JP2014194531A - 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板と、透明基板の主表面上に形成された、金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜と、この光半透過膜上に形成された、クロム系材料から構成されるエッチングマスク膜とを備え、光半透過膜とエッチングマスク膜との界面に組成傾斜領域Pが形成され、この組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分の割合が、深さ方向に向かって段階的および/または連続的に増加している。
【選択図】図5
Description
特許文献1には、透明基板と、透明基板上に形成された遮光層と、遮光層の周囲に形成され、300nm以上500nm以下の波長領域のいずれかの光に対して180度の位相差をもたせることが可能な酸化窒化クロム系材料からなる位相シフト層とを備えたハーフトーン型位相シフトマスクが記載されている。この位相シフトマスクは、透明基板上の遮光層をパターニングし、遮光層を被覆するように位相シフト層を透明基板上に形成し、位相シフト層上にフォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を露光および現像することでレジストパターンを形成し、レジストパターンをエッチングマスクとして位相シフト層をパターニングすることにより製造される。
透明基板と、
前記透明基板の主表面上に形成された、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜と、
該光半透過膜上に形成された、クロム系材料から構成されるエッチングマスク膜と
を備え、
前記光半透過膜と前記エッチングマスク膜との界面に組成傾斜領域が形成され、該組成傾斜領域では、前記光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分の割合が、深さ方向に向かって段階的および/または連続的に増加していることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
透明基板を準備する準備工程と、
前記透明基板の主表面上に、スパッタリングにより、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜を形成する半透過膜形成工程と、
前記光半透過膜上に、スパッタリングにより、クロム系材料から構成されるエッチングマスク膜を形成するエッチングマスク膜形成工程と
を有し、
前記半透過膜形成工程は、スパッタガス雰囲気でスパッタパワーを印加して金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜を成膜する成膜工程と、前記光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分を含むガス雰囲気に該光半透過膜を曝す曝露工程とを含み、該曝露工程は、前記光半透過膜を大気に曝すことなく前記成膜工程後に連続して行われることを特徴とする位相シフトマスクブランクの製造方法。
透明基板と、
該透明基板の主表面上にウェットエチングにより形成され、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜パターンと
を備え、
前記光半透過膜パターンは、上面および該光半透過膜パターンと前記透明基板との界面を除いた部分の組成が、実質的に均一であり、
前記光半透過膜パターンの断面が、該光半透過膜パターンの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成され、前記上辺と前記側辺との接点と前記上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での前記側辺の位置とを結んだ直線と、前記上辺とのなす角度が、85度から120度の範囲内であり、かつ、前記上辺と前記側辺との接点を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第1仮想線と、前記下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での前記側辺の位置を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、前記膜厚の2分の1以下であることを特徴とする位相シフトマスク。
透明基板と、
該透明基板の主表面上に形成された、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜パターンと
を備え、
前記光半透過膜パターンは、上面および該光半透過膜パターンと前記透明基板との界面を除いた部分の組成が、実質的に均一であり、
前記光半透過膜パターンの断面が、該光半透過膜パターンの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成され、前記上辺と前記側辺との接点と前記上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での前記側辺の位置とを結んだ直線と、前記上辺とのなす角度が、85度から120度の範囲内であり、かつ、前記上辺と前記側辺との接点を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第1仮想線と、前記下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での前記側辺の位置を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、前記膜厚の2分の1以下であることを特徴とする位相シフトマスク。
構成1乃至11のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランクのエッチングマスク膜上、または、構成12乃至16のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランクの製造方法によって得られた位相シフトマスクブランクのエッチングマスク膜上に、レジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記エッチングマスク膜をウェットエッチングしてエッチングマスク膜パターンを形成するエッチングマスク膜パターン形成工程と、
前記エッチングマスク膜パターンをマスクにして前記光半透過膜をウェットエッチングして光半透過膜パターンを形成する半透過膜パターン形成工程と
を有することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
基板上にレジスト膜が形成されたレジスト膜付き基板に対して、構成17乃至21のいずれか一に記載の位相シフトマスク、または、構成22乃至24のいずれか一に記載の位相シフトマスクの製造方法よって得られた位相シフトマスクを、前記レジスト膜に対向して配置する位相シフトマスク配置工程と、
前記露光光を前記位相シフトマスクに照射して、前記レジスト膜を露光するレジスト膜露光工程と
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
この光半透過膜パターンの組成は実質的に均一である。このため、光学特性が均一な位相シフトマスクを得ることができる。
また、この光半透過膜パターンの断面において、上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、85度から120度の範囲内にある。さらに、光半透過膜パターンの断面において、上辺と側辺との接点を通り透明基板の主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り透明基板の主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、膜厚の2分の1以下である。このため、位相シフト効果を十分に発揮できる光半透過膜パターンを有する位相シフトマスクを得ることができる。また、CDバラツキの小さい光半透過膜パターンを有する位相シフトマスクを得ることができる。この位相シフトマスクは、ラインアンドスペースパターンやコンタクトホールの微細化に対応することができる。
PSMTP(A)では、位相シフト膜パターンのエッジ部分は、透過率および位相差が0.05μmの幅で10段階に変化するように構成されている。10段階に構成されているエッジ部分のうち、遮光膜パターンに最も近い部分の透過率はi線に対して6%であり、遮光膜パターンに最も近い部分を透過した光と光透過部を透過した光との位相差はi線に対して180度である。10段階に構成されているエッジ部分のうち、光透過部に最も近い部分の透過率はi線に対して57.5%であり、光透過部に最も近い部分を透過した光と光透過部を透過した光との位相差はi線に対して20.19度である。尚、後述する実施例に記載のモリブデンシリサイド窒化膜(MoSiN)の場合、10段階に構成されているエッジ部分の仮想傾斜面の角度は、約165度である。
