JP2014208615A - アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 - Google Patents
アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014208615A JP2014208615A JP2014060047A JP2014060047A JP2014208615A JP 2014208615 A JP2014208615 A JP 2014208615A JP 2014060047 A JP2014060047 A JP 2014060047A JP 2014060047 A JP2014060047 A JP 2014060047A JP 2014208615 A JP2014208615 A JP 2014208615A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- curable resin
- resin composition
- represented
- formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 115
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 100
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 35
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 19
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 21
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 19
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 9
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 8
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 4
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 22
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 20
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 abstract description 12
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 55
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 30
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 24
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 23
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 20
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 18
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- -1 dimethylsiloxane Chemical class 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 13
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 12
- 239000004954 Polyphthalamide Substances 0.000 description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 11
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 11
- 229920006375 polyphtalamide Polymers 0.000 description 11
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 11
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 6
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 5
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 3
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006128 poly(nonamethylene terephthalamide) Polymers 0.000 description 3
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical class OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZBOVSFWWNVKRJ-UHFFFAOYSA-M 2-butoxycarbonylbenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O YZBOVSFWWNVKRJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZZPECHJKDVTOI-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethoxybut-1-enylsilane Chemical compound COC(CC=C[SiH3])OC MZZPECHJKDVTOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000709029 Toxoplasma gondii Rhomboid-like protease 5 Proteins 0.000 description 2
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000005410 aryl sulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000010227 cup method (microbiological evaluation) Methods 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003870 salicylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- QRVASEIATBVCRN-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butyl-4-methylcyclohexa-1,5-dien-1-yl) dihydrogen phosphite Chemical compound P(O)(O)OC1=C(CC(C=C1)(C)C(C)(C)C)C(C)(C)C QRVASEIATBVCRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGHOOJSIEHYJFQ-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butylphenyl) dihydrogen phosphite Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(OP(O)O)C(C(C)(C)C)=C1 FGHOOJSIEHYJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNFXPOAMRORRJJ-UHFFFAOYSA-N (4-octylphenyl) 2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O VNFXPOAMRORRJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSGBKZKXUMMHS-VGKOASNMSA-L (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;propan-2-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O OVSGBKZKXUMMHS-VGKOASNMSA-L 0.000 description 1
