JP2010530911A - 新規塗装用多官能基シルセスキオキサン類 - Google Patents
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
Description
この特許出願は2007年6月15日出願の仮米国特許出願第60/944,115号に基づく優先権を主張し、該出願を本明細書において参照により援用する。
本発明の一部は、米国空軍契約FA8650−05−C−5046に基づく米国政府による支援を受けている。米国政府は本発明の特定権利を有する。
すなわち、シルセスキオキサンのシリカは、米のもみ殻灰からオクタ(テトラメチルアンモニウム)シルセスキオキサンオクタアニオンを経て誘導されること;
前記多面体シルセスキオキサン構造は、ほぼ立方晶構造、ほぼ8面体構造、またはこれらを組み合わせた構造であること;
シリコンは前記ほぼ立方晶構造の各頂点に位置すること;
前記ほぼ立方晶構造の頂点にある各シリコンは少なくとも1つの酸素により結合していること;
前記少なくとも1つの第1の官能基がシラン化官能基であること;
前記少なくとも1つの第2の官能基は、含硫黄化合物、含窒素化合物、ルミフォア、カチオン基、アニオン基、触媒、触媒前駆体、薬剤、殺菌剤、抗真菌性物質、抗ウイルス物質、界面活性剤、疎水性物質、親水性物質、分岐鎖オリゴマー、直鎖オリゴマー、混合官能基、さらなる組の官能基、またはこれらの組み合わせから選ばれること;
前記多官能基シルセスキオキサンは、TTSE、TCTSE、TCPTSE、TOETSE、TGTSE、またはこれらの組み合わせから選ばれること;
前記多官能基シルセスキオキサンは、プラスチック、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる表面に結合すること;
前記多官能基シルセスキオキサンはSi−OH基により前記表面に結合すること;
前記少なくとも1つの第1の官能基は金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に結合すること;
前記少なくとも1つの第2の官能基は、金属、セラミック、炭素、上述の材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に結合すること;
前記多官能基シルセスキオキサンは多孔質構造を有すること;
前記多官能基シルセスキオキサンは、多孔質構造中に複数のほぼ均一に分散した孔を有し、その結果として生じた多孔質構造の孔内に少なくとも1つの第1または第2の官能基を適宜有すること;
前記多孔質構造の多孔率は、約5〜約50体積%の範囲であること;
前記多孔質構造の多孔率は、約15〜約30体積%の範囲であること;
ASTM D150により測定した多官能基シルセスキオキサンの誘電率は約1〜約4であること;
ASTM D150により測定した多官能基シルセスキオキサンの誘電率が約2〜約3であること;
ASTM D542により測定した多官能基シルセスキオキサンの屈折率が約1〜約2であること;
ASTM D542により測定した多官能基シルセスキオキサンの屈折率が約1.2〜約1.6であること;
前記多官能基シルセスキオキサンの構造がほぼコア−シェル層構造であること;
本発明の第1の態様の多官能基シルセスキオキサン類は、誘電体膜を作製するのに使用されること;または上記特徴の組み合わせであること。
すなわち、ASTM D5946により測定した前記塗装の水の濡れ角が少なくとも約60°であること;
ASTM D5946により測定した塗装の水の濡れ角が少なくとも約75°であること;
ASTM D5946により測定した塗装の水の濡れ角が少なくとも約90°であること;
ASTM D5946により測定した塗装の水の濡れ角が少なくとも約105°であること;
ASTM D5946により測定した塗装の水の濡れ角が少なくとも約120°であること;
ASTM D3363により測定した塗装の鉛筆硬度が少なくとも約5Hであること;または
ASTM D3363で測定したこの塗装の硬度が少なくとも約Fであることにより特徴づけられる。
すなわち、前記多官能基シルセスキオキサンは、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に前記少なくとも1つの第1の官能基を介して結合すること;
前記多官能基シルセスキオキサンは、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に前記少なくとも1つの第1の官能基の少なくとも2つのSiOH基を介して結合すること;
前記少なくとも1つの第2の官能基によって前記多官能基シルセスキオキサンに結合する少なくとも1つの外層をさらに有すること;
前記少なくとも1つの外層は含硫黄化合物、含窒素化合物、ルミフォア、カチオン基、アニオン基、触媒、触媒前駆体、薬剤、殺菌剤、抗真菌性物質、抗ウイルス物質、界面活性剤、疎水性物質、親水性物質、分岐鎖オリゴマー、直鎖オリゴマー、混合官能基、さらなる組の官能基、またはこれらの組み合わせから選ばれる成分を有すること;
前記基材と前記多官能基シルセスキオキサンとの間、または前記多官能基シルセスキオキサンと前記少なくとも1つの外層との間のいずれかまたは両方で規定される空間内で、前記少なくとも1つの外層は、複数の層を有すること;
前記少なくとも1つの外層は求核試薬を含むこと;
前記少なくとも1つの外層は、メルカプト基、アミノ基、またはこれらの組み合わせを有すること;
前記少なくとも1つの外層は、少なくとも1つのアルキルアンモニウム塩を含む抗菌層であることにより特徴づけられる。
すなわち、前記少なくとも1つのシリカ源は米もみ殻灰由来のものであること;
前記多面体かご構造はオクタ(テトラメチルアンモニウム)シルセスキオキサンオクタアニオンがもとになっていること;
前記多面体かご構造はほぼ立方晶構造であること;
少なくとも1つの第1の面は、前記少なくとも1つの第2の面とほぼ反対に位置していること;
結合工程(c)は、少なくとも3つの第1の官能基を前記少なくとも1つの第1の面に結合させる工程を含むこと;
結合工程(d)は、少なくとも3つの第2の官能基を前記少なくとも1つの第2の面に結合させる工程を含むこと;
第1の官能基は、シラン化官能基から選ばれること;
前記第2の官能基は含硫黄化合物、含窒素化合物、ルミフォア、カチオン基、アニオン基、触媒、触媒前駆体、薬剤、殺菌剤、抗真菌性物質、抗ウイルス物質、界面活性剤、疎水性物質、親水性物質、分岐鎖オリゴマー、直鎖オリゴマー、混合官能基、さらなる組の官能基、またはこれらの組み合わせから選ばれること;
前記少なくとも1つの第1の官能基または第2の官能基は、グリシジル官能基を含むこと;
さらに該方法は、前記少なくとも1つの第2の官能基を第1の多官能基シルセスキオキサンと同一または異なる少なくとも1つの第2の多官能基シルセスキオキサンに結合させる工程を含むこと;
結合工程(c)および(d)のうち一方または両者が触媒の存在下での反応工程を有すること;
結合工程(c)および(d)のうち一方または両者は、フーリエ変換赤外分光法により確認され、かつ、2200cm−1におけるνSi−Hピークが観察されなくなるまで進行させられる反応工程を有すること;
結合工程(c)および(d)のうち一方または両者は、反応物質の混合物を還流下で触媒の存在下で攪拌する反応工程を含むこと;
結合工程(c)および(d)のうち一方または両者は、反応物質を溶媒に溶解する工程と、これらの反応物質を触媒と混合する工程、反応物質と混合した触媒を回収する工程と、溶媒を蒸発させる工程、またはこれらを組み合わせた工程を有すること;
前記触媒はPt/Cを含み、前記反応工程の起こる温度範囲は約60〜約110℃、あるいはこの両者であること;
