガラスブロック(光学ガラス)が着色しているが、ガラスブロック(光学ガラス)の下方に位置する用紙は十分に認識できる程度の透明度はある(中透明度)。C:ガラスブロック(光学ガラス)が濃く着色しており、ガラスブロック(光学ガラス)の下方に位置する用紙が僅かに認識できる程度の低い透明度しかない(低透明度)。D:ガラスブロック(光学ガラス)は完全に不透明であり、ガラスブロック(光学ガラス)の下方に位置する用紙の存在は全く認識できない(不透明)。
実施例A1〜A6、B1〜B6および比較例A1、A2、B1、B2、3で用いた熱処理後のガラスブロックのうち、透明度の評価がDのものを除いてガラスブロックの内部を光学顕微鏡により観察した。その結果、いずれのガラスブロックにおいてもその内部に、混入した白金異物および析出した結晶は確認されなかった。また、実施例A1〜A6、B1〜B6および比較例A1、A2、B1、B2、3で用いたガラスブロック中の白金溶解量をICP発光分光法により測定したところ、いずれも2ppm未満であった。
(実施例7)
実施例A1〜A6および実施例B1〜B6で作製した光学ガラスをプレス成形用ガラス素材に加工し、加熱、軟化してプレス成形し、光学素子ブランクを作製した。さらに光学素子ブランクを加工して球面レンズ、プリズムなどの光学素子を作製した。さらにレンズ表面、プリズム表面に反射防止膜をコートして最終製品を得た。表1に記載のNo.2およびNo.4の光学ガラスについても同様にしてプレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子を作製した。
本実施の別形態の好ましいものは、熔融ガラスを得るために、熔融容器内にてガラス原料を加熱・熔融する加熱・熔融工程と、
前記熔融容器内の前記熔融ガラスを所定の形状に成形する成形工程とを、少なくとも経ることにより、
ガラス成分として、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3から選択される少なくとも1種の酸化物を含む酸化物ガラスであり、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の合計含有量が30mol%以上である光学ガラス用素材を製造し、
前記加熱・熔融工程において、前記熔融容器内に水分を供給することを特徴とする光学ガラス用素材の製造方法である。
前記熔融容器内の前記熔融ガラスを所定の形状に成形する成形工程とを、少なくとも経ることにより、
ガラス成分として、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3から選択される少なくとも1種の酸化物を含む酸化物ガラスであり、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の合計含有量が30mol%以上である光学ガラス用素材を製造し、
前記ガラス原料が水分を含むとともに、
前記加熱・熔融工程において、前記熔融容器が略密閉されることを特徴とする光学ガラス用素材の製造方法である。
前記光学ガラス用素材に含まれるP2O5の含有量が、10mol%〜35mol%の範囲内であることが好ましい。
λτ80<aX+b ・・・(4)
〔式(4)中、λτ80は、前記光学ガラスに対してその厚み方向と平行に光を入射した際の波長280〜700nmの範囲における内部透過率を測定した後、当該測定された内部透過率に基づいて前記光学ガラスの厚みが10mmであると仮定して計算した内部透過率が、80%となる波長(nm)を表し、aは、定数(1.8359nm/mol%)を表し、bは、定数(351.06nm)を表し、Xは、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の合計含有量(mol%)を表す。〕
λτ80<aX+b ・・・(4)
〔式(4)中、λτ80は、前記光学ガラスに対してその厚み方向と平行に光を入射した際の波長280〜700nmの範囲における内部透過率を測定した後、当該測定された内部透過率に基づいて前記光学ガラスの厚みが10mmであると仮定して計算した内部透過率が、80%となる波長(nm)を表し、aは、定数(1.8359nm/mol%)を表し、bは、定数(351.06nm)を表し、Xは、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の合計含有量(mol%)を表す。〕
λτ80<aX+b ・・・(4)
〔式(4)中、λτ80は、前記光学ガラスに対してその厚み方向と平行に光を入射した際の波長280〜700nmの範囲における内部透過率を測定した後、当該測定された内部透過率に基づいて前記光学ガラスの厚みが10mmであると仮定して計算した内部透過率が、80%となる波長(nm)を表し、aは、定数(1.8359nm/mol%)を表し、bは、定数(351.06nm)を表し、Xは、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の合計含有量(mol%)を表す。〕
Claims (10)
- TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3の少なくとも一種以上の成分を含むガラス原料を熔融容器内にて加熱、熔融し、熔融ガラスを得る熔融工程(i)において、熔融ガラス中の水分量を高める操作を行うガラスの製造方法。
- 前記ガラス原料が、TiO2、Nb2O5、WO3およびBi2O3を合計で20モル%以上含む請求項1に記載のガラスの製造方法。
- 前記熔融ガラス中の水分量を高める操作が、熔融雰囲気に水蒸気を付加する処理および熔融物内に水蒸気を含むガスをバブリングする処理の少なくともいずれか一方により行われる請求項1または2に記載のガラスの製造方法。
- 前記熔融容器が金属材料からなる請求項1〜3のいずれかに記載のガラスの製造方法。
- 前記熔融工程(i)における熔融容器内の酸素分圧が、大気中の酸素分圧よりも低い請求項1〜4のいずれかに記載のガラスの製造方法。
- 前記熔融ガラスを前記熔融容器外に流出する工程(ii)、
前記熔融ガラスを成形する工程(iii)をさらに有し、
前記工程(ii)および前記工程(iii)の少なくともいずれか一つの工程を酸化性雰囲気下で行う請求項1〜5のいずれかに記載のガラスの製造方法。 - 前記ガラスを熱処理する工程(iv)をさらに有し、
前記工程(iv)を酸化性雰囲気下で行う請求項1〜6のいずれかに記載のガラスの製造方法。 - 前記酸化性雰囲気が、大気雰囲気、または大気よりも酸素分圧が高い雰囲気である請求項6または7に記載のガラスの製造方法。
- 前記ガラスが、リン酸ガラスである請求項1〜8のいずれかに記載のガラスの製造方法。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の製造方法によりガラスを製造する工程と、
前記ガラスを、さらに成形または加工する工程と、を有する光学素子の製造方法。
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