- FAVPODGHHWPOED-LJDKTGGESA-N (z)-but-2-enedioic acid;dibutyltin Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.CCCC[Sn]CCCC FAVPODGHHWPOED-LJDKTGGESA-N 0.000 description 1
- SRSBLJRQFZJCMA-BFIADXHOSA-N (z)-but-2-enedioic acid;dioctyltin Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC SRSBLJRQFZJCMA-BFIADXHOSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STHGLRYNMROMHZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)-11-methyl-3-(8-methylnonyl)dodecane-1,3-diol Chemical compound C(CCCCCCC(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)CCCCCCCC(C)C STHGLRYNMROMHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYJHYLAMMJNRC-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-ol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)O BSYJHYLAMMJNRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVUXDWXKPROUDO-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 BVUXDWXKPROUDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSOMHEOIWBKOPF-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-[(6-oxobenzo[c][2,1]benzoxaphosphinin-6-yl)methyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CP2(=O)C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3O2)=C1 WSOMHEOIWBKOPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butan-2-yl]-2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(C)CC(C=1C(=CC(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAAQJFLUOUQAOG-UHFFFAOYSA-N 4-benzyl-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=CC=CC=2)=C1 ZAAQJFLUOUQAOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONTIGGPRJSEVGB-UHFFFAOYSA-N 6-decoxybenzo[c][2,1]benzoxaphosphinine 6-oxide Chemical compound C1=CC=C2P(OCCCCCCCCCC)(=O)OC3=CC=CC=C3C2=C1 ONTIGGPRJSEVGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRNSOYXKABLGT-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OCCCCCCCC(C)C)OC1=CC=CC=C1 ADRNSOYXKABLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002018 Aerosil® 300 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004255 Butylated hydroxyanisole Substances 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000284156 Clerodendrum quadriloculare Species 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000512299 Nerita Species 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXKAQJSSFQIFN-UHFFFAOYSA-N [Al+3].C(=O)=C1C(C=CC=C1)[O-].C(=O)=C1C(C=CC=C1)[O-].C(=O)=C1C(C=CC=C1)[O-] Chemical compound [Al+3].C(=O)=C1C(C=CC=C1)[O-].C(=O)=C1C(C=CC=C1)[O-].C(=O)=C1C(C=CC=C1)[O-] ARXKAQJSSFQIFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dioctyl)stannyl] acetate Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCCCCC CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 125000005452 alkenyloxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005082 alkoxyalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 1
