JP2014197150A - 半導体変調器を作製する方法、半導体変調器 - Google Patents
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Abstract
Description
基板21:半絶縁性のInP。
n+型の第1コンタクト層23a;SiドープInP。
n型の第1クラッド層23b:SiドープInP。
i型コア層23c:アンドープGaInAsP。
p型の第2クラッド層23d:ZnドープInP。
p+型の第2コンタクト層23e;ZnドープInP。
樹脂体25:ベンゾシクロブテン(BCB)樹脂。
無機絶縁膜24:シリコン酸化物。
無機絶縁膜26:シリコン酸化物。
Claims (14)
- 半導体変調器を作製する方法であって、
第1エリア及び第2エリアを含む主面を有する半絶縁性のInP基板と、前記InP基板の前記主面上に設けられIII−V化合物半導体層からなる積層体とを含むエピタキシャル基板を準備する工程と、
前記半導体変調器の光導波路を規定するパターンを有するマスクを用いて前記積層体をエッチングして、前記InP基板の前記第1エリア上に前記半導体変調器のための光導波路メサを形成する工程と、
前記光導波路メサを埋め込むように樹脂体を前記InP基板上に形成する工程と、
前記InP基板の前記第2エリア上において前記樹脂体に第1開口を形成する工程と、
パッド電極のための下地構造を前記InP基板の前記第2エリアに形成する工程と、
前記樹脂体の前記第1開口において、前記下地構造に接するようにパッド電極を形成する工程と、
を備え、
前記下地構造は前記InP基板の前記第2エリアに接合を成し、
前記下地構造は、III−V化合物半導体と異なる無機化合物の絶縁体を備える、半導体変調器を作製する方法。 - 前記下地構造は、厚さ200nm以上のシリコン系無機絶縁膜を含む、請求項1に記載された半導体変調器を作製する方法。
- 前記変調器の前記光導波路の第1部分への電気的な接続のための第2開口を前記樹脂体に形成する工程と、
前記第2開口に電極を形成する工程と、
を更に備え、
前記光導波路メサの前記第1部分は、第1導電型III−V化合物半導体の第1クラッド層と、III−V化合物半導体のコア層と、第2導電型III−V化合物半導体の第2クラッド層と、を含み、
前記パッド電極は、前記第2開口の前記電極に金属配線を介して接続されており、
前記金属配線は前記光導波路メサの第2部分上を通過する、請求項1又は請求項2に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記光導波路メサの前記第2部分は、前記第1クラッド層、前記コア層、及び前記第2クラッド層を含み、
前記コア層は前記第1クラッド層と前記第2クラッド層との間に設けられ、
前記光導波路メサの前記第2部分上において、前記樹脂体の厚さは2マイクロメートル以上である、請求項3に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記樹脂体を形成する前に、前記光導波路メサを覆うように第1絶縁膜を成長する工程と、
前記樹脂体の前記第1開口において前記第1絶縁膜をエッチングする工程と、
を更に備え、
パッド電極のための下地構造を前記InP基板の前記第2エリアに形成する前記工程は、前記第1絶縁膜をエッチングした後に前記樹脂体及び前記InP基板上に第2絶縁膜を気相成長法で成長する工程を含み、
前記第2絶縁膜は前記InP基板の前記第2エリアに接合を成し、
前記下地構造は、前記第2エリアの前記第2絶縁膜を含む、請求項3又は請求項4に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記下地構造としての前記第2絶縁膜を成長した後に、前記パッド電極及び前記金属配線のためのパターンを有するシード層を前記樹脂体及び前記InP基板上に形成する工程と、
を備え、
前記InP基板の前記第2エリア上において前記樹脂体に第1開口を形成する工程は、
前記第1開口を規定するレジストマスクを前記樹脂体に形成する工程と、
前記レジストマスクを用いて前記樹脂体の第1エッチングを行う工程と、
前記樹脂体の前記第1エッチングの後に、前記レジストマスクのエッチングにより前記第1開口を拡大する工程と、
前記レジストマスクの前記エッチングの後に、前記樹脂体の第2エッチングを行う工程と、
を含み、
前記シード層は前記第2絶縁膜に接触を成し、
前記パッド電極及び前記金属配線は、前記シード層を用いてメッキ法により形成される、請求項5に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記樹脂体は、BCB樹脂を備え、