実施の形態1では、表示装置製造用の位相シフトマスクブランクおよびその製造方法について説明する。
以下、各工程を詳細に説明する。
表示装置製造用の位相シフトマスクブランクを製造する場合、先ず、透明基板を準備する。
透明基板の材料は、使用する露光光に対して透光性を有する材料であれば、特に制限されない。例えば、合成石英ガラス、ソーダライムガラス、無アルカリガラスが挙げられる。
次に、透明基板の主表面上に、スパッタリングにより、金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜を形成する。
詳細には、この半透過膜形成工程では、先ず、スパッタガス雰囲気でスパッタパワーを印加して金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜を成膜する成膜工程を行う。その後、光半透過膜を大気に曝すことなく成膜工程後に連続して、光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分を含むガス雰囲気に光半透過膜を曝す曝露工程を行う。
光半透過膜を構成する金属、ケイ素、窒素の組成は、露光光に対する所望の位相差(180度±20度)、透過率(1%以上20%以下)、ウェットエッチング特性(光半透過膜パターンの断面形状やCDばらつき)、耐薬性の観点から調整する。金属とケイ素の比率は、金属:ケイ素=1:1以上1:9以下が好ましい。窒素の含有量は、25原子%以上55原子%以下、さらに好ましくは、30原子%以上50原子%以下が好ましい。
次に、光半透過膜上に、スパッタリングにより、クロム系材料から構成されるエッチングマスク膜を形成する。
このマスク膜形成工程は、クロムまたはクロム化合物を含むスパッタターゲットを使用して、例えば、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、クリプトンガスおよびキセノンガスからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む不活性ガスと、酸素ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガス、酸化窒素系ガス、炭化水素系ガスおよびフッ素系ガスからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む活性ガスとの混合ガスからなるスパッタガス雰囲気で行われる。
図4に示すスパッタリング装置11はインライン型であり、搬入チャンバーLL、第1スパッタチャンバーSP1、バッファーチャンバーBU、第2スパッタチャンバーSP2、および搬出チャンバーULLの5つのチャンバーから構成されている。これら5つのチャンバーが順番に連続して配置されている。
また、搬入チャンバーLLおよび搬出チャンバーULLは、仕切板によりスパッタリング装置11の外部から仕切られることができる。
搬入チャンバーLL、バッファーチャンバーBU、および搬出チャンバーULLは、排気を行う排気装置(図示せず)に接続されている。
第2スパッタチャンバーSP2には、バッファーチャンバーBU側に、エッチングマスク膜を形成するためのクロムを含む第3スパッタターゲット15が配置され、第3スパッタターゲット15付近には、第3ガス導入口GA31(図示せず)が配置されている。また、第2スパッタチャンバーSP2には、搬出チャンバーULL側に、エッチングマスク膜を形成するためのクロムを含む第4スパッタターゲット16が配置され、第4スパッタターゲット付近には、第4ガス導入口GA4(図示せず)が配置されている。
図4では、第1スパッタターゲット13、第2スパッタターゲット14、第3スパッタターゲット、および第4スパッタターゲット15に、ハッチングを付して示している。
3層目および4層目の光半透過膜の成膜を回行う場合も、同様に行う。
組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分(図5では、窒素(N))の割合が、深さ方向に向かって段階的および/または連続的に単調増加している。
また、組成傾斜領域Pでは、酸素の割合は、組成均一領域Qにおける酸素の割合と殆ど変わらず、実質的に均一に含まれている。組成傾斜領域Pにおける酸素の割合(含有量)が、20原子%以下、好ましくは10原子%以下、さらに好ましくは5原子%以下である。
また、組成傾斜領域Pにおける前記エッチングマスク膜との境界でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合(N/Si)の最大値が3.0以上30以下、好ましくは、3.5以上25以下、さらに好ましくは4.0以上20以下である。但し、前記境界は、前記位相シフトマスクブランクを前記エッチングマスク膜側からX線光電子分光法により、測定ステップを0.5分の条件で組成分析を行ったときに、初めて1原子%以上のケイ素(Si)が検出される位置とする。
組成均一領域Qでは、モリブデン(Mo)、ケイ素(Si)および光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分(図5では、窒素(N))のそれぞれの割合の変動が、5原子%以下、好ましくは3原子%以下である。
実施の形態2では、表示装置製造用の位相シフトマスクおよびその製造方法について説明する。
詳細には、このレジストパターン形成工程では、先ず、エッチングマスク膜上にレジスト膜を形成する。その後、レジスト膜に対して所定のサイズのパターンを描画する。その後、レジスト膜を所定の現像液で現像して、レジストパターンを形成する。
レジスト膜に描画するパターンとして、ラインアンドスペースパターンやホールパターンが挙げられる。
エッチングマスク膜をウェットエッチングするエッチング液は、エッチングマスク膜を選択的にエッチングできるものであれば、特に制限されない。具体的には、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含むエッチング液が挙げられる。
光半透過膜をウェットエッチングするエッチング液は、光半透過膜を選択的にエッチングできるものであれば、特に制限されない。例えば、弗化水素酸、珪弗化水素酸、および弗化水素アンモニウムから選ばれた少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、および硫酸から選ばれた少なくとも一つの酸化剤とを含むエッチング液が挙げられる。具体的には、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素の混合溶液を純水で希釈したエッチング液が挙げられる。
半透過膜パターン上に、遮光膜パターンを有しないタイプの位相シフトマスクを製造する場合には、半透過膜パターン形成後、エッチングマスク膜パターンを剥離する。この場合、光半透過膜パターンは露光光の位相を変える性質を有する。
光半透過膜パターンとして、ラインアンドスペースパターンやホールパターンが挙げられる。
また、本発明の表示装置製造用の位相シフトマスクは、等倍露光のプロジェクション露光に使用されて位相シフト効果を十分に発揮する。特に、その露光環境としては、開口数(NA)は、好ましくは0.06〜0.15、より好ましくは0.08〜0.10であり、コヒーレンスファクター(σ)は、好ましくは0.5〜1.0である。
エッチングマスク膜パターンは、クロム(Cr)を含むクロム系材料から構成される。エッチングマスク膜パターンを構成するクロム系材料として、例えば、クロム窒化物(CrN)、クロム炭化物(CrC)、クロム炭化窒化物(CrCN)、クロム酸化窒化物(CrON)、クロム酸化炭化物(CrCO)、クロム酸化窒化炭化物(CrCON)が挙げられる。
光半透過膜パターンの断面は、光半透過膜パターンの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺23から構成される。図7および図8において、補助線21は光半透過膜パターンの上面に対応する上辺の位置を示し、補助線22は光半透過膜パターンの下面に対応する下辺の位置を示す。この場合、上辺と側辺との接点26と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置27とを結んだ直線と、上辺とのなす角度θが、85度から120度の範囲内である。図7において、補助線24は上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置を示す。また、上辺と側辺23との接点26を通り透明基板の主表面に対して垂直な第1仮想線29と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置28を通り透明基板の主表面に対して垂直な第2仮想線30との幅(以下、裾幅と称する場合がある)Dが、膜厚の2分の1以下である。図8において、補助線25は下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置を示す。
実施の形態3では、表示装置の製造方法について説明する。