第1の多官能基シルセスキオキサン塗装は、少なくとも1つの第1のまたは第2の官能基をその結果得られる構造の表面上および孔内で有するメソ多孔質ケイ酸塩構造を形成するために加水分解されること;
前記塗装は溶媒を介して基材に塗布されること;
前記塗装はアミン官能基剤の存在下で前記基材に塗布されること;
前記溶媒はアセトン、エタノールまたはTHFから選ばれること;
前記アミン官能基剤は、EA、DEA、TEA、MAE、DDM、OAPSまたはこれらを組み合わせたものから選ばれ、あるいは少なくとも1つの第1の官能基は、前記少なくとも1つの第1の面にコア−シェル構造を介して結合することで特徴づけられる。
すなわち、R5はフェニル基であること;
前記オクタ(置換フェニル)オクタシルセスキオキサンはオクタフェニルオクタシルセスキオキサンであること;
前記テトラアニオン半立方晶が下記PH4‐TAHCで表される構造を有し;
第1のアルコールは、1〜約20個の炭素原子を有するアルコールであること;
前記第1のアルコールは、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、イソアミルアルコール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、エチレングリコール、およびこれらを組み合わせたものからなる群より選ばれること;
前記カチオンはナトリウムカチオンであること;
本態様はさらに、s‐PH4TAHCを トリクロロシランと反応させる工程を含むこと;
前記トリクロロシランは、アルキルトリクロロシラン、アリールトリクロロシラン、芳香族複素環トリクロロシラン、クロロアルキルトリクロロシラン、アルキルエポキシトリクロロシラン、アルケニルトリクロロシラン、末端または内部エーテルを有するアルキニルトリクロロシラン 、およびこれらを組み合わせたものからなる群より選ばれること;
前記トリクロロシランは約1〜約8個の炭素原子を有するアルキルトリクロロシランであること;
本態様はさらに、s‐PH4TAHCをR6SiCl2‐O‐SiCl2R7の構造を有する第1の二量体と反応させる工程を有すること(式中R6とR7は、アルキル、アリール、複素環式芳香族、クロロアルキル、アルキルエポキシ、アルケニル、末端または内部エーテルを有するアルキニル、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれ、R6とR7は互いに同一、R6とR7は互いに異なるか、あるいはこれらの組み合わせである);
この態様はさらにs‐PH4TAHCをR8SiCl2‐O‐SiCl2R8の構造を有する第2の二量体と反応させる工程を含むこと(式中R6とR8は異なる);
s‐PH4TAHCを第1の二量体に反応させるこの工程は、さらにs‐PH4TAHCをR8SiCl2‐O‐SiCl2R8の構造を有する第2の二量体と反応させることを含むこと(式中R8は、R6とR7の両者とは異なる);
s‐PH4TAHCを第1の二量体と反応させる工程はさらに、s‐PH4TAHCをR8SiCl2‐O‐SiCl2R8の構造を有する第2の二量体と反応させることを含むこと(式中R8はR6またはR7と同一である);
この態様はさらに、第2のアルコールをs‐PH4TAHCに結合しているトリクロロシランの残留塩素原子と反応させる工程を含むこと(第2のアルコールは化学構造R9‐OHを有し、これにより塩素原子はアルコリシスによって第2のアルコールに置換され、Si‐O‐R9基を形成し、前記第2のアルコールとしては、1級アルコール、2級アルコール、または3級アルコールが含まれ、前記第2のアルコールは2級アルコールまたは3級アルコールが含まれる);
本態様は、アルコリシス後にs‐PH4TAHCを加水分解する工程をさらに有すること;
あるいは上記特徴の組み合わせにより特徴づけられる。本発明のこの態様の上記のいずれの反応から得られる反応生成物も本発明の範囲であると考えられる。
よって、1つの面の反応性を他の1つ又は複数の面の反応性と異ならせることができるため、下記(a)及び(b)のいずれかまたは両方が可能となる。
(a)1またはそれ以上のその他の多官能基分子(例えば、2または3官能基分子)との反応。
(b)相補的反応性を有する表面との反応であって、当該反応により前記表面が、所定の官能基により選択的表面官能化されるか、あるいは、前記表面に前記所定の官能基が豊富に形成され;耐引っかき性、誘電率、硬度、透明性、イオン伝導度、イオン結合、金属および金属酸化物粒子結合性、発光挙動、殺菌性、これらを組み合わせた特性等の1つまたはそれ以上の点、あるいはその他の点で表面挙動が改質される。
そのような多官能基SQ分子はまた、SQあるいは官能化SQからも生成できる。官能化SQは、SQ半立方晶に分割し、完全なSQ構造を再形成するときに、官能化されたシリコン含有分子をこれらの半立方晶に付加させる。
(1)Over25‐250ppm/℃に調整した熱的膨張係数(CTEs)
(2)例えば、ASTM D3985に従って測定した場合、市販材料と同等の酸素バリヤ特性であるが100℃を超える安定性
(3)低温、室温粘度(例えばASTM D445によるその正味の材料に対する測定値が1,000MPa‐s未満)
(4)最低限の溶媒または無溶媒で表面に塗布できる可能性
(5)ガラス、炭素、セラミック、金属およびある種のプラスチック表面への良好な付着性
(6)水分含有率および分解に対する優れた耐性(例えば、7日間浸漬後の含有率が1重量%未満、好ましくは0.5重量%未満)
(7)作動液、ジェット燃料、およびその他の有機溶液に対する耐性(例えば、約50%未満、好ましくは約30%未満の体積膨潤)
(8)高強度(例えば、高弾性率、E=2.4GPaまたはそれ以上)、高破壊靭性(例えば、ASTM E399に従って試験した場合K1C=1.8MPa/mまたはそれ以上)、鉛筆硬度(≧4H)、高ガラス転移温度(例えば、Tg≧200℃)等の機械特性の1つまたは任意の組み合わせ
(9)UV照射透過性
(10)疎水性
(11)耐侯性
(12)高温潤滑性
(13)屈折率(RI)の制御、または
(14)誘電率の制御
OHS(50g、4.9mmol)を350mLのヘキサンに溶解する。その後、42mL(19mmol)のビニルトリエトキシシラン(VTES)と0.3gのPt/Cとを加える。この反応混合物を還流下で10日間攪拌する。再利用として触媒を回収し、溶媒をロータリエバポレータで蒸発させる。透明の粘性液体の生成物が得られる。図4は、この反応を示す。
TTSE(50g、28mmol)を500mLのヘキサンに溶解する。その後、1‐ビニル‐4‐シクロヘキセン(16mL、113mmol)および0.3gのPt/を加える。FTIRで2,200cm−1におけるνSi−OHピークが消えるまで、この反応混合物を還流下で攪拌する。この生成物は92%の収率で得られる。
TTSE(25g、14mmol)を250mLの溶媒に溶解する。その後、塩化アリル(6mL、56mmol)と0.1gのPt/Cを加える。この反応混合物を、FTIRで2200cm−1におけるνSi‐Hピークが消えるまで還流下で2日間攪拌する。この生成物をろ取し、85%の収率で得る。図14はこの反応を示す。
TOETSEを図15に示すように調製した。これは、改良された疎氷性を有する二官能基立方晶の別の例である。
スピンコート法により作製した薄膜は、OTSEを出発物質として使用することで調製される。この材料は、以下の表に列挙する値の約15%以内という平面性および低多孔率等の優れた特性を示す。