- CSJKPFQJIDMSGF-UHFFFAOYSA-K aluminum;tribenzoate Chemical compound [Al+3].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 CSJKPFQJIDMSGF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical group [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Chemical group 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical group [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)(CCCC)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXXILWLQSQDLDL-UHFFFAOYSA-N bis(8-methylnonyl) phenyl phosphite Chemical compound CC(C)CCCCCCCOP(OCCCCCCCC(C)C)OC1=CC=CC=C1 SXXILWLQSQDLDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N butylated hydroxyanisole Chemical compound COC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1.COC1=CC=C(O)C=C1C(C)(C)C CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043253 butylated hydroxyanisole Drugs 0.000 description 1
- 235000019282 butylated hydroxyanisole Nutrition 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000011951 cationic catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- KEEBIZOZZGQJHM-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yl)azanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound CC(C)[NH2+]C(C)C.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F KEEBIZOZZGQJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- BZPQWSADDIRASD-UHFFFAOYSA-N dibutyltin dimethyl 2-hydroxybutanedioate Chemical compound COC(C(O)CC(=O)OC)=O.C(CCC)[Sn]CCCC BZPQWSADDIRASD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQFUDJAIEHGNIX-UHFFFAOYSA-M dibutyltin(1+);acetate Chemical compound CCCC[Sn](OC(C)=O)CCCC HQFUDJAIEHGNIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- GHOPTXGTPKQQFP-UHFFFAOYSA-N ethyl-di(propan-2-yl)azanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F.CCN(C(C)C)C(C)C GHOPTXGTPKQQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- BVBRZOLXXOIMQG-UHFFFAOYSA-N fluoroborane Chemical compound FB BVBRZOLXXOIMQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229940049920 malate Drugs 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N malic acid Chemical compound OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BGIBIBGZOYSFSC-UHFFFAOYSA-N n-ethylethanamine;trifluoromethanesulfonic acid Chemical compound CCNCC.OS(=O)(=O)C(F)(F)F BGIBIBGZOYSFSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZCZZWSFIAHGAD-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-[3-tert-butyl-4-[[2-tert-butyl-6-methyl-4-(3-octadecoxy-3-oxopropyl)phenoxy]-hydroxyphosphanyl]oxy-5-methylphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)=CC(C)=C1OP(O)OC1=C(C)C=C(CCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)C=C1C(C)(C)C FZCZZWSFIAHGAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSWFWSPPZMEYAY-UHFFFAOYSA-N octadecyl dihydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)O CSWFWSPPZMEYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- JTQPTNQXCUMDRK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;titanium(2+) Chemical compound CC(C)O[Ti]OC(C)C JTQPTNQXCUMDRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/14—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Abstract
【解決手段】下記化合物(a)と化合物(b)とのヒドロシリル化反応により得られる、アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物。
化合物(a)1分子中にSiHを2個以上有する、シルセスキオキサン誘導体。
化合物(b)1分子中にアルコキシシリルと、炭素数が2〜18のアルケニルとを有する化合物。
【選択図】なし
Description
1.下記化合物(a)と化合物(b)とのヒドロシリル化反応により得られる、アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物。
化合物(a)1分子中にSiHを2個以上有する、シルセスキオキサン誘導体。
化合物(b)1分子中にアルコキシシリルと、炭素数が2〜18のアルケニルとを有する化合物。
2.前記化合物(a)が、下記式(a−1)〜(a−5)で表されるシルセスキオキサン誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、前記化合物(b)が式(b−1)で表される化合物である前項1に記載のケイ素化合物。
4.前記化合物(b)が、下記式(b−1−1)〜式(b−1−6)、式(b−2−1)〜式(b−2−2)および(b−3−1)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である前項1〜3のいずれか1項に記載のケイ素化合物。
5.下記(A)〜(D)を含む硬化性樹脂組成物。