次に、露光光を位相シフトマスクに照射して、レジスト膜を露光するレジスト膜露光工程を行う。
A.位相シフトマスクブランクおよびその製造方法
実施例1の位相シフトマスクブランクを製造するため、先ず、透明基板12として、3345サイズ(330mm×450mm×5mm)の合成石英ガラス基板を準備した。
このようにして、合成石英ガラス基板上に、光半透過膜とエッチングマスク膜とが形成された位相シフトマスクブランクを得た。
また、組成傾斜領域Pでは、酸素の含有量が、5原子%以下であった。
また、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、3.7であった。
なお、光半透過膜を形成後に大気中で保管したり、光半透過膜をエッチングマスク膜形成前に洗浄したとしても、一定の範囲の組成変化であれば、実施例1と同様の効果を得ることができる。
上述のようにして製造された位相シフトマスクブランクを用いて位相シフトマスクを製造するため、先ず、位相シフトマスクブランクのエッチングマスク膜上に、レジスト塗布装置を用いてフォトレジスト膜を塗布した。
その後、加熱・冷却工程を経て、膜厚1000nmのフォトレジスト膜を形成した。
その後、レーザー描画装置を用いてフォトレジスト膜を描画し、現像・リンス工程を経て、エッチングマスク膜上に、ラインパターンの幅が2.0μmおよびスペースパターンの幅が2.0μmのラインアンドスペースパターンのレジストパターンを形成した。
その後、レジストパターンを剥離した。
その後、加熱・冷却工程を経て、膜厚1000nmのフォトレジスト膜を形成した。
その後、レーザー描画装置を用いてフォトレジスト膜を描画し、現像・リンス工程を経て、エッチングマスク膜パターン上に、ラインパターンの幅が1.0μmのレジストパターンを形成した。
その後、レジストパターンを剥離した。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺23から構成される。補助線21は光半透過膜パターンPSの上面に対応する上辺の位置を示し、補助線22は光半透過膜パターンPSの下面に対応する下辺の位置を示す。
上辺と側辺との接点26と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置27とを結んだ直線と、上辺とのなす角度θが、105度であった。補助線24は上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置を示す。
また、上辺と側辺23との接点26を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、44nmであった。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが105度、上記幅が44nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して2.5分の1)と良好で、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSM(A)と同等の位相シフト効果を有する位相シフトマスクが得られた。
CDばらつきは0.096μmと良好であった。図6に示されるように、光半透過膜パターンPSのエッジEは直線状であり、CDばらつきが良好であることを示唆している。
実施例2では、光半透過膜が4層のモリブデンシリサイド窒化膜(MoSiN)から構成される場合について説明する。
実施例2の位相シフトマスクブランクの製造に、透明基板12として、3345サイズの合成石英ガラス基板を用いた。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った。その結果、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって連続的に増加していた。
また、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、3.6であった。
上述のようにして製造された位相シフトマスクブランクを用いて、実施例1と同じ方法により、エッチングマスク膜パターンおよび光半透過膜パターンを形成した。
光半透過膜パターンの形成後、レジストパターンを剥離した。その後、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含むクロムエッチング液によりエッチングマスク膜パターンを除去した。
このようにして、合成石英ガラス基板上に、光半透過膜パターンが形成された位相シフトマスクを得た。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺23から構成される。補助線21は光半透過膜パターンPSの上面に対応する上辺の位置を示し、補助線22は光半透過膜パターンPSの下面に対応する下辺の位置を示す。
上辺と側辺との接点26と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、105度であった。
また、上辺と側辺23との接点26を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線29と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置28を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線30との幅Dが、48nmであった。補助線25は下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置を示す。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが105度、上記幅が48nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して約2.3分の1)と良好で、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表2に示すPSM(B)と同等の位相シフト効果を有する位相シフトマスクが得られた。
実施例3では、光半透過膜が1層のモリブデンシリサイド窒化膜(MoSiN)から構成される場合について説明する。
実施例3の位相シフトマスクブランクの製造に、透明基板12として、上述の実施例1、2と同じ3345サイズの合成石英ガラス基板を用いた。
その後、光半透過膜が形成された合成石英ガラス基板を2日ほど大気中で保管した。
その後、実施例1と同じ方法により、光半透過膜上に、エッチングマスク膜を形成し、合成石英ガラス基板上に、光半透過膜とエッチングマスク膜とが形成された位相シフトマスクブランクを得た。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った。その結果では、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって連続的に増加していた。
また、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、8.2であった。
上述のようにして製造された位相シフトマスクブランクを用いて、実施例1と同じ方法により、位相シフトマスクを製造した。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、97度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、20nmであった。
また、CDばらつきは0.098μmと良好であった。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが97度、上記幅が20nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して5.5分の1)と良好で、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSM(A)と同等の位相シフト効果を有する位相シフトマスクが得られた。
実施例3では、光半透過膜が形成された合成石英ガラス基板を約2日大気中で保管した。
これに対し、実施例4では、光半透過膜が形成された合成石英ガラス基板を1週間大気中で保管した。それ以外は、実施例3と同じ方法により、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクを製造した。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った、その結果、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって連続的に増加していた。
また、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、3.2であった。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、120度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、42nmであった。