さらにまた、OTSEのCH2CH2Si(OEt)3基の約半分をエポキシまたはその他の有機基で置換することで、非常に良好な膜を形成することができると考えられている。この膜は、膜中に均一に分散し、かつ、分解時に以下の表に列挙する値の15%以内というはるかに高い多孔率およびはるかに低い誘電率で優れた機械特性を有する材料を生成する、あらかじめ付着させた1またはそれ以上の細孔形成剤(例えば、分解して1またはそれ以上の細孔を形成する有機成分)をさらに含みうる。
図18aおよびbは、方法AにしたがってTCTSEを用いた塗装により濡れ性がどのように改質できると考えられるかを示す。3滴の水滴を非被覆および被覆Al表面のそれぞれに落とす。綿密な試験としてASTM D5946に従って測定した場合、非被覆Al上のこれらの水滴の濡れ角は約30±5°であるのに対し、TCTSE被覆基材上の水滴の濡れ角は、約80±5°である。室温放置1週間後の塗装硬度は1〜2Hとなり、スプレー被覆材料としては非常に硬い。このことは大幅な改良であると考えられ、さらにTCTSE塗装の最適化によりさらに優れた濡れ角を達成できる。
標準的な方法ASTM D3363にしたがって作製した塗装の予測硬度および室温で7日間放置後の硬度を以下の表に示す。
方法Aで作製し、ASTM D5946に従って測定した、例8の塗装の予想接触角を以下の表に示す。
適切な基材上に形成したTCPTSE由来膜は以下のように改質できる。適当に処理した後、これらには限定されないがアミン類、チオール類、カルボキシレート類、またはこれらを組み合わせたもの等の単一の有機または無機求核性化合物に接触させてもよい。強塩基性材料も可能であるが、成功する可能性が低い場合がある。良好な反応性を与えるような設定温度において短時間接触させた場合、その表面は、図19に示す一般的な反応により示唆されるように改質される。被覆表面上の水滴に関する近似予想接触角(例えば、約15°の範囲)を図20に示す。比較的高濃度の疎水性を与えるにはN‐メチルアミノエタノールとの反応を利用することが特に有益であると考えられる。このことは、例えば図25および26に示されている。
その他の多層構造は、図21、27および28に示すように本願明細書の教示にしたがって実現できる。基本的に、図27はアミン類または同様に改質可能なその他の弱求核性化合物による表面改質に関するものである。
図22、23、および29は、塗装用にアミンまたはその他の官能基の選択で可能と考えられる接触角に対する効果を示す。図22の接触角の検討に使用した表面は、図21に示す反応に従って調製する。
多層塗装を図26乃至28のように作製する。
塗装用溶媒選択の濡れ(接触角)に関する効果を以下の表に示す。アルミニウム基材は、TCPTSEで被覆および表中の所定のアミン(例えば、DDMおよびMAEのそれぞれについて図24および図26に示すTCPTSEとの反応およびDDMおよびMAEそれぞれについて図23および図25に示す濡れ角により)溶媒を含む溶液中で浸漬被覆される。図30は、エタノール中でのTCPTSE+DDM(写真上)およびTHF中でのTCPTSE+DDM(写真下)を示す。太字のイタリック文字は、親水性のものを示す。アステリスク(*)は、疎水性のものを示す。
N2下で攪拌子および還流濃縮器を備えた1000mLの乾燥丸底フラスコに、約20.00g(19.36mmol)のオクタフェニルシルセスキオキサン、約6.84g(170.4mmol)のNaOH、および約500mLのn‐ブタノールを加えた。この混合物を還流させながら約24〜約48時間加熱した。これらの不溶性固体を熱溶液からろ過し、そのろ過物を室温に冷却し、一晩冷凍保存して白色の結晶性固体得た。この固体をろ過し、約65℃で約12時間真空乾燥し、約22.84g(92%)のテトラアニオンナトリウム塩を得た。
N2下で攪拌子を備えた500mLの乾燥丸底フラスコに、約100mLのメタノールに約5.00g(8.2mmol)のPh4半立方晶ナトリウム塩を懸濁させた懸濁液を加える。約100mLのヘキサンに約4.25mL(36.2mmol)のメチルトリクロロシランを加えた溶液を激しく攪拌しながら、約30分かけて滴下ロートにて添加する。この結果得られる不均一混合物を約25℃で約24時間攪拌する。この不溶性固体をろ過して有機相を分離し、Na2SO4で乾燥する。ロータリーエバポレーションを使用して粘性黄色油を得る。この油を約5時間を真空乾燥して、約6.92g(87%)を得る。約0.500g(0.52mmol)のMe4Ph4誘導体を約10mLのヘキサンに溶解し、約10mLのH2O中の37%HClの約0.5mLに加える。この混合物を約24時間周囲温度で攪拌し白色の粉末状固体を得る。この固体をろ過し、約60℃で約8時間真空乾燥することで、約0.284g(70%)のMe4Ph4[Si8O12]を得る。このMe4Ph4[Si8O12]について熱重量分析(TGA)を空気中で、例えば、空気中、約10℃/分の昇温速度で約25℃〜約980℃で炭素を燃焼させてSiO2を残すようにして行なった。測定により決定したSiO2の収率は61.23%である。収率の理論値は61.21%である。このMe4Ph4[Si8O12]サンプルのTGA曲線を図36aに示す。この図では、サンプル重量の初期サンプル重量に対する比を温度の関数としてプロットしている。このMe4Ph4[Si8O12]サンプルのFTIR曲線を図37bに示す。
N2下で攪拌子を備えた500mLの乾燥丸底フラスコに、約100mLのメタノールに約5.00g(8.2mmol)のPh4半立方晶ナトリウム塩を懸濁させた懸濁液を加える。約100mLのヘキサン中にビニルトリクロロシランを加えて調製した溶液約4.60mL(36.2mmol)を激しく攪拌しながら約30分かけて滴下ロートにて滴下する。この結果得られる不均一混合物を約25℃の温度で約24時間攪拌する。この不溶性固体をろ過してメタノール層を分離し、その後Na2SO4で乾燥してロータリエバポレータで溶媒を蒸発させる。生成物として、白色結晶性固体のVinyl4Ph4alkoxy誘導体が得られる。この固体を約5時間真空乾燥する。このように乾燥した固体の重さは、約7.33g(収率約88%)である。続いて、約0.500g(0.49mmol)のVinyl4Ph4alkoxy誘導体を中に溶解した約10mLのメタノールに溶解し、約10mLのH2Oに37%HClを加えた溶液約0.5mLを加える。この混合物を周囲温度にて約24時間攪拌し、白色の粉末状固体を得る。この固体をろ過し、約60℃で約8時間真空乾燥することで、約0.331g(80%)のVinyl4Ph4[Si8O12]を得る。
N2下で攪拌子を備えた500mLの乾燥丸底フラスコに、約100mLのメタノールに約5.00g(8.2mmol)のテトラアニオンナトリウム塩を懸濁させた懸濁液を加える。続いて、約100mLのヘキサンにイソブチルトリクロロシランを加えて調製した溶液約5.97mL(36.2mmol)を激しく攪拌しながら約30分間かけて滴下ロートにて添加する。この結果得られる不均一混合物を約25℃で約24時間攪拌する。この不溶性固体をろ過して有機相を分離した後、Na2SO4で乾燥しロータリエバポレータで溶媒を蒸発させる。この過程により、アルコキシ誘導体である粘性黄色油を得る。この油を約5時間真空乾燥して、質量約7.46g(80%)を得る。その後、約0.500g(0.44mmol)のiBu4Ph4(OR)x誘導体を約10mLのヘキサンに溶解し、約10mLのH2Oに37%HClを溶解して調製した溶液約0.5mLに加える。この混合物を周囲温度で約24時間攪拌し、白色の粉末状固体を得る。この固体をろ過して約60℃で約8時間真空乾燥し、約0.335g(80%)のiBu4Ph4[Si8O12]を得る。