(A)前項1〜4のいずれか1項に記載の、アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物
(B)ケイ素を分子内に含有しないエポキシおよび/またはオキセタン樹脂
(C)シランカップリング剤 (D)硬化剤
6.前記(A)で示されるケイ素化合物が下記式(α−I)〜(α−V)で示されるシルセスキオキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種である前項5に記載の硬化性樹脂組成物。
7.前記(A)で示されるケイ素化合物が下記式(α1)〜(α8)で示されるシルセスキオキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種である前項5または6に記載の硬化性樹脂組成物。
8.前記(D)で示される硬化剤が光または熱カチオン重合開始剤、金属キレート塩、有機金属である前項5〜7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
9.さらにナノ補強材を含む前項5〜8のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
10.さらに蛍光体を含む前項5〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
11.前記蛍光体がLED用蛍光体である前項10に記載の硬化性樹脂組成物。
12.前項5〜11のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含むLED封止材。
13.前項5〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含むシール材。
14.前項5〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を基材に塗布して、加熱または光照射により硬化して得られるフィルム状、シート状または塗膜状の硬化物。
15.前項14に記載の硬化物を含む絶縁膜。
本発明の硬化性樹脂組成物は、加熱または光照射により硬化することが可能な、(A)ケイ素化合物、(B)ケイ素を分子内に含有しないエポキシおよび/またはオキセタン樹脂、(C)シランカップリング剤、並びに(D)硬化剤を含む。
本発明の硬化性樹脂組成物はアルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物を含む。アルコキシシリルを有するケイ素化合物は、以下の化合物(a)と化合物(b)とのヒドロシリル化反応により得られる。
化合物(a)1分子中にSiHを2個以上有する、シルセスキオキサン誘導体。
化合物(b)1分子中にアルコキシシリルと、炭素数が2〜18のアルケニルとを有する化合物。
本発明の硬化性樹脂組成物は、ケイ素を分子内に含有しないエポキシおよび/またはオキセタン樹脂を含む。なお、本発明においては、4員環の環状エーテルであるオキセタン化合物またはオキセタン樹脂も含めてエポキシ樹脂と称することがある。
本発明の硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤を含む。シランカップリング剤を含むことにより、上記(A)のケイ素化合物および(B)のケイ素を分子内に含有しないエポキシ樹脂および/またはオキセタン樹脂と架橋を形成し、架橋密度の高い硬化物が得られるため、ガスバリア性を向上できる。また、適宜シランカップリング剤を選択することで基材との密着性を向上することができる。さらに、ナノ構造体および蛍光体の分散性を高めることができる。シランカップリング剤としては、例えば、下記一般式で示される化合物が挙げられる。
硬化剤は、用いる(A)アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物の種類によって適宜選択すればよく、例えば、上記式(a−1)〜式(a−5)を用いる場合、これらの式中のXの種類によって適宜選択することができるが、カチオン重合開始剤または金属キレート化合物または有機金属化合物が好ましく用いられる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、上記(A)〜(D)で示される成分に加えてナノ補強材を含有してもよい。ナノ補強材としては、例えば、ナノシリカフィラーが挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、上記(A)〜(D)で示される成分に加えて蛍光体を含有してもよい。蛍光体は、発光ダイオード(LED)用の蛍光体として用いられている無機粒子であることが好ましく、LED用蛍光体であることがより好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いる蛍光体は、分散性、透明性、耐候性および耐湿性等を向上させるために、前記シランカップリング剤によって、表面処理することが好ましい。これらのシランカップリング剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせと比率で併用してもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、さらに有機溶剤を含んでもよい。ここで、有機溶剤としては、例えば、ヘキサンおよびヘプタンなどの炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン(THF)およびジオキサンなどのエーテル系溶剤、塩化メチレンおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶剤、酢酸エチルなどのエステル系溶剤、並びにアセトンおよび2−ブタノンなどのケトン系溶剤が挙げられる。これらの溶剤は単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物には、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤を添加することにより、加熱時の酸化劣化を防止し着色の少ない硬化物とすることができる。酸化防止剤の例は、フェノール系、硫黄系およびリン系の酸化防止剤である。
本発明の硬化性樹脂組成物には、基材との密着性を向上させるため、イソシアヌル環を有するシランカップリング剤を接着助剤として任意の添加量を必要に応じて加えることが好ましい。イソシアヌル環を有するシランカップリング剤の例としては、以下の化合物が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物には、耐光性を向上させるために紫外線吸収剤を配合してもよい。紫外線吸収剤としては、一般のプラスチック用の紫外線吸収剤が使用できる。本発明の硬化性樹脂組成物における配合割合は、硬化性樹脂組成物全量を基準とする質量比で0.0001〜0.1であることが好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物は、例えば、以下の方法で作製できる。
(A)アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物、任意の量の(B)ケイ素を分子内に含有しないエポキシおよび/またはオキセタン樹脂、表面処理された蛍光体、任意の量のシランカップリング剤および安定剤を混合する(I)液。
(D)硬化剤と任意の量の(B)ケイ素を分子内に含有しないエポキシおよび/またはオキセタン樹脂および(C)シランカップリング剤、さらに必要に応じて上記有機溶剤を混合する(II)液。
下記式により化合物(A1)を製造した。
下記式により化合物(A2)を製造した。
下記式により化合物(A3)を製造した。
下記式により化合物(A4)を製造した。
下記式により化合物(A5)を製造した。
下記式により化合物(A6)を製造した。
下記式により化合物(A7)を製造した。
下記式により化合物(A8)を製造した。
下記式により化合物(A9)を製造した。
化合物(A10)を製造した。