また、CDばらつきは0.105μmと良好であった。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが120度、上記幅が42nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して約2.6分の1)と良好で、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSM(A)と同等の位相シフト効果を有する位相シフトマスクが得られた。
実施例5では、光半透過膜上に絶縁層が形成される場合について説明する。
実施例5の位相シフトマスクブランクの製造に、透明基板12として、3345サイズの合成石英ガラス基板を用いた。
実施例1と同じ方法により、合成石英ガラス基板の主表面上に、光半透過膜を形成した。
その後、トレイ(図示せず)に搭載された合成石英ガラス基板を、矢印Sと逆の方向に搬送し、搬入チャンバーLLに戻した。合成石英ガラス基板を搬入チャンバーLLに戻す間、上述した方法と同じ方法により、2層目の光半透過膜を、ArガスとN2ガスとの混合ガス雰囲気に曝した。
その後、実施例1と同じ方法により、絶縁層上に、クロム炭化窒化膜(CrCN)からなる遮光層とクロム酸化窒化膜(CrON)とからなる反射防止層の積層膜を成膜した。
このようにして、合成石英ガラス基板上に、光半透過膜とエッチングマスク膜とが形成された位相シフトマスクブランクを得た。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った。その結果では、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって連続的に増加していた。
また、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、3.7であった。
上述のようにして製造された位相シフトマスクブランクを用いて、実施例1と同じ方法により、位相シフトマスクを製造した。
光半透過膜パターンの断面は、実施例1と同様に、合成石英ガラス基板と接する部分では裾を引き、エッチングマスク膜パターンと接する部分ではほぼ垂直である形状であった。
詳細には、光半透過膜パターンの断面は、光半透過膜パターンの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、105度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板の主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板の主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、44nmであった。
また、合成石英ガラス基板と接する光半透過膜パターンの角度は60度であり、エッチングマスク膜パターンと接する光半透過膜パターンの角度は75度であった。
また、CDばらつきは0.060μmと非常に良好であった。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが105度、上記幅が44nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して2.5分の1)と良好で、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSM(A)と同等の位相シフト効果を有する位相シフトマスクが得られた。
参考例1では、光半透過膜の成膜後に、光半透過膜表面をN2を含んだガス雰囲気に曝さなかった場合について説明する。
参考例1の位相シフトマスクブランクの製造に、透明基板12として、3345サイズの合成石英ガラス基板を用いた。
その後、トレイ(図示せず)に搭載された合成石英ガラス基板を、矢印Sと逆の方向に搬送し、搬入チャンバーLLに戻した。合成石英ガラス基板を搬入チャンバーLLに戻す間、形成された1層目の光半透過膜は、真空状態にあった。
このようにして、合成石英ガラス基板の主表面上に、2層のモリブデンシリサイド窒化膜(MoSiN)からなる合計膜厚110nmの光半透過膜を形成した。
その後、実施例1と同じ方法により、光半透過膜上に、エッチングマスク膜を形成し、合成石英ガラス基板上に、光半透過膜とエッチングマスク膜とが形成された位相シフトマスクブランクを得た。
上述のようにして製造された位相シフトマスクブランクを用いて、実施例1と同じ方法により、位相シフトマスクを製造した。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、80度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、45nmであった。
実施例3では、光半透過膜を形成する際、第2スパッタチャンバーSP2の第3ガス導入口GA3及び第4ガス導入口GA4からArガスとN2ガスとの混合ガスを導入した。
これに対し、参考例2では、光半透過膜を形成する際、第2スパッタチャンバーSP2の第3ガス導入口GA3及び第4ガス導入口GA4からいかなるガスも導入しなかった。それ以外は、実施例3と同じ方法により、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクを製造した。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った。その結果、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって段階的に増加していたが、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、2.4あった。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、135度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、85nmであった。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが135度、上記幅が85nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して約1.3分の1)とテーパー形状となった。従って、得られた位相シフトマスクでは、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSM(A)と同等の位相シフト効果までは得られない。
実施例3では、光半透過膜を形成する際、第2スパッタチャンバーSP2のガス導入口GA3及びガス導入口GA4からArガスとN2ガスとの混合ガスを導入した。
これに対し、参考例3では、光半透過膜を形成する際、第2スパッタチャンバーSP2の第3ガス導入口GA3及び第4ガス導入口GA4からArガス(150sccm)だけを導入した。それ以外は、実施例3と同じの方法により、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクを製造した。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った。その結果、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって段階的に増加していたが、組成傾斜領域Pにおけるケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、2.6であった。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、135度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、89nmであった。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが135度、上記幅が89nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して約1.2分の1)とテーパー形状となった。従って、得られた位相シフトマスクでは、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSM(A)と同等の位相シフト効果までは得られない。
実施例3では、光半透過膜を形成する際、第1スパッタチャンバーSP1の第1ガス導入口GA1からArガスとN2ガスとの混合ガス(Ar:50.0sccm、N2:100.0sccm)を導入し、第2スパッタチャンバーSP2の第3ガス導入口GA3及び第4ガス導入口GA4からArガスとN2ガスとの混合ガス(Ar:50.0sccm、N2:100.0sccm)を導入した。また、第1スパッタチャンバーSP1の第1スパッタターゲット13にスパッタパワー10.0kWを印加した。また、合成石英ガラス基板の搬送速度は、350mm/分とした。また、光半透過膜の膜厚は110nmであった。