N2下で攪拌子を備えた500mLの乾燥丸底フラスコに、約100mLのメタノールに約5.00g(8.2mmol)のPh4半立方晶ナトリウム塩を懸濁させた懸濁液を加える。その後、100mLのヘキサンにn‐オクチルトリクロロシランを加えて調製した溶液約8.34mL(36.2mmol)を激しく攪拌させながら約30分かけて滴下ロートにて添加した。この結果生じる不均一混合物を約25℃で約24時間攪拌する。この不溶性固体をろ過して有機相を分離した後、Na2SO4で乾燥しロータリエバポレータで蒸発させると、アルコキシ誘導体である粘性黄色油を得る。この油を約5時間真空乾燥して、約8.05g(72%)を得る。約0.500g(0.37mmol)のOctyl4Ph4(OR)4誘導体(またはOctyl4Ph4(OR)xCl4―x誘導体、ただしxは4またはそれ以下の数であり、xは約1未満であってもよい)を約10mLのヘキサンに溶解し、約10mLのH2Oに37% HClを加えて調製した溶液約1.5mLに加える。この混合物を周囲温度で約24時間攪拌し、白色の粉末状固体を得る。この固体をろ過し、約60℃で約8時間真空乾燥して、約0.281g(65%)のOctyl4Ph4[Si8O12]を得る。
N2下で攪拌子を備えた500mLの乾燥丸底フラスコに、約100mLのメタノールに約5.00g(8.2mmol)のPh4半立方晶ナトリウム塩を懸濁させた懸濁液を加える。約100mLのヘキサンにクロロメチルトリクロロシランを加えて調製した溶液約4.54mL(36.2mmol)を約30分間以上かけて激しく攪拌しながら滴下ロートにて添加する。この結果得られる不均一混合物を約25℃で約24時間攪拌する。この不溶性固体をろ過して有機相を分離し、Na2SO4で乾燥する。ロータリエバポレータで溶媒を蒸発させた後、アルコキシ誘導体の粘性黄色油を得る。この油を約5時間真空乾燥し、約6.80g(75%)を得る。その後、約0.500g(0.45mmol)の(ClCH2)4Ph4アルコキシ誘導体を約10mLのヘキサンに溶解し、約10mLのH2Oに37%HClを加えて調製した溶液約1.5mLに添加する。この混合物を周囲温度で約24時間攪拌し白色の粉末状固体を得る。この固体をろ過し約60℃で約8時間真空乾燥し、約0.317g(76%)の(ClCH2)4Ph4[Si8O12]を得る。
いる。
Claims (79)
- 少なくとも1つの第1の面と、前記少なくとも1つの第1の面から離れている少なくとも1つの第2の面とを有する多面体シルセスキオキサンと、
前記少なくとも1つの第1の面に結合する少なくとも1つの第1の官能基と、
第1の官能基とは異なり、かつ前記少なくとも1つの第2の面に結合している少なくとも1つの第2の官能基とを有し、
前記少なくとも1つの第1の官能基は、表面、他のシルセスキオキサン、有機官能基、またはこれらの組み合わせへ結合可能に構成されている、多官能基シルセスキオキサン。 - 前記シルセスキオキサンのシリカは、オクタ(テトラメチルアンモニウム)シルセスキオキサンオクタアニオンを経て米のもみ殻灰由来のものである、請求項1に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 多面体シルセスキオキサンの構造は、ほぼ立方晶構造、ほぼ8面体、またはそれらの組み合わせである、請求項1または2記載の多官能基シルセスキオキサン。
- ケイ素が、前記ほぼ立方晶構造の各頂点に位置する、請求項3記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記ほぼ立方晶構造の頂点にある各ケイ素が、少なくとも1つの酸素により結合している、請求項1記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記少なくとも1つの第1の官能基がシラン化官能基である、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記少なくとも1つの第2の官能基が、含硫黄化合物、含窒素化合物、ルミフォア、カチオン基、アニオン基、触媒、触媒前駆体、薬剤、殺菌剤、抗真菌性物質、抗ウイルス物質、界面活性剤、疎水性物質、親水性物質、分岐鎖オリゴマー、直鎖オリゴマー、混合官能基、さらなる組の官能基、またはこれらの組み合わせから選ばれる、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは、TTSE、TCTSE、TCPTSE、TOETSE、TGTSE、またはこれらの組み合わせから選ばれる、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは、プラスチック、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる表面に結合する、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは、Si−OH基により前記表面に結合する、請求項9に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記少なくとも1つの第1の官能基は、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に結合している、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記少なくとも1つの第2の官能基は、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に結合している、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは多孔質構造である、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは、前記多孔質構造中に複数のほぼ均一に分散した孔を有し、前記多孔質構造の複数の形成された孔内に第1のまたは第2の官能基の少なくとも1つを選択的に有するものである、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多孔質構造の多孔率が約5〜約50体積%の範囲にある、請求項13または14に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多孔質構造の多孔率が約15〜約30体積%の範囲にある、請求項13または14に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンの誘電率が約1〜約4である、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンの誘電率が約2〜約3である、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンの屈折率が約1〜約2である、請求項1乃至18のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンの屈折率が約1.2〜約1.6である、請求項1乃至19のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 前記多官能基シルセスキオキサンがほぼコア−シェル層構造である、請求項1乃至20のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサン。
- 請求項1乃至21のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサンを有する誘電体膜。
- 請求項1乃至21のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサンを含有する塗装。
- 前記塗装の水の濡れ角が少なくとも約60°である、請求項23に記載の塗装。
- 前記塗装の水の濡れ角が少なくとも約75°である、請求項23に記載の塗装。