内容積300mLのナスフラスコに、合成例1で合成した化合物(A1)(10g)、日産化学(株)製シリカゾルIPA−ST(製品名;6.67g)を仕込み、47℃で12時間加熱撹拌し、表面修飾されたナノシリカ溶液を(A11)を得た。
・合成例1〜11で製造した化合物(A1)〜(A11)
・下記式(β)に示す、脂環式エポキシ基を有するシルセスキオキサンである化合物(B);比較例として使用
・熱カチオン重合開始剤:サンアプロ(株)製[TA100(商品名)]〔分子内にベンゼン環およびケイ素原子を含まないエポキシ樹脂〕
・(株)ダイセル製エポキシ樹脂[セロキサイド(商品名)CEL2021P]
・三菱化学(株)製エポキシ樹脂[jER(商品名)YX8000]
・東亞合成(株)製オキセタン樹脂[アロンオキセタン(商品名)OXT−221]〔安定剤〕
・BASFジャパン(株)製酸化防止剤[IRGANOX1010(商品名)]
・BASFジャパン(株)製酸化防止剤[IRGAFOS168(商品名)](セロキサイド、アロンオキセタン、IRGANOX、IRGAFOSは登録商標)
スクリュー管に合成例1〜11で合成した化合物(A1)〜(A11)または化合物(β)、分子内にケイ素原子を含まないエポキシ樹脂、オキセタン樹脂、シランカップリング剤および安定剤の混合物を入れ、加熱攪拌・溶解し、次に硬化剤として熱カチオン重合開始剤を加え溶解した。
ワニスを気泡が入らないようにガラス基板上に100μmの厚さに塗工し、120℃に温めておいたオーブン中に置き、硬化させた。加熱は、120℃で1時間、150℃で5時間、180℃で2時間の順に行い、アルコキシシリル基を有するエポキシシルセスキオキサンの塗膜状硬化物を得た。得られた硬化物は、初期透過性、耐熱透明性、耐熱黄変性の試験に使用した。
東レダウコーニング社製のOE−6630は、メーカー指定の規定の比率で調合し、室温で5分撹拌した。次いで、あわとり錬太郎にて混合・脱泡した。ワニスを気泡が入らないようにガラス基板上に100μmの厚さに塗工し、80℃に温めておいたオーブン中に置き、硬化させた。加熱は、80℃で1時間、150℃で1時間行い、シリコーンの塗膜状硬化物を得た。得られた硬化物は初期透過率、耐熱黄変性試験、密着性試験に使用した。得られた硬化物は、初期透過性、耐熱透明性、耐熱黄変性の試験に使用した。
リフレクターがポリフタル酸アミド(PPA)またはポリアミド9(PA9T)であるLED用銀リードフレームにワニスを充填し、120℃に温めておいたオーブン中に置き、硬化させた。加熱は、120℃で1時間、150℃で5時間、180℃で2時間の順に行い封止した。得られたサンプルは密着性試験に使用した。
各硬化物の波長400nmにおける光透過率は、紫外可視分光光度計(日本分光製、V−660)により、測定した。下記の基準で評価した。その結果を表3および4に示す。A:光透過率が98%以上
B:光透過率が90以上、98%未満
C:光透過率が80以上、90%未満
D:光透過率が80%未満
波長400nmにおける保持率(72時間熱処理後の光透過率/初期光透過率×100)を計算して評価した。その結果を表3および4に示す。
A:光透過率の保持率が95%以上
B:光透過率の保持率が80%以上、95%未満
C:光透過率の保持率が80%未満
また、硬化物の黄色度(YI値)を計算し、初期YIと72時間熱処理後のYIの差を評価した。その結果を表3および4に示す。
A:YIの差が0.1以下
B:YIの差が0.1を超え0.5以下
C:YIの差が0.5を超える
硬化物1〜13の調製工程で調製したワニスを、ガラス基板上に塗布し、上述の同様の条件にて100μm厚の硬化膜を作成した。JIS K−5400(1990年)に準拠し、すきま間隔1mm、100個のます目で碁盤目テープ法を用いて密着性試験を行い、下記の基準で評価した。その結果を表5および6に示す。
A:剥離個数0
B:剥離個数1〜70
C:剥離個数71〜100
硬化物1〜13の調製工程で調製したワニスを、リフレクターがポリフタル酸アミド(PPA)またはポリアミド9(PA9T)であるLED用銀リードフレームにワニスを充填し、上述の条件にて硬化し封止した。エスペック(株)社製小型冷熱衝撃装置を使用し−40℃、25分、105℃、25分を1サイクルとし、連続で50サイクル行いフレームからの剥離を以下の基準で評価した。その結果を表5および6に示す。
A:剥離個数0
B:剥離個数1〜6
C:剥離個数7〜10
硬化物1〜13の調製工程で調製したワニスを、底辺部が銀メッキされたパワーLED用のPPA樹脂パッケージ(エノモト(株)製 型番5050 D/G)16個に熱硬化性樹脂組成物をディスペンサー(武蔵株式会社製 型番MPP−1)で注入した後、80℃にて1時間加熱後、さらに150℃にて4時間加熱する条件で熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化させた。このPPAパッケージを、イオウ粉末を0.2g入れたガラス容器内に入れた。60間後にPPA樹脂パッケージの腐食の状態を観察した。耐硫黄ガス性を下記の基準で評価した。その結果を表7および8に示す。
A:銀配線の変化なし
B:銀配線が着色している
C:銀配線が黒色に変化
硬化物1〜13の調製工程で調製したワニスを、離形フィルムを貼ったコの字型の2枚の石英基板内に注入し、真空脱泡した後、上述の同様の条件にて1mm厚の硬化膜を作成した。JIS Z−0208(1976年)に準拠し、カップ法にて透湿度を下記の基準で評価した。その結果を表7および8に示す。
A:水蒸気透過率が0〜30(g/m2・day)
B:水蒸気透過率が31〜50(g/m2・day)
C:水蒸気透過率が50〜(g/m2・day)
硬化物1〜13の調製工程で調製したワニスを、底辺部が銀メッキされたパワーLED用のPPA樹脂パッケージ(エノモト(株)製 型番5050 D/G)16個に熱硬化性樹脂組成物をディスペンサー(武蔵株式会社製 型番MPP−1)で注入した後、80℃にて1時間加熱後、さらに150℃にて4時間加熱する条件で熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化させた。このPPAパッケージを、150℃/500時間の耐熱試験後に、イオウ粉末を0.2g入れたガラス容器内に入れた。60時間後にPPA樹脂パッケージの腐食の状態を観察した。耐硫黄ガス性を下記の基準で評価した。その結果を表7および8に示す。
A:銀配線の変化なし
B:銀配線が着色している
C:銀配線が黒色に変化
上述の硬化物を150℃/500時間の耐熱試験後、同様にJIS Z−0208(1976年)に準拠し、カップ法にて透湿度を下記の基準で評価した。その結果を表7および8示す。
A:水蒸気透過率が0〜30(g/m2・day)
B:水蒸気透過率が31〜50(g/m2・day)
C:水蒸気透過率が50〜(g/m2・day)
Claims (15)
- 下記化合物(a)と化合物(b)とのヒドロシリル化反応により得られる、アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物。
化合物(a)1分子中にSiHを2個以上有する、シルセスキオキサン誘導体。
化合物(b)1分子中にアルコキシシリルと、炭素数が2〜18のアルケニルとを有する化合物。 - 前記化合物(a)が、下記式(a−1)〜(a−5)で表されるシルセスキオキサン誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、前記化合物(b)が式(b−1)で表される化合物である請求項1に記載のケイ素化合物。
- 下記(A)〜(D)を含む硬化性樹脂組成物。
(A)請求項1〜4のいずれか1項に記載の、アルコキシシリルおよび/またはシラノールを有するケイ素化合物
(B)ケイ素を分子内に含有しないエポキシおよび/またはオキセタン樹脂
(C)シランカップリング剤
(D)硬化剤 - 前記(D)で示される硬化剤が光または熱カチオン重合開始剤、金属キレート塩、有機金属である請求項5〜7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