これに対し、比較例1では、第1スパッタチャンバーSP1の第1ガス導入口GA1からArガスとN2ガスとの混合ガス(Ar:65sccm、N2:50sccm)を導入し、第2スパッタチャンバーSP2の第3ガス導入口GA3及び第4ガス導入口GA4からArガス(120sccm)を導入した。また、第1スパッタチャンバーSP1の第1スパッタターゲット13にスパッタパワー6.3kWを印加した。また、合成石英ガラス基板の搬送速度は、200mm/分とした。また、光半透過膜の膜厚は115nmであった。また、光半透過膜を形成した後、光半透過膜の表面を、オゾン水で洗浄をおこなった。それ以外は、実施例3と同じ方法により、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクを製造した。
上記実施例1と同様に、得られた位相シフトマスクブランクに対するXPSによる深さ方向の組成分析を行った。その結果、上記組成傾斜領域Pでは、光半透過膜のウェットエッチングを遅くする窒素(N)の含有量が、光半透過膜の深さ方向(合成石英ガラス基板の方向)に向かって減少している領域が存在していた。
また、組成傾斜領域Pにおけるエッチングマスク膜側の界面でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合の最大値は、2.0であった。
詳細には、光半透過膜パターンPSの断面は、光半透過膜パターンPSの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成される。
上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、160度であった。
また、上辺と側辺との接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、295nmであった。
また、合成石英ガラス基板QZと接する光半透過膜パターンPSの角度は15度であり、上辺と側辺との接点と上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での側辺の位置とを結んだ直線と、上辺とのなす角度が、160度であった。
また、上辺と側辺Tの接点を通り合成石英ガラス基板QZの主表面に対して垂直な第1仮想線と、下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での側辺の位置を通り合成石英ガラスQZの主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、295nmであった。
また、合成石英ガラス基板QZと接する光半透過膜パターンPSの角度は15度であり、エッチングマスク膜パターンCrと接する光半透過膜パターンPSの角度は165度であった。合成石英ガラス基板の搬送速度が遅く、光半透過膜の成膜後にAr雰囲気に曝される時間が長かったため、光半透過膜とエッチングマスク膜との界面の窒素濃度がより減少したため食い込みが大きくなったと考えられる。
上述の通り光半透過膜パターンの断面形状は、上記角度θが165度、上記幅が295nm(光半透過膜の膜厚110nmに対して約3倍)と大きなテーパー形状となった。従って、得られた位相シフトマスクでは、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含む露光光、より具体的には、i線、h線およびg線を含む複合光の露光光において、上記表1に示すPSMTP(A)と同等の位相シフト効果しか得られない。
また、CDばらつきは0.230μmであった。
また、上述の実施例では、光半透過膜の材料としてモリブデンシリサイド窒化膜の例を説明したが、これに限られない。光半透過膜の材料としてモリブデンシリサイド酸化窒化膜やモリブデンシリサイドの炭化酸化窒化膜であってもよい。また、モリブデンシリサイド以外の金属シリサイド系材料の場合でも上述と同等の効果が得られる。
また、上述の実施例では、表示装置製造用の位相シフトマスクブランクや、表示装置製造用の位相シフトマスクの例を説明したが、これに限られない。本発明の位相シフトマスクブランクや位相シフトマスクは、半導体装置製造用、MEMS製造用、プリント基板用等にも適用できる。
また、上述の実施例では、透明基板のサイズが、3345サイズ(330mm×450mm)の例を説明したが、これに限られない。表示装置製造用の位相シフトマスクブランクの場合、大型(Large Size)の透明基板が使用され、該透明基板のサイズは、一辺の長さが、10インチ以上である。表示装置製造用の位相シフトマスクブランクに使用する透明基板のサイズは、例えば、330mm×450mm以上2280mm×3130mm以下である。
また、半導体装置製造用、MEMS製造用、プリント基板用の位相シフトマスクブランクの場合、小型(Small Size)の透明基板が使用され、該透明基板のサイズは、一辺の長さが9インチ以下である。上記用途の位相シフトマスクブランクに使用する透明基板のサイズは、例えば、63.1mm×63.1mm以上228.6mm×228.6mm以下である。通常、半導体製造用、MEMS製造用は、6025サイズ(152mm×152mm)や5009サイズ(126.6mm×126.6mm)が使用され、プリント基板用は、7012サイズ(177.4mm×177.4mm)や、9012サイズ(228.6mm×228.6mm)が使用される。
Claims (27)
- 位相シフトマスクブランクにおいて、
透明基板と、
前記透明基板の主表面上に形成された、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜と、
該光半透過膜上に形成された、クロム系材料から構成されるエッチングマスク膜と
を備え、
前記光半透過膜と前記エッチングマスク膜との界面に組成傾斜領域が形成され、該組成傾斜領域では、前記光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分の割合が、深さ方向に向かって段階的および/または連続的に増加していることを特徴とする位相シフトマスクブランク。 - 前記光半透過膜は、該光半透過膜と前記エッチングマスク膜との界面および該光半透過膜と前記透明基板との界面を除いた部分の組成が、実質的に均一であることを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記光半透過膜は、複数の層から構成されていることを特徴とする請求項1または2記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記金属シリサイド系材料は、金属シリサイドの窒化物、金属シリサイドの酸化窒化物、金属シリサイドの酸化炭化物、金属シリサイドの炭化窒化物、金属シリサイドの炭化酸化窒化物のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記ウェットエッチング速度を遅くする成分が窒素または炭素であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記ウェットエッチング速度を遅くする成分が窒素である場合、前記組成傾斜領域における前記エッチングマスク膜との境界のうち、前記エッチングマスク膜側からX線光電子分光法により、測定ステップを0.5分の条件で組成分析を行ったときに、初めて1原子%以上のケイ素(Si)が検出される位置でのケイ素(Si)に対する窒素(N)の割合(N/Si)の最大値が3.0以上30以下であることを特徴とする請求項5記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記エッチングマスク膜は、遮光性を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記エッチングマスク膜は、前記光半透過膜側に形成された遮光層と該遮光層上に形成された反射防止層とを含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記エッチングマスク膜は、前記光半透過膜と接するように形成された絶縁層を含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記絶縁層は、Crを50原子%未満含むCrCOまたはCrCONから構成され、10nm以上50nm以下の厚さを有することを特徴とする請求項9記載の位相シフトマスクブランク。
- 前記位相シフトマスクブランクは、表示装置製造用位相シフトマスクブランクであることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランク。
- 位相シフトマスクブランクの製造方法において、
透明基板を準備する準備工程と、
前記透明基板の主表面上に、スパッタリングにより、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜を形成する半透過膜形成工程と、
前記光半透過膜上に、スパッタリングにより、クロム系材料から構成されるエッチングマスク膜を形成するエッチングマスク膜形成工程と