前記第2絶縁膜は、シリコン酸化物及びシリコン窒化物の少なくともいずれかを備える、請求項5又は請求項6に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記下地構造を前記InP基板の前記第2エリアに形成する前記工程は、
前記樹脂体を形成する前に、前記光導波路メサを覆うように第1絶縁膜を成長する工程と、
前記樹脂体を形成する前に、前記InP基板の前記第2エリアにおいて前記第1絶縁膜上に金属体を形成する工程と、
を含み、
前記パッド電極は、前記樹脂体の前記第1開口に露出されており、
前記金属体は前記パッド電極を支持する、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記樹脂体は前記金属体の縁の少なくとも一部分上に設けられ、
前記金属体の前記縁は前記第1絶縁膜と前記樹脂体との間に挟まれ、
前記金属体の上面は前記樹脂体に接触する、請求項8に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記金属体上及び前記樹脂体上に第3絶縁膜を気相成長法で成長する工程と、
前記第3絶縁膜にパターン形成して、前記金属体上に開口を形成する工程と、
を備え、
前記金属体の上面は前記第3絶縁膜に接触し、
前記樹脂体の前記第1開口は前記金属体上において前記第3絶縁膜の開口のサイズより大きなサイズを有する、請求項8又は請求項9に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 前記樹脂体は、BCB樹脂を備え、
前記第3絶縁膜は、シリコン酸化物又はシリコン窒化物を備える、請求項10に記載された半導体変調器を作製する方法。 - 半導体変調器であって、
第1エリア及び第2エリアを含む主面を有する半絶縁性のInP基板と、
前記InP基板の前記第1エリア上に設けられた変調用の光導波路メサと、
前記光導波路メサに電気信号を供給する電極と、
前記InP基板の前記第1エリアにおいて前記光導波路メサを埋め込む樹脂体と、
前記InP基板の前記第1エリア上の前記光導波路メサを覆う第1部分、及び前記InP基板の前記第2エリアに接触を成す第2部分を有する無機絶縁層と、
前記InP基板の前記第2エリア上に設けられ前記電気信号を受けるパッド電極と、
前記電極を前記パッド電極に接続する金属配線層と、
を備え、
前記パッド電極は、下地構造上に設けられ、
前記下地構造は、前記無機絶縁層の前記第2部分と、前記無機絶縁層の前記第2部分に接触を成す金属体とを含み、
前記下地構造は、前記InP基板の前記第2エリアに接触を成すと共に、前記パッド電極を支持する、半導体変調器。 - 前記パッド電極の位置に合わせた開口を有すると共に前記樹脂体上に設けられたシリコン系無機絶縁膜を更に備え、
前記樹脂体は前記金属体の縁の少なくとも一部分上に設けられ、
前記金属体の上面は前記樹脂体に接触すると共に前記シリコン系無機絶縁膜に接触する、請求項12に記載された半導体変調器。 - 半導体変調器であって、
第1エリア及び第2エリアを有する主面を有する半絶縁性のInP基板と、
前記InP基板の前記第1エリア上に設けられた変調用の光導波路メサと、
前記光導波路メサに電気信号を供給する電極と、
前記InP基板の前記第1エリアにおいて前記光導波路メサを埋め込む樹脂体と、
前記InP基板の前記第1エリア上の前記樹脂体を覆う第1部分、及び前記InP基板の前記第2エリアに接触を成す第2部分を有する無機絶縁層と、
前記InP基板の前記第2エリア上に設けられ前記電気信号を受けるパッド電極と、
前記電極を前記パッド電極に接続する金属配線層と、
を備え、
前記パッド電極は、下地構造上に設けられ、
前記下地構造は、前記無機絶縁層の前記第2部分を含み、
前記下地構造は、前記InP基板の前記第2エリアに接触を成すと共に、前記パッド電極を支持し、
前記光導波路は第1部分及び第2部分を有し、
前記光導波路メサの前記第1部分は、第1導電型III−V化合物半導体の第1クラッド層と、III−V化合物半導体のコア層と、第2導電型III−V化合物半導体の第2クラッド層と、を含み、
前記コア層は前記第1クラッド層と前記第2クラッド層との間に設けられ、
前記樹脂体は、前記光導波路の前記第1部分上に設けられた第2開口を有し、
前記光導波路メサの前記第2部分は、前記第1クラッド層、前記コア層、及び前記第2クラッド層を含み、
前記パッド電極は、前記第2開口の前記電極に金属配線を介して接続されており、
前記金属配線は前記光導波路メサの前記第2部分上を通過し、前記樹脂体は、前記金属配線と前記光導波路メサとの間に設けられている、半導体変調器。
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