- さらにナノ補強材を含む請求項5〜8のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
- さらに蛍光体を含む請求項5〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
- 前記蛍光体がLED用蛍光体である請求項10に記載の硬化性樹脂組成物。
- 請求項5〜11のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含むLED封止材。
- 請求項5〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含むシール材。
- 請求項5〜9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を基材に塗布して、加熱または光照射により硬化して得られるフィルム状、シート状または塗膜状の硬化物。
- 請求項14に記載の硬化物を含む絶縁膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014060047A JP6337336B2 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-24 | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013065010 | 2013-03-26 | ||
JP2013065010 | 2013-03-26 | ||
JP2014060047A JP6337336B2 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-24 | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014208615A true JP2014208615A (ja) | 2014-11-06 |
JP6337336B2 JP6337336B2 (ja) | 2018-06-06 |
Family
ID=51903136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014060047A Active JP6337336B2 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-24 | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6337336B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016072458A1 (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-12 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、樹脂硬化物、電子部品及び電子部品の製造方法 |
JP2016141741A (ja) * | 2015-02-02 | 2016-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 蛍光体分散組成物及びそれを用いて得られた蛍光成形体、波長変換膜、波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置 |
JP2019189564A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 |
WO2021193452A1 (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | リンテック株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、及び、硬化性組成物の使用方法 |
JP7559530B2 (ja) | 2020-12-01 | 2024-10-02 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー |
Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1112471A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フッ素樹脂系表面層を有する定着ロール用液状付加硬化型シリコーンゴム組成物 |
JP2006269402A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 絶縁材料形成用組成物および絶縁膜 |
JP2007197425A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-08-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2008523165A (ja) * | 2004-12-07 | 2008-07-03 | 松下電工株式会社 | 紫外線透過多面体シルセスキオキサンポリマー |
WO2008107331A1 (de) * | 2007-03-05 | 2008-09-12 | Wacker Chemie Ag | Schichten aus heterosubstituierten silsesquioxanen |
WO2008133138A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Kaneka Corporation | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物 |
US20090012317A1 (en) * | 2007-06-15 | 2009-01-08 | Mayaterials, Inc. | Multi-functional silsesquioxanes for novel coating applications |
WO2009025017A1 (ja) * | 2007-08-17 | 2009-02-26 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | 半導体光装置及び透明光学部材 |
WO2009075233A1 (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Kaneka Corporation | アルカリ現像性を有する硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ |
JP2009173759A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Kaneka Corp | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物、硬化物 |
JP2010047516A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 含フッ素表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
JP2010530911A (ja) * | 2007-06-15 | 2010-09-16 | マヤテリアルズ インク | 新規塗装用多官能基シルセスキオキサン類 |
JP2011099070A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
WO2011091010A1 (en) * | 2010-01-19 | 2011-07-28 | Michigan Molecular Institute | Hyperbranched polymers containing polyhedral oligosilsesquioxane branching units |