を有し、
前記半透過膜形成工程は、スパッタガス雰囲気でスパッタパワーを印加して金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜を成膜する成膜工程と、前記光半透過膜のウェットエッチング速度を遅くする成分を含むガス雰囲気に該光半透過膜を曝す曝露工程とを含み、該曝露工程は、前記光半透過膜を大気に曝すことなく前記成膜工程後に連続して行われることを特徴とする位相シフトマスクブランクの製造方法。 - 前記成膜工程は、金属とケイ素とを含むスパッタターゲットを使用して、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、クリプトンガスおよびキセノンガスからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む不活性ガスと、窒素ガス、一酸化窒素ガス、一酸化二窒素ガス、および二酸化窒素ガスからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む窒素または窒素化合物を含む活性ガス、若しくは、二酸化炭素ガスまたは炭化水素ガスを含む炭素化合物を含む活性ガスとの混合ガスからなるスパッタガス雰囲気で行われることを特徴とする請求項12記載の位相シフトマスクブランクの製造方法。
- 前記曝露工程は、窒素または窒素化合物を含むガス雰囲気で行われることを特徴とする請求項12または13記載の位相シフトマスクブランクの製造方法。
- 前記曝露工程は、炭素または炭素化合物を含むガス雰囲気で行われることを特徴とする請求項12または13記載の位相シフトマスクブランクの製造方法。
- 前記位相シフトマスクブランクは、表示装置製造用位相シフトマスクブランクであることを特徴とする請求項12乃至15のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランクの製造方法。
- 透明基板と、
該透明基板の主表面上にウェットエチングにより形成され、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜パターンと
を備え、
前記光半透過膜パターンは、上面および該光半透過膜パターンと前記透明基板との界面を除いた部分の組成が、実質的に均一であり、
前記光半透過膜パターンの断面が、該光半透過膜パターンの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成され、前記上辺と前記側辺との接点と前記上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での前記側辺の位置とを結んだ直線と、前記上辺とのなす角度が、85度から120度の範囲内であり、かつ、前記上辺と前記側辺との接点を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第1仮想線と、前記下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での前記側辺の位置を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、前記膜厚の2分の1以下であることを特徴とする位相シフトマスク。 - 表示装置製造用の位相シフトマスクにおいて、
透明基板と、
該透明基板の主表面上に形成された、露光光の位相を変える性質を有しかつ金属シリサイド系材料から構成される光半透過膜パターンと
を備え、
前記光半透過膜パターンは、上面および該光半透過膜パターンと前記透明基板との界面を除いた部分の組成が、実質的に均一であり、
前記光半透過膜パターンの断面が、該光半透過膜パターンの上面、下面および側面に対応する上辺、下辺および側辺から構成され、前記上辺と前記側辺との接点と前記上面から膜厚の3分の2下がった高さの位置での前記側辺の位置とを結んだ直線と、前記上辺とのなす角度が、85度から120度の範囲内であり、かつ、前記上辺と前記側辺との接点を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第1仮想線と、前記下面から膜厚の10分の1上がった高さの位置での前記側辺の位置を通り前記透明基板の前記主表面に対して垂直な第2仮想線との幅が、前記膜厚の2分の1以下であることを特徴とする位相シフトマスク。 - 前記光半透過膜パターンは、金属シリサイド窒化膜、金属シリサイド酸化窒化膜、金属シリサイドの酸化炭化物、金属シリサイドの炭化酸化窒化物のいずれから構成されることを特徴とする請求項17又は18に記載の位相シフトマスク。
- 前記光半透過膜パターンは、ラインアンドスペースパターンを含むことを特徴とする請求項17乃至19のいずれか一に記載の位相シフトマスク。
- 前記光半透過膜パターンは、ホールパターンを含むことを特徴とする請求項17乃至19のいずれか一に記載の位相シフトマスク。
- 位相シフトマスクの製造方法において、
請求項1乃至11のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランクのエッチングマスク膜上、または、請求項12乃至16のいずれか一に記載の位相シフトマスクブランクの製造方法によって得られた位相シフトマスクブランクのエッチングマスク膜上に、レジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記エッチングマスク膜をウェットエッチングしてエッチングマスク膜パターンを形成するエッチングマスク膜パターン形成工程と、
前記エッチングマスク膜パターンをマスクにして前記光半透過膜をウェットエッチングして光半透過膜パターンを形成する半透過膜パターン形成工程と
を有することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。 - 前記半透過膜パターン形成工程は、弗化水素酸、珪弗化水素酸、および弗化水素アンモニウムから選ばれた少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、および硫酸から選ばれた少なくとも一つの酸化剤とを含むエッチング液を用いてウェットエッチングを行うことを特徴とする請求項22記載の位相シフトマスクの製造方法。
- 前記位相シフトマスクは、表示装置製造用位相シフトマスクであることを特徴とする請求項22または23に記載の位相シフトマスクの製造方法。
- 表示装置の製造方法において、
基板上にレジスト膜が形成されたレジスト膜付き基板に対して、請求項17乃至21のいずれか一に記載の位相シフトマスク、または、請求項22乃至24のいずれか一に記載の位相シフトマスクの製造方法よって得られた位相シフトマスクを、前記レジスト膜に対向して配置する位相シフトマスク配置工程と、
前記露光光を前記位相シフトマスクに照射して、前記レジスト膜を露光するレジスト膜露光工程と
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記露光光は、300nm以上500nm以下の波長範囲の光を含むことを特徴とする請求項25記載の表示装置の製造方法。
- 前記露光光は、i線、h線およびg線を含む複合光であることを特徴とする請求項25または26記載の表示装置の製造方法。
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Related Child Applications (1)
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017033004A (ja) * | 2016-09-21 | 2017-02-09 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
JP2017167512A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | エスアンドエス テック カンパニー リミテッド | 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク |
KR20170112741A (ko) * | 2016-04-01 | 2017-10-12 | 주식회사 에스앤에스텍 | 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크, 포토 마스크 및 그의 제조 방법 |
JP2018049111A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、及びそれらを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 |
JP2019091097A (ja) * | 2016-03-16 | 2019-06-13 | エスアンドエス テック カンパニー リミテッド | 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク |
JP2019144587A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-08-29 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
CN110196530A (zh) * | 2018-02-27 | 2019-09-03 | Hoya株式会社 | 相移掩模坯料、相移掩模的制造方法、及显示装置的制造方法 |
CN110320739A (zh) * | 2018-03-28 | 2019-10-11 | Hoya株式会社 | 相移掩模坯料、相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法 |
JP2020046468A (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-26 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 |
CN111258175A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | Hoya株式会社 | 光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 |
CN111624848A (zh) * | 2019-02-28 | 2020-09-04 | Hoya株式会社 | 光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法 |
JP2020144358A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-10 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 |
JP2020154338A (ja) * | 2015-09-26 | 2020-09-24 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP2021144146A (ja) * | 2020-03-12 | 2021-09-24 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 |
KR20210116276A (ko) | 2020-03-16 | 2021-09-27 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6292581B2 (ja) * | 2014-03-30 | 2018-03-14 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP6621626B2 (ja) * | 2015-09-18 | 2019-12-18 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
JP2017182052A (ja) * | 2016-03-24 | 2017-10-05 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び表示装置の製造方法 |
JP7073246B2 (ja) * | 2018-02-27 | 2022-05-23 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 |
JP7204496B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2023-01-16 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 |
JP7151774B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2022-10-12 | 株式会社ニコン | 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク、露光方法、デバイスの製造方法、位相シフトマスクブランクスの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法 |
JP6756796B2 (ja) * | 2018-10-09 | 2020-09-16 | アルバック成膜株式会社 | マスクブランクス、ハーフトーンマスク、製造方法 |
JP7204979B2 (ja) * | 2018-11-30 | 2023-01-16 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 |
JP6987912B2 (ja) * | 2020-03-16 | 2022-01-05 | アルバック成膜株式会社 | マスクブランクス、位相シフトマスク、製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08262688A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-10-11 | Ulvac Seimaku Kk | 位相シフトフォトマスクブランクス、位相シフトフォトマスク、及びそれらの製造方法。 |
JP2000181049A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Hoya Corp | ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
JP2004318088A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-11-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランク及びフォトマスク並びにフォトマスクブランクの製造方法 |
JP2008242500A (ja) * | 2008-06-26 | 2008-10-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトフォトマスクの製造方法 |
JP2011013283A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ulvac Seimaku Kk | 位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスク |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3272790B2 (ja) * | 1992-12-03 | 2002-04-08 | ホーヤ株式会社 | 位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスクブランク |
US6037083A (en) * | 1998-12-22 | 2000-03-14 | Hoya Corporation | Halftone phase shift mask blanks, halftone phase shift masks, and fine pattern forming method |
JP2004302078A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 |
KR100635019B1 (ko) * | 2004-07-05 | 2006-10-17 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크와 포토마스크 및 그 제조방법 |
JP2006317665A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 |
JP4766518B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク及びフォトマスク |
TWI461833B (zh) * | 2010-03-15 | 2014-11-21 | Hoya Corp | 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法 |
JP5682493B2 (ja) * | 2010-08-04 | 2015-03-11 | 信越化学工業株式会社 | バイナリーフォトマスクブランク及びバイナリーフォトマスクの製造方法 |
JP5975653B2 (ja) * | 2011-01-25 | 2016-08-23 | Hoya株式会社 | マスクブランク製造用スパッタリング装置及び表示装置用マスクブランクの製造方法並びに表示装置用マスクの製造方法 |
-
2014
- 2014-02-19 JP JP2014029445A patent/JP6101646B2/ja active Active
- 2014-02-24 TW TW103106141A patent/TWI604263B/zh active