- 前記塗装の水の濡れ角が少なくとも約90°である、請求項23に記載の塗装。
- 前記塗装の水の濡れ角が少なくとも約105°である、請求項23に記載の塗装。
- 前記塗装の水の濡れ角が少なくとも約120°である、請求項23に記載の塗装。
- 前記塗装の鉛筆硬度が少なくとも約5Hである、請求項23乃至28のいずれか1項に記載の塗装。
- 前記塗装の硬度が少なくとも約Fである、請求項23乃至28のいずれか1項に記載の塗装。
- 請求項1乃至30のいずれか1項に記載の多官能基シルセスキオキサンを含む物品。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に、前記少なくとも1つの第1の官能基を介して結合している、請求項31記載の物品。
- 前記多官能基シルセスキオキサンは、金属、セラミック、炭素、前記材料からなる複合材料、またはこれらの組み合わせから選ばれる基材に、少なくとも1つの第1の官能基の少なくとも2つのSiOH基を介して結合している、請求項31または32に記載の物品。
- 前記少なくとも1つの第2の官能基によって多官能基シルセスキオキサンに結合する少なくとも1つの外層をさらに有する、請求項31乃至33のいずれか1項に記載の物品。
- 前記少なくとも1つの外層は、含硫黄化合物、含窒素化合物、ルミフォア、カチオン基、アニオン基、触媒、触媒前駆体、薬剤、殺菌剤、抗真菌性物質、抗ウイルス物質、界面活性剤、疎水性物質、親水性物質、分岐鎖オリゴマー、直鎖オリゴマー、混合官能基、さらなる組の官能基、またはこれらの組み合わせから選ばれる成分を含む、請求項31乃至34のいずれか1項に記載の物品。
- 基材と多官能基シルセスキオキサンとの間、あるいは多官能基シルセスキオキサンと少なくとも1つの外層との間のいずれかまたは両者で規定される空間内に捕捉されたナノ粒子をさらに含む、請求項31乃至35のいずれか1項に記載の物品。
- 前記少なくとも1つの外層は複数の層を有する、請求項31乃至36のいずれか1項に記載の物品。
- 前記少なくとも1つの外層は、求核試薬を含む、請求項31乃至37のいずれか1項に記載の物品。
- 前記少なくとも1つの外層は、メルカプト基、アミノ基、またはそれらの組み合わせを含む、請求項31乃至38のいずれか1項に記載の物品。
- 前記少なくとも1つの外層は、少なくとも1つのアルキルアンモニウム塩を含む、抗菌層である請求項38または39に記載の物品。
- 少なくとも1つのシリカ源を準備する工程(a)と、
シリコンをその頂点に含む多面体かご構造を形成するため、および少なくとも1つの第1の面と前記少なくとも1つの第1の面から離れた少なくとも1つの第2の面とを規定するために、シリカの少なくとも1部を反応させる工程(b)と、
少なくとも1つの第1の官能基を前記少なくとも1つの第1の面に結合させる工程(c)と、
少なくとも1つの第2の官能基を前記少なくとも1つの第2の面に結合させる工程(d)と、
第1の多官能基シルセスキオキサン塗装を基材上に規定するために、前記第1の官能基をSi−OH官能基を介して前記基材に結合させる工程(e)とを含む、多官能基シルセスキオキサン塗装の形成法。 - 前記少なくとも1つのシリカ源は米もみ殻灰由来であり、前記多面体かご構造はオクタ(テトラメチルアンモニウム)シルセスキオキサンオクタアニオンに基づくものである、請求項41に記載の方法。
- 前記多面体かご構造はほぼ立方晶構造である、請求項41または42記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の面は、前記少なくとも1つの第2の面のほぼ反対に位置している、請求項41乃至43のいずれか1項に記載の方法。
- 前記結合工程(c)は、少なくとも3つの前記第1の官能基を少なくとも1つの前記第1の面に結合させることを含む、請求項41乃至44のいずれか1項に記載の方法。
- 前記 結合工程(d)は、少なくとも3つの第2の官能基をその少なくとも1つの第2の面に結合させることを含む、請求項41乃至45のいずれかに記載の方法。
- 前記第1の官能基はシラン化官能基から選ばれる、請求項41乃至46のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第2の官能基は、含硫黄化合物、含窒素化合物、ルミフォア、カチオン基、アニオン基、触媒、触媒前駆体、薬剤、殺菌剤、抗真菌性物質、抗ウイルス物質、界面活性剤、疎水性物質、親水性物質、分岐鎖オリゴマー、直鎖オリゴマー、混合官能基、さらなる組の官能基、またはこれらの組み合わせから選ばれる、請求項41乃至47のいずれか1項に記載の方法。
- 第1の官能基または第2の官能基の少なくとも1つは、グリシジル官能基を含む、請求項41乃至48のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の官能基を第1の多官能基シルセスキオキサンと同じまたは異なる少なくとも1つの第2の多官能基シルセスキオキサンと結合させる工程をさらに有する請求項41乃至49のいずれか1項に記載の方法。
- 結合工程(c)および(d)の一方または両者は、触媒の存在下での反応工程を含む、請求項41乃至50のいずれか1項に記載の方法。
- 結合工程(c)および(d)の一方または両者は、フーリエ変換赤外分光法により監視され、2200cm−1におけるνSi―Hピークが消えるまで進行させた反応工程を含む、請求項41乃至51のいずれか1項に記載の方法。
- 結合工程(c)および(d)の一方または両者は、反応物質の混合物を触媒の存在下で還流させながら攪拌することを含む反応工程を含む、請求項41乃至51のいずれか1項に記載の方法。
- 結合工程(c)および(d)の一方または両者は、反応物質を溶媒に溶解する工程、前記反応物質を触媒と混合する工程、前記反応物質と混合した前記触媒を回収する工程、溶媒を蒸発させる工程、またはこれらの組み合わせた工程を含む反応工程を含む、請求項41乃至53のいずれか1項に記載の方法。
- 前記触媒はPt/Cを含み、前記反応工程は約60〜約110°の温度範囲で行われ、あるいはこれらの両者である、請求項41乃至54のいずれか1項に記載の方法。
- 第1の多官能基シルセスキオキサン塗装を加水分解して、前記第1の官能基または第2の官能基の少なくとも1つを表面上および孔内に有するメソ多孔質ケイ酸塩構造を形成する、請求項41乃至55のいずれか1項に記載の方法。
- 前記塗装は溶媒を介して基材に塗布される、請求項41乃至56のいずれか1項に記載の方法。
- 前記塗装は、アミン−官能基剤の存在下で基材に塗布される、請求項41乃至57のいずれかに記載の方法。
- 前記溶媒はアセトン、エタノールまたはTHFから選ばれる、請求項57または58に記載の方法。
- 前記アミン−官能基剤は、EA、DEA、TEA、MAE、DDM、OAPSまたはこれらの組み合わせから選ばれる、請求項58または59に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の官能基は、コア−シェル構造により少なくとも1つの第1の面に結合する、請求項41乃至60のいずれかに1項に記載の方法。
- オクタ(置換フェニル)オクタシルセスキオキサンを与える工程(a)と、
オクタ(置換フェニル)オクタシルセスキオキサンをカチオンおよび第一のアルコールを含む溶液中で、以下の(s−Ph4TAHC)構造を有するテトラアニオン半立方晶を形成するように反応させる工程(b)とを含む、多官能基シルセスキオキサンの生成方法。
- 式中、R5は、オクタ(置換フェニル)オクタシルセスキオキサンがオクタフェニルオクタシルセスキオキサンであり、テトラアニオン半立方晶が以下の(PH4‐TAHC)構造であり、式中Phはフェニルである構造となるようなフェニル基である、請求項62記載の方法。
- 前記アルコールは1〜約20個の炭素原子を有するアルコールである、請求項62記載の方法。
- 前記アルコールはメタノール、エタノール、n‐プロパノール、n‐ブタノール、イソアミルアルコール、n‐ペンタノール、n‐ヘキサノール、エチレングリコール、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項62記載の方法。
- 前記カチオンはナトリウムカチオンである、請求項62記載の方法。
- 前記(s‐PH4TAHC)をトリクロロシランに反応させる工程(c)をさらに有する、請求項62記載の方法。
- 前記トリクロロシランは、アルキルトリクロロシラン、アリールトリクロロシラン、複素環式芳香族トリクロロシラン、クロロアルキルトリクロロシラン、アルキルエポキシトリクロロシラン、アルケニルトリクロロシラン、末端または内部エーテルを有するアルキニルトリクロロシラン、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項67記載の方法。
- 前記トリクロロシランは、約1〜約8個の炭素原子を有するアルキルトリクロロシランである、請求項67記載の方法。
- 前記(s‐PH4TAHC)をR6SiCl2‐O‐SiCl2R7で表される構造を有する第1の二量体と反応させる工程(c)をさらに含み、
式中R6およびR7は、アルキル、アリール、複素環式芳香族、クロロアルキル、アルキルエポキシ、アルケニル、末端または内部エーテルを有するアルキニル、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項62記載の方法。 - 式中R6およびR7は互いに同一である、請求項70記載の方法。
- R6およびR7は互いに異なる、請求項70記載の方法。
- 前記工程(c)はさらに、s‐PH4TAHCをR8SiCl2‐O‐SiCl2R8で表される構造を有する第2の二量体と反応させる工程を含み、
式中R6およびR8互いに異なる、請求項71記載の方法。 - 工程(c)はさらに、s‐PH4TAHCをR8SiCl2‐O‐SiCl2R8で表される構造を有する第2の二量体に反応させる工程を含み、式中R8はR6およびR7のいずれとも異なる、請求項72記載の方法。
- 工程(c)はさらに、(s‐PH4TAHC)をR8SiCl2‐O‐SiCl2R8で表される構造を有する第2の二量体と反応させる工程を含み、
式中R8はR6またはR7と同一である、請求項72記載の方法。 - 第2のアルコールを、s‐PH4TAHCに結合したトリクロロシランに残留する塩素原子と反応させる工程(d)をさらに含み、前記第2のアルコールはR9−OHで表される化学構造を有し、塩素原子がアルコリシスにより前記第2のアルコールで置換されてSi‐O‐R9基を形成する、請求項70記載の方法。
- 前記第2のアルコールは1級アルコール、2級アルコールまたは3級アルコールを含む、請求項76記載の方法。
- 第2のアルコールは2級アルコールまたは3級アルコールである、請求項76記載の方法。
- 加水分解工程(e)をさらに有する請求項62乃至75のいずれか1項に記載の方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173760A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Kaneka Corp | 液状多面体構造ポリシロキサン系化合物および該化合物を用いた組成物と硬化物。 |
CN103288867A (zh) * | 2013-06-18 | 2013-09-11 | 武汉绿凯科技有限公司 | 一种新型烷氧基硅烷基poss及其制备方法和应用 |
JP2014208615A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-11-06 | Jnc株式会社 | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 |
JP2019189564A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 |
WO2024166423A1 (ja) * | 2023-02-10 | 2024-08-15 | 一三 東新 | 撥水材、撥水性塗料、及び撥水性コンクリートの製造方法、防カビ方法、防錆方法、並びに撥水材 |
JP7544371B2 (ja) | 2020-05-21 | 2024-09-03 | 国立大学法人 鹿児島大学 | 膜、防曇膜、ハードコート膜及び膜の製造方法 |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10350139B2 (en) | 2011-10-25 | 2019-07-16 | Corning Incorporated | Pharmaceutical glass packaging assuring pharmaceutical sterility |
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CN104066695B (zh) | 2011-10-25 | 2019-02-12 | 康宁股份有限公司 | 具有改善的化学和机械耐久性的碱土金属铝硅酸盐玻璃组合物 |
US10737973B2 (en) | 2012-02-28 | 2020-08-11 | Corning Incorporated | Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction |
DE202013012666U1 (de) * | 2012-02-28 | 2018-04-26 | Corning Incorporated | Glaserzeugnisse mit reibungsarmen Beschichtungen |
US11497681B2 (en) | 2012-02-28 | 2022-11-15 | Corning Incorporated | Glass articles with low-friction coatings |
JP6257099B2 (ja) | 2012-06-07 | 2018-01-10 | コーニング インコーポレイテッド | 耐層間剥離性ガラス容器 |
US10273048B2 (en) * | 2012-06-07 | 2019-04-30 | Corning Incorporated | Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings |
US9034442B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-19 | Corning Incorporated | Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance |
US10117806B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass containers resistant to delamination and damage |
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US9700485B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
US9603775B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-03-28 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
US9707153B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-07-18 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
US9700486B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
US9839579B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-12-12 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
US9849066B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-12-26 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
US9707154B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-07-18 | Corning Incorporated | Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients |
WO2015088932A1 (en) | 2013-12-09 | 2015-06-18 | 3M Innovative Properties Company | Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods |
WO2015195355A1 (en) | 2014-06-20 | 2015-12-23 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods |
US10370564B2 (en) | 2014-06-20 | 2019-08-06 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods |
KR20170020869A (ko) | 2014-06-20 | 2017-02-24 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 실세스퀴옥산 중합체 코어 및 실세스퀴옥산 중합체 외층을 포함하는 경화성 중합체 및 방법 |
TWI705946B (zh) | 2014-09-05 | 2020-10-01 | 美商康寧公司 | 玻璃物品及改善玻璃物品可靠性的方法 |
WO2016048736A1 (en) | 2014-09-22 | 2016-03-31 | 3M Innovative Properties Company | Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core silsesquioxane polymer outer layer, and reactive groups |
US9957416B2 (en) | 2014-09-22 | 2018-05-01 | 3M Innovative Properties Company | Curable end-capped silsesquioxane polymer comprising reactive groups |
CN107001102A (zh) | 2014-11-26 | 2017-08-01 | 康宁股份有限公司 | 用于生产强化且耐用玻璃容器的方法 |
EP3150564B1 (en) | 2015-09-30 | 2018-12-05 | Corning Incorporated | Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings |
RU2729081C2 (ru) | 2015-10-30 | 2020-08-04 | Корнинг Инкорпорейтед | Изделия из стекла со смешанными полимерными и металлоксидными покрытиями |
WO2020130945A1 (en) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | Agency For Science, Technology And Research | Modifier, modified clay material, composite, and related methods |
WO2021016100A1 (en) * | 2019-07-19 | 2021-01-28 | ACatechol, Inc. | Molecularly well-defined antibiofouling and polyionic coatings |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6100417A (en) * | 1999-08-31 | 2000-08-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Functionalizing olefin bearing silsesquioxanes |
US6329490B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-12-11 | Mitsubishi Materials Corporation | Polyhedral organosilicon compound and method for producing the same |
WO2004038769A2 (en) * | 2002-10-24 | 2004-05-06 | Intel Corporation | Flip-chip system and method of making same |
JP2004529984A (ja) * | 2000-10-27 | 2004-09-30 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 有機/無機ナノ複合体用の十分に規定されたナノサイズの構築ブロック |
US20050033077A1 (en) * | 2002-09-17 | 2005-02-10 | Mikio Yamahiro | Production process for silicon compound and the same |
US20060040103A1 (en) * | 2004-06-08 | 2006-02-23 | Nanosys, Inc. | Post-deposition encapsulation of nanostructures: compositions, devices and systems incorporating same |
WO2006062219A1 (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-15 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Ultraviolet transmissive polyhedral silsesquioxane polymers |
JP2006269402A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 絶縁材料形成用組成物および絶縁膜 |
WO2006132656A2 (en) * | 2004-09-10 | 2006-12-14 | Hybrid Plastics, Inc. | High use temperature nanocompositie resins |
US20070045619A1 (en) * | 2005-08-25 | 2007-03-01 | Jong-Jin Park | Silsesquioxane-based compound and organic light-emitting device including the same |
JP2007509177A (ja) * | 2003-10-23 | 2007-04-12 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 多面シルセスキオキサンの簡便な合成及びその使用 |
-
2008
- 2008-06-02 WO PCT/US2008/065554 patent/WO2009002660A2/en active Application Filing
- 2008-06-02 ES ES08825973T patent/ES2435200T3/es active Active
- 2008-06-02 EP EP08825973.4A patent/EP2155761B1/en not_active Not-in-force
- 2008-06-02 JP JP2010512265A patent/JP2010530911A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6329490B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-12-11 | Mitsubishi Materials Corporation | Polyhedral organosilicon compound and method for producing the same |
US6100417A (en) * | 1999-08-31 | 2000-08-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Functionalizing olefin bearing silsesquioxanes |
JP2004529984A (ja) * | 2000-10-27 | 2004-09-30 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 有機/無機ナノ複合体用の十分に規定されたナノサイズの構築ブロック |
US20050033077A1 (en) * | 2002-09-17 | 2005-02-10 | Mikio Yamahiro | Production process for silicon compound and the same |
WO2004038769A2 (en) * | 2002-10-24 | 2004-05-06 | Intel Corporation | Flip-chip system and method of making same |
JP2007509177A (ja) * | 2003-10-23 | 2007-04-12 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 多面シルセスキオキサンの簡便な合成及びその使用 |
US20060040103A1 (en) * | 2004-06-08 | 2006-02-23 | Nanosys, Inc. | Post-deposition encapsulation of nanostructures: compositions, devices and systems incorporating same |
WO2006132656A2 (en) * | 2004-09-10 | 2006-12-14 | Hybrid Plastics, Inc. | High use temperature nanocompositie resins |
WO2006062219A1 (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-15 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Ultraviolet transmissive polyhedral silsesquioxane polymers |
JP2006269402A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 絶縁材料形成用組成物および絶縁膜 |
US20070045619A1 (en) * | 2005-08-25 | 2007-03-01 | Jong-Jin Park | Silsesquioxane-based compound and organic light-emitting device including the same |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6013023111; 'A new type of low-kappa dielectric films based on polysilsesquioxanes' ADVANCED MATERIALS 14,No.19, 20021002, 1369-1373 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173760A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Kaneka Corp | 液状多面体構造ポリシロキサン系化合物および該化合物を用いた組成物と硬化物。 |
JP2014208615A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-11-06 | Jnc株式会社 | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 |
CN103288867A (zh) * | 2013-06-18 | 2013-09-11 | 武汉绿凯科技有限公司 | 一种新型烷氧基硅烷基poss及其制备方法和应用 |
JP2019189564A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 |
JP7066173B2 (ja) | 2018-04-26 | 2022-05-13 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 |
JP7544371B2 (ja) | 2020-05-21 | 2024-09-03 | 国立大学法人 鹿児島大学 | 膜、防曇膜、ハードコート膜及び膜の製造方法 |
WO2024166423A1 (ja) * | 2023-02-10 | 2024-08-15 | 一三 東新 | 撥水材、撥水性塗料、及び撥水性コンクリートの製造方法、防カビ方法、防錆方法、並びに撥水材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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WO2009002660A2 (en) | 2008-12-31 |
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