JP2012233157A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-29 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2012246482A (ja) * | 2011-05-25 | 2012-12-13 | Daxin Material Corp | ポリシロキサン樹脂組成物 |
WO2013005633A1 (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-10 | Jnc株式会社 | イソシアヌル骨格、エポキシ基およびSiH基を有するオルガノポリシロキサンまたはシルセスキオキサン骨格を含む化合物および該化合物を密着付与材として含む熱硬化性樹脂組成物、硬化物、および光半導体用封止材 |
JP2013018743A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2013032498A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-02-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 無水コハク酸基含有環状オルガノシロキサン、その製造方法、オルガノシロキサン組成物及び熱硬化性樹脂組成物 |
JP2013144726A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2014084405A (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品 |
-
2014
- 2014-03-24 JP JP2014060047A patent/JP6337336B2/ja active Active
Patent Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1112471A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フッ素樹脂系表面層を有する定着ロール用液状付加硬化型シリコーンゴム組成物 |
JP2008523165A (ja) * | 2004-12-07 | 2008-07-03 | 松下電工株式会社 | 紫外線透過多面体シルセスキオキサンポリマー |
JP2006269402A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 絶縁材料形成用組成物および絶縁膜 |
JP2007197425A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-08-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
WO2008107331A1 (de) * | 2007-03-05 | 2008-09-12 | Wacker Chemie Ag | Schichten aus heterosubstituierten silsesquioxanen |
WO2008133138A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Kaneka Corporation | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物 |
JP2010530911A (ja) * | 2007-06-15 | 2010-09-16 | マヤテリアルズ インク | 新規塗装用多官能基シルセスキオキサン類 |
US20090012317A1 (en) * | 2007-06-15 | 2009-01-08 | Mayaterials, Inc. | Multi-functional silsesquioxanes for novel coating applications |
WO2009025017A1 (ja) * | 2007-08-17 | 2009-02-26 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | 半導体光装置及び透明光学部材 |
WO2009075233A1 (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Kaneka Corporation | アルカリ現像性を有する硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ |
JP2009173759A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Kaneka Corp | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物、硬化物 |
JP2010047516A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 含フッ素表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
JP2011099070A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
WO2011091010A1 (en) * | 2010-01-19 | 2011-07-28 | Michigan Molecular Institute | Hyperbranched polymers containing polyhedral oligosilsesquioxane branching units |
JP2012233157A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-29 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2012246482A (ja) * | 2011-05-25 | 2012-12-13 | Daxin Material Corp | ポリシロキサン樹脂組成物 |
WO2013005633A1 (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-10 | Jnc株式会社 | イソシアヌル骨格、エポキシ基およびSiH基を有するオルガノポリシロキサンまたはシルセスキオキサン骨格を含む化合物および該化合物を密着付与材として含む熱硬化性樹脂組成物、硬化物、および光半導体用封止材 |
JP2013032498A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-02-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 無水コハク酸基含有環状オルガノシロキサン、その製造方法、オルガノシロキサン組成物及び熱硬化性樹脂組成物 |
JP2013018743A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2013144726A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2014084405A (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
FELIX ECKSTORFF ET. AL.: "Materials with tunable low-kappa dielectric constant derived from functionalized octahedral silsensq", POLYMER, vol. 52, JPN6017037511, 2011, pages 2492 - 2498, ISSN: 0003652053 * |