- 2014-02-24 TW TW106129835A patent/TWI631413B/zh active
- 2014-02-25 KR KR1020140022088A patent/KR101824291B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-02-24 JP JP2017033305A patent/JP6367401B2/ja active Active
- 2017-12-18 KR KR1020170174619A patent/KR102096427B1/ko active IP Right Grant
-
2020
- 2020-03-27 KR KR1020200037375A patent/KR102297223B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08262688A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-10-11 | Ulvac Seimaku Kk | 位相シフトフォトマスクブランクス、位相シフトフォトマスク、及びそれらの製造方法。 |
JP2000181049A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Hoya Corp | ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
JP2004318088A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-11-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランク及びフォトマスク並びにフォトマスクブランクの製造方法 |
JP2008242500A (ja) * | 2008-06-26 | 2008-10-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトフォトマスクの製造方法 |
JP2011013283A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ulvac Seimaku Kk | 位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスク |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7276778B2 (ja) | 2015-09-26 | 2023-05-18 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP2020154338A (ja) * | 2015-09-26 | 2020-09-24 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP2017167512A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | エスアンドエス テック カンパニー リミテッド | 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク |
JP2019091097A (ja) * | 2016-03-16 | 2019-06-13 | エスアンドエス テック カンパニー リミテッド | 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク |
KR20170112741A (ko) * | 2016-04-01 | 2017-10-12 | 주식회사 에스앤에스텍 | 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크, 포토 마스크 및 그의 제조 방법 |
KR102093103B1 (ko) | 2016-04-01 | 2020-03-25 | (주)에스앤에스텍 | 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크, 포토 마스크 및 그의 제조 방법 |
JP2018049111A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、及びそれらを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 |
JP2017033004A (ja) * | 2016-09-21 | 2017-02-09 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
JP2019144587A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-08-29 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
JP7106492B2 (ja) | 2017-11-24 | 2022-07-26 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
CN110196530A (zh) * | 2018-02-27 | 2019-09-03 | Hoya株式会社 | 相移掩模坯料、相移掩模的制造方法、及显示装置的制造方法 |
CN110196530B (zh) * | 2018-02-27 | 2024-05-14 | Hoya株式会社 | 相移掩模坯料、相移掩模的制造方法、及显示装置的制造方法 |
CN110320739A (zh) * | 2018-03-28 | 2019-10-11 | Hoya株式会社 | 相移掩模坯料、相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法 |
JP2020046468A (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-26 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 |
JP7254470B2 (ja) | 2018-09-14 | 2023-04-10 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 |
KR20230065208A (ko) * | 2018-11-30 | 2023-05-11 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 블랭크, 포토마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 |
KR102630136B1 (ko) * | 2018-11-30 | 2024-01-29 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 블랭크, 포토마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN111258175A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | Hoya株式会社 | 光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 |
JP2020144358A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-10 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 |
CN111624848A (zh) * | 2019-02-28 | 2020-09-04 | Hoya株式会社 | 光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法 |
JP7297692B2 (ja) | 2019-02-28 | 2023-06-26 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 |
JP2021144146A (ja) * | 2020-03-12 | 2021-09-24 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 |
JP7413092B2 (ja) | 2020-03-12 | 2024-01-15 | Hoya株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 |
KR20210116276A (ko) | 2020-03-16 | 2021-09-27 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법 |
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