KAZUFUMI KAWAHARA ET. AL.,: "Dendritic, Nanosized Building Block for Siloxane-Based Material: A Spherosilicate Dendrimer", CHEM. EUR. J., vol. 17, JPN6017037508, 2011, pages 13188 - 13196, ISSN: 0003652052 * |
RUO QING SU ET. AL.: "A New Type of Low-kappa Dielectric Films Based on Polysilsesquioxanes", ADV. MATER., vol. 14, no. 19, JPN6017037514, 2002, pages 1369 - 1373, XP001131347, ISSN: 0003652054, DOI: 10.1002/1521-4095(20021002)14:19<1369::AID-ADMA1369>3.0.CO;2-I * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016072458A1 (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-12 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、樹脂硬化物、電子部品及び電子部品の製造方法 |
JP2016141741A (ja) * | 2015-02-02 | 2016-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 蛍光体分散組成物及びそれを用いて得られた蛍光成形体、波長変換膜、波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置 |
WO2016125482A1 (ja) * | 2015-02-02 | 2016-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 蛍光体分散組成物及びそれを用いて得られた蛍光成形体、波長変換膜、波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置 |
JP2019189564A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 |
JP7066173B2 (ja) | 2018-04-26 | 2022-05-13 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 |
WO2021193452A1 (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | リンテック株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、及び、硬化性組成物の使用方法 |
CN115151611A (zh) * | 2020-03-23 | 2022-10-04 | 琳得科株式会社 | 固化性组合物、固化物及固化性组合物的使用方法 |
JP7559530B2 (ja) | 2020-12-01 | 2024-10-02 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6337336B2 (ja) | 2018-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6135675B2 (ja) | エポキシおよびアルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 | |
JP5900355B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物及びこれを用いた色変換材料 | |
JP4322949B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物及び光半導体封止材 | |
JP2021501813A (ja) | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物、当該組成物を硬化することにより得られる硬化体、およびそれを含む電子デバイス | |
TWI487747B (zh) | 透明密封材組合物及光半導體元件 | |
JP6337336B2 (ja) | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 | |
JP6567693B2 (ja) | 縮合反応型シリコーン組成物及び硬化物 | |
WO2011148896A1 (ja) | ポリシロキサン系組成物、硬化物、及び、光学デバイス | |
JP2016514179A (ja) | 光学素子封止用樹脂組成物 | |
WO2015050251A1 (ja) | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体の製造方法、並びにその使用 | |
TWI758330B (zh) | 交聯性有機聚矽氧烷組成物、其硬化物及led裝置 | |
WO2015178475A1 (ja) | 分岐鎖状ポリオルガノシロキシシルアルキレン、その製造方法、硬化性樹脂組成物、及び半導体装置 | |
CN106995530B (zh) | 硅氧烷环氧化物、可固化的有机硅组合物及其应用 | |
JP2008280534A (ja) | 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物ならびに半導体素子の封止方法 | |
JP2012092172A (ja) | 光半導体封止用組成物および発光素子 | |
TW201431945A (zh) | 硬化性樹脂組成物及光半導體密封用樹脂組成物 | |
JP5912352B2 (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物 | |
JP5819089B2 (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物 | |
JP5710998B2 (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物 | |
JP2017078103A (ja) | 有機ケイ素化合物、該有機ケイ素化合物を含む熱硬化性組成物、および光半導体用封止材料 | |
JP2024125686A (ja) | 白色熱硬化性樹脂組成物 | |
JP5560982B2 (ja) | シラノール縮合触媒、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物およびこれを用いる封止体 | |
JP2013194184A (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体の製造方法、該変性体を含有する組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物 | |
JP5873677B2 (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物 | |
JP2012224744A (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、硬化物、および該組成物を用いた光学デバイス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150202 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171003 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6337336 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |