JP2014187285A - 圧電振動子、超音波プローブ、圧電振動子製造方法および超音波プローブ製造方法 - Google Patents

圧電振動子、超音波プローブ、圧電振動子製造方法および超音波プローブ製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】誘電率と圧電定数とを向上させた圧電振動子を提供すること。
【解決手段】本実施形態に係る圧電振動子は、酸化マグネシウムと酸化インジウムとのうち少なくとも一方と酸化ニオブとを有する鉛複合ペロブスカイト化合物により構成され、結晶方位が[100]面である第1面と、前記第1面と対向し結晶方位が[100]面である第2面とを有し分極された単結晶圧電体と、前記単結晶圧電体の前記第1面側に設けられた第1電極および前記単結晶圧電体の前記第2面側に設けられた第2電極と、を具備し、前記単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の第1半価幅に対して、前記単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の第2半価幅は、0.22以上0.4以下であることを特徴とする。
【選択図】図8

Description

本発明の実施形態は、圧電振動子、超音波プローブ、圧電振動子製造方法および超音波プローブ製造方法に関する。
医用超音波診断装置、魚群探知機、ソナーなどの超音波画像検査装置は、超音波プローブを介して対象物に超音波を送信し、対象物の内部からの反射波により発生された反射信号(エコー信号)に基づいて、対象物の内部を画像化する。医用超音波診断装置および超音波画像検査装置においては、超音波送受信機能を有する電子操作式のアレイ式超音波プローブが主に用いられている。
一般的な超音波プローブは、バッキング材料と、バッキング材料上に接合され、圧電体の両面に電極を形成した圧電振動子と、圧電振動子上に接合された音響整合層とを有する。圧電振動子および音響整合層は、アレイ加工により複数のチャンネルとして形成される。音響整合層上には音響レンズが形成される。各チャンネルに対応する圧電振動子の電極は、制御信号基板(フレキシブル印刷配線板:Flexible printed circuit、FPC)とケーブルとを介して、医用超音波診断装置および超音波画像検査装置の装置本体に接続される。
特許第3251727号公報 特許第3987727号公報 特開2008−47693号公報
Kei-Pi Chen et al. Electric-field-induced phase transition of <100> oriented Pb(Mg1/2Nb2/3)-PbTixO3 crystals, J. Phys. Condensed Matter, vol.14, No.29, L571, (2002). C. -S. Tu et al. Phase stability after electric-field poling in Pb(Mg1/2Nb2/3)1-xTixO3 crystals, Physical Review B, 70, 220103, (2004).
目的は、圧電単結晶材料を超音波振動子などに用いる場合、誘電率と圧電定数d33とを向上させた圧電振動子及び圧電振動子製造方法とを提供することと、感度を向上させた超音波プローブ及び超音波プローブ製造方法を提供することとにある。
本実施形態に係る圧電振動子は、酸化マグネシウムと酸化インジウムとのうち少なくとも一方と酸化ニオブとを有する鉛複合ペロブスカイト化合物により構成され、結晶方位が[100]面である第1面と、前記第1面と対向し結晶方位が[100]面である第2面とを有し分極された単結晶圧電体と、前記単結晶圧電体の前記第1面側に設けられた第1電極および前記単結晶圧電体の前記第2面側に設けられた第2電極と、を具備し、前記単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の第1半価幅に対して、前記単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の第2半価幅は、0.22以上0.4以下であることを特徴とする。
図1は、本実施形態に対するX線回折において、回折角に対するX線強度分布の一例を示す図である。 図2は、本実施形態に対するX線回折において、ミラー指数(400)を説明するための説明図である。 図3は、圧電振動子を製造する手順の流れを示すフローチャートの一例を示す図である。 図4は、本実施形態の実施例1乃至7に係る圧電振動子の外観の一例を示す外観図である。 図5は、本実施形態に係り、圧電振動子に印加する交流電界と直流電界の一例を示す図である。 図6は、本実施形態に係り、圧電振動子に印加する交流電界と直流電界の一例を示す図である。 図7は、参考例に係る直流電界の印加の一例を示す図である。 図8は、本実施形態に係り、ミラー指数(400)に関するX線回折結果において、回折角(2θ)に対するX線強度の分布の一例を示す図である。 図9は、本実施形態に係る圧電振動子の誘電率の温度特性を、直流分極および未分極の圧電振動子における誘電率の温度特性とともに示す図である。 図10は、本実施形態に係る超音波プローブの構造の一例を示す図である。 図11は、本実施形態の実施例4に係る超音波プローブを製造する手順の流れを示すフローチャートの一例を示す図である。 図12は、本実施形態に係り、周波数スペクトラムを、比較例の周波数スペクトラムとともに示す図である。 図13は、本実施形態に係り、複数のチャンネルによる出力(感度)分布を、比較例の出力分布とともに示す図である。
このような超音波プローブにおいて、圧電振動子は超音波の送受信を行う能動部品である。圧電振動子の特性として、誘電率と圧電定数とが大きいことと、誘電損失が小さいこととが要求される。加えて、圧電振動子の内部および複数の圧電振動子間において、誘電率、誘電損失などの誘電特性と、圧電定数などの圧電特性とが均一であることが要求される。また、このような超音波プローブにおける送信超音波の中心周波数は、例えば、2以上10MHz以下である。このため、圧電振動子の厚みは、一般的に0.05以上0.5mm以下程度である。
圧電振動子の材料としては、1970年代からジルコンチタン酸鉛(PZT)系圧電セラミックスが用いられてきた。圧電振動子の材料として、2005年頃から、鉛複合ペロブスカイト構造を持つ高性能な圧電単結晶が使用され始めた。鉛複合ペロブスカイト構造を持つ高性能な圧電単結晶は、5mol%以上45mol%以下のチタン酸鉛(PbTiO)と、55mol%以上95mol%以下のPb(B1、Nb)O(B1は、マグネシウム、亜鉛、インジウム、スカンジウムなどのうち少なくとも一つ)とから構成されるリラクサ系鉛複合ペロブスカイト化合物により構成される。なお、圧電単結晶は、ジルコン酸鉛を30mol%以下の割合で有していてもよい。
従来技術において、[Pb(Mg、Nb)O(1−x)・[Pb(TiO)](x)(以下、PMN−PTと呼ぶ):(x=0.26以上0.29以下)などの組成を持つ鉛複合ペロブスカイト構造を有する単結晶は、擬立方晶である。25℃における上記圧電単結晶の誘電率の値は5000以上である。加えて、擬立方晶と正方晶の間の変態温度Trtにおいて、鉛複合ペロブスカイト構造を有する単結晶の比誘電率の値は、25℃におけるPZT系圧電セラミクスの比誘電率の2.5倍以上である。
他の従来例として、亜鉛ニオブ酸鉛−チタン酸鉛Pb(Zn1/3、Nb2/3)O−Pb(TiO)(以下、PZN−PTと呼ぶ)において、相転移温度以上の高温から温度を低下させながら直流電界を印加すると、条件に応じてドメインサイズを8−20μmの範囲で制御できることが示されている。この方法におけるドメインは、電極面に対して平行方向に形成される。
圧電振動子に用いられる圧電素子における結晶の方位は、すべての面が[100]である。全面の結晶方位が[100]となる圧電素子が、超音波プローブに主として用いられている。また、上記圧電素子に酸化マンガンなどを添加した材料も、超音波プローブに用いられている。圧電素子は、0.05以上0.5mm以下の厚みに研磨される。その後、圧電素子の上下面に電極が形成される。具体的には、圧電素子の上下面に、銀(Ag)、金(Au)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、パラジウム(Pd)などが、焼付け方法、スパッタ、蒸着方法、湿式メッキ方法などの方法で設けられる。その後、室温から200℃の温度範囲内で、0.2kV/mm以上3kV/mm以下の直流電界が、1分以上100分以下程度印加される。直流電界の印加による分極処理により、圧電振動子が完成される。
例えば、感度及び解像度が高い、圧電単結晶及びその製造方法、圧電素子、超音波プローブを提供するために、圧電振動子を200℃から40℃まで冷却しながら1kV/mmの直流電界で分極することがある。
また、例えば、分極方向の縦方向振動モードの電気機械結合係数k33が80.2%以上(k33≧80.2%)で、且つ圧電歪定数d33が960pC/N以上(d33≧960pC/N)を有する圧電素子がある。この圧電素子は、0.91PZN−0.09PTからなる。さらに、この圧電素子は、分極方向に直交する方向の横方向振動モードの電気機械結合係数k31が74%以上(k31≧74%)で、且つ圧電歪定数d31が1263pC以上(d31≧1263pC/N)を有する。加えて、この圧電素子は、k31に関する分極方向に直交する方向の横方向振動モードの共振周波数(fr)と、圧電素子の振動方向の長さ(L)との積である周波数定数(fc31=fr・L)の値が、609Hz・m以下(fc31≦609Hz・m)であることを特徴とする。この圧電素子を用いた圧電振動子は、ドメイン制御圧電単結晶振動子と呼ばれる。ドメイン制御圧電単結晶振動子は、次のように作製される。まず、圧電素子に補助電極が設けられる。補助電極に対する直流、交流、コロナ放電により仮分極が実行される。次いで、補助電極が剥離される。補助電極が設けられた面と異なる別の面に主電極が設けられる。そして、再び、直流電圧を印加することにより、ドメイン制御圧電単結晶振動子が完成される。
また、他の圧電振動子の製造方法の例として、無機材料微粒子をシート化して設けられた有機圧電材料(尿素、ポリエステル、ポリアミド)に、直流、交流及びコロナ放電で分極することで、圧電振動子が作製される。
また、0.7PMN−0.3PT単結晶の[100]板に印加する直流分極電界の強度を変えた場合において、X線による(400)回折角(2θ)の強度が測定されている。分極電界の強度が4kV/cmのとき、半価幅(FWHM:Full Width at Half Maximum)は0.44°となる。この値は、未分極品のFWHMの値0.56°よりも小さくなっている。しかし、更に電圧を増加させた13kV/cmでは、回折角は低下する。即ち、c軸格子面間隔が増加する。また、回折角2θの位置は、87.5°であり、分極前後において変化していない。更に、ピークの高さは、分極により、1300から1000へと低下している。また、未分極品の半価幅Wと分極品の半価幅W1との比であるW1/Wは、0.785である。未分極品の回折角Cと分極品の回折角C1との比であるC1/Cは、1.0000である。
また、(1−x)PMN−xPTにおいて、x=0.24、0.26、0.27、0.29、0.35の単結晶の[100]板において、分極前後でのX線による(002)回折角(2θ)の強度が測定されている。x=0.24mol%の結晶では、分極電界の強度が6kV/cmのとき、回折角は0.1°程度ずれる。このとき、c軸格子面間隔は小さくなる。しかし、更に電圧を増加させ、13kV/cmでは回折角は低下する。即ち、c軸格子面間隔が増加する。また、x=0.26以上0.35以下では、電界を印加すると、c軸格子面間隔は増加する。x=0.24の単結晶の未分極品の半価幅Wと分極品の半価幅W1との比であるW1/Wは0.8529である。また、未分極品の回折角Cと分極品の回折角C1との比であるC1/Cは1.0034である。
しかしながら、これまで知られている圧電単結晶を医用超音波振動子として用いる場合には、次のような問題点がある。例えば、誘電率の不足、圧電定数d33の不足、及び大きい誘電損失により生じる熱の発生、圧電振動子内部における誘電特性および圧電特性のばらつきによるチャンネル間の感度特性のばらつきが大きいことなどである。また、ソナーなどの用途に用いる場合においても、感度特性は満足すべき水準ではない。
以下、図面を参照しながら、X線回折現象について説明する。
図1は、本実施形態に係るX線回折の測定結果の一例を示す図である。図1に示すように、X線回折の測定結果は、回折角(2θ)に対するX線強度(cps:Count per second:一秒当たりのカウント数)の分布として得られる。本実施形態に関するX線の回折角は、以下の方法で行った。
X線回折の測定を行う装置は、例えば、理学電気のX線回折装置(ATX−G)である。X線源は、CuKα線(多層ミラー使用、平行ビーム系:発散角0.05°)である。出力は、管電圧が50kVであって、管電流が300mAである。スリット系は、1mmw×10mmh−Ge 220_2結晶−0.02mmw×5mmh−(SPL)−0.1mmw×5mmh−0.2mmwである。
本X線回折の測定結果を得る方法は、θ/2θ法である。θ/2θ法において、スキャン方式は、2θ/ω連続スキャンである。測定範囲は、98°以上102°以下である。測定スキップは、0.005°である。スキャン速度は、0.25°/minである。測定対象の回折線は、ミラー指数(400)に関する回折線である。X線回折の測定結果において、X線強度の決定方法は、半価幅平均法である。
図1に示すように、回折角の増加に伴いX線強度は減少する。本実施形態におけるX線回折の測定結果は、ミラー指数(400)のピーク近傍(98°以上102°以下の回折角の範囲)である。
図2は、ミラー指数(400)を説明するための説明図である。図2におけるa、b、c各々は、測定対象となる結晶の単位格子に関する軸である。図2において、(400)は、a軸における点a/4を通り、b軸とc軸とに平行な面である。本実施形態におけるX線回折の測定結果は、(400)面で回折されたX線強度に関するものである。
以下、図面を参照しながら、実施形態に係る圧電振動子の作製方法、圧電振動子、超音波プローブ、超音波プローブの製造方法を説明する。
本実施形態に係る圧電振動子は、以下の方法で作製される。
図3は、本実施形態に係る圧電振動子を製造する手順の流れを示すフローチャートである。マグネシウムニオブ酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O(以下、PMNと呼ぶ)、亜鉛ニオブ酸鉛(Pb(Zn1/3Nb2/3)O(以下、PZNと呼ぶ)、インジウムニオブ酸鉛(Pb(In1/2Nb1/2)O(以下、PINと呼ぶ)、チタン酸鉛PbTiO(以下、PTと呼ぶ)を有する圧電単結晶を作製するために、複数の原料が、所定の比率で調合される。原料としては、99.9%以上のPb、MgO、Nb、ZnO、
In、TiOが用いられる。これらの原料は秤量される。秤量された複数の原料は、ボールミルとジルコニアボールと蒸留水とを用いて、湿式状態で混合される。混合された複数の原料(以下、混合原料と呼ぶ)は、乾燥される。乾燥された混合原料に対して、850℃以上950℃以下で数回の仮焼きが実行される。この仮焼きにより、原料粉が作製される。
この作製された原料粉に、ポリビニルアルコール(PVA)などの水溶性結合剤(バインダ)が、原料粉の5%以上10%以下で添加される。バインダが添加された原料粉は、所定の形状にプレス機械を用いて成型される。成型後に、数時間に亘って500℃で、脱バインダ工程が実行される。脱バインダ工程が実行された混合原料は、数時間に亘って、1100℃以上1300℃以下で焼成される。以下、焼成された混合原料をセラミクスと呼ぶ。
セラミックスは、25mm以上50mm以下の直径を有し、100mm以上200mm以下の白金るつぼに投入される。なお、場合により、セラミクスの融点を下げるために少量の酸化鉛、または酸化ボロンが追加されることがある。白金るつぼの下部には、同一組成の[100]板、又は[110]板の種(Seed)の単結晶が配置される。単結晶の種の[100]板、又は[110]板の長さは、20mm以上70mm以下である。セラミクス及び種などが投入された白金るつぼの上部は、溶接で封入される。封入された白金るつぼは、白金るつぼ内の温度を1100℃以上1400℃以下で、5時間以上15時間以下に亘って保持する。これにより、白金るつぼ内のセラミクスは溶融する。この時、白金るつぼの下部に配置された種を溶かさないために、白金るつぼの下部から上部に亘って、20℃/cm以上60℃/cm以下の温度勾配が設けられる。
その後、長尺の単結晶を育成するためにルツボが0.2mm/時間以上0.6mm/時間以下で引き下げられる。合計で10日間以上30日間以下で結晶の育成が実行される。これにより圧電単結晶のインゴットが作製される。
すなわち、作製される圧電単結晶のインゴットは、少なくともチタン酸鉛(PbTiO)とリラクサ系鉛複合ペロブスカイト化合物(Pb(B1、B2)O):(B1はマグネシウム、インジウムのうち少なくとも一つ、B2はニオブ)を含む。上記圧電単結晶のインゴットの製造法には、フラックス法、融液ブリッジマン法、TSSG法(Top Seeded Solution Groth)、水平融解ブリッジマン法、CZ法(チョクラルスキー法)などがある。本実施形態においては、上記圧電単結晶のインゴットの製造法に限定されない。上記いずれかの方法により、圧電単結晶が作製される(ステップSa1)。
鉛複合ペロブスカイト化合物は、菱面体晶系(Rhombohedral)から正方晶系(Tetragonal)への相転移温度(以下、Trtと呼ぶ)と、菱面体晶系から単斜晶系(Monoclinic)への相転移温度(以下、Trmと呼ぶ)と、単斜晶系から正方晶系への相転移温度(以下、Tmtと呼ぶ)とを、80℃以上150℃以下の範囲で有する。相転移温度が80℃未満である場合、後述するように、誘電率、結合係数などの電気特性の温度依存性が顕著となる。また、相転移温度が150℃を超える場合、後述するように、室温において所望の誘電率が得られない。以上のことから、相転移温度の温度範囲は、80℃以上150℃以下であることが望ましい。
具体的には、鉛複合ペロブスカイト化合物は、67mol%以上74mol%以下のマグネシウムニオブ酸鉛またはインジウムニオブ酸鉛と、26mol%以上33mol%以下のチタン酸鉛とを有する。鉛複合ペロブスカイト化合物に対するチタン酸鉛の割合が26mol%未満では、高い誘電率及び結合係数が得られないことによる。また、鉛複合ペロブスカイト化合物に対するチタン酸鉛の割合が33mol%を超えると、相転移温度(Trt、Trm、Tmt)が80℃以下となり、特に室温から80℃において、誘電率及び結合係数の温度依存特性が顕著となる。以上のことから、高い誘電率と結合係数とを維持し、かつ室温から80℃において上記温度依存特性を低減させるために、鉛複合ペロブスカイト化合物におけるチタン酸鉛の割合を26mol%以上33mol%以下にする必要がある。
また、鉛複合ペロブスカイト化合物は、インジウムニオブ酸鉛とマグネシウムニオブ酸鉛とチタン酸鉛とを有していてもよい。すなわち、鉛複合ペロブスカイト化合物は、15mol%以上50mol%以下のインジウムニオブ酸鉛と、24mol%以上59mol%以下のマグネシウムニオブ酸鉛と、26mol%以上33mol%以下のチタン酸鉛とを有し、これらの合計は100mol%である。すなわち、Pb[{(Mg1/3Nb2/3)y(In1/2Nb1/2)z}Tix]Oとした時に、x=0.26以上0.33以下、y=0.24以上0.59以下、z=0.15以上0.50以下、であり、かつ、x+y=0.67以上0.74以下であり、かつ、x+y+z=1である。
鉛複合ペロブスカイト化合物に対するチタン酸鉛の割合が26mol%未満では、必要な誘電率が得られない。また、鉛複合ペロブスカイト化合物に対するチタン酸鉛の割合が33mol%を超えると、室温から70℃までの温度範囲において、誘電率及び結合係数の温度依存特性が顕著となる。すなわち、室温から70℃までの温度範囲において、鉛複合ペロブスカイト化合物の電気的特性が不安定になる。
また、鉛複合ペロブスカイト化合物に対するマグネシウムニオブ酸鉛の割合が24mol%未満では、必要な誘電率が得られない。また、鉛複合ペロブスカイト化合物に対するチタン酸鉛の割合が74mol%を超えると、室温から70℃までの温度範囲において、誘電率及び結合係数の温度依存特性が顕著となる。すなわち、室温から70℃までの温度範囲において、鉛複合ペロブスカイト化合物の電気的特性が不安定になる。また、鉛複合ペロブスカイト化合物に対するインジウムニオブ酸鉛の割合が50mol%を超えると、鉛複合ペロブスカイト化合物の単結晶の作製が困難となり、および高い均一性を有する3成分(インジウムニオブ酸鉛、マグネシウムニオブ酸鉛、チタン酸鉛)から構成される鉛複合ペロブスカイト化合物の単結晶が得られないことがある。
以上のことから、高い誘電率と結合係数とを維持し、かつ室温から70℃において上記温度依存特性を低減させるために、鉛複合ペロブスカイト化合物は、0mol%以上50mol%以下のインジウムニオブ酸鉛と、24mol%以上74mol%以下のマグネシウムニオブ酸鉛と、26mol%以上33mol%以下のチタン酸鉛とを有し、インジウムニオブ酸鉛とマグネシウムニオブ酸鉛の和を67mol%以上74mol%以下とすることによりこれらの合計を100mol%とする。
圧電単結晶は、さらにジルコン酸鉛を15mol%以下で含んでいてもよい。このとき、圧電単結晶の組成は以下のようになる。すなわち、0mol%以上15mol%以下のジルコン酸鉛および0mol%以上50mol%以下のインジウムニオブ酸鉛と、2mol%以上74mol%以下のマグネシウムニオブ酸鉛と、26mol%以上33mol%以下のチタン酸鉛とを有し、これらの合計は100mol%である。すなわち、ジルコン酸鉛をvmol%、インジウムニオブ酸鉛をzmol%、マグネシウムニオブ酸鉛をymol%、チタン酸鉛をxmol%とした時にv=0以上0.15以下、x=0.24以上0.33以下、y=0.24以上0.59以下、z=0.15以上0.5以下であり、かつ、v+y+z=0.67以上0.74以下であり、かつ、v+x+y+z=1である。
結晶の方位としては、すべての面が[100]である圧電単結晶が、超音波プローブに主に用いられている。また、これらの圧電単結晶に酸化マンガンなどが微量に添加されていてもよい。
超音波プローブの駆動中心周波数を2MHz以上10MHz以下とするために、医用超音波診断装置および超音波画像検査装置に用いられる超音波プローブの圧電振動子は、例えば0.05mm以上0.5mm以下の厚みとする。すなわち、電極同士の距離は、0.05mm以上0.5mmである。言い換えると、一対の電極の圧電振動子と対向する面同士の間隔が0.05mm以上0.5mmである。
上記の方法で得られた作製された単結晶インゴットの中央部付近から、0.1mm以上0.5mm以下の厚みを有するダイヤモンドブレードまたはやワイヤーソーを用いて、厚みが0.1mm以上0.7mm以下の複数のウエハ(以下、単結晶ウエハと呼ぶ)を作製する。単結晶ウエハのすべての面は、結晶方位[100]である。続いて、ラッピングまたはポリッシングにより、厚みが、例えば0.05mm以上0.5mm以下であって、電極が作製される面の結晶方位が[100]となる結晶板(単結晶ウエハ)が作製される(ステップSa2)。
その後に、電極として、焼付け型の銀または金、スパッタ法またはメッキ法で作製した金、白金、またはニッケルなどが、単結晶ウエハの前面及び背面に例えば100nm以上5000nm以下程度の厚みで形成される(ステップSa3)。以下、単結晶ウエハの前面に設けられた電極を前面電極、単結晶ウエハの前面に設けられた電極を背面電極と呼ぶ。なお、スパッタ法、蒸着法、またはメッキ法で電極を付ける場合には、単結晶ウエハとの密着性を向上させるために、下地電極としてクロム(Cr)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)などを10nm以上100nm程度付与することが望ましい。以下、電極が設けられた単結晶ウエハを圧電振動子と呼ぶ。
この未分極の圧電振動子に対して、次の交流分極工程(ステップSa4)が実施される。
交流分極工程(ステップSa4)における分極電界は、例えば周波数が0.1Hz以上1000Hz以下のオフセットの無い(最大電圧の絶対値と最小電圧の絶対値とが等しい)正弦波、あるいは三角波の交流電界である。周波数が0.1Hz未満の周波数は、後述する本願に特徴の効果が小さい周波数である。すなわち、0.1Hz未満の周波数の交流分極において、誘電率および圧電定数の増加率は、10%以下となる。また、1000Hzを超える周波数は、単結晶ウエハに対して、微細なクラックの発生、および発熱による絶縁破壊の発生を生じさせやすくなる。その結果、単結晶ウエハは壊れやすくなる。以上のことから、交流電界の周波数は0.1Hz以上1000Hz以下の範囲である必要がある。この交流電界におけるピークトゥピーク(peak−to−peak:以下、ppと呼ぶ)の電界は、例えば圧電振動子の抗電界Ecの2倍以上6倍以下の電界である。抗電界の2倍以下のppの電界では、交流分極において、誘電率および圧電定数の増加率は、10%以下となる。また、抗電界の6倍を超えたppの電界では、単結晶ウエハに対して、微細なクラックの発生、および発熱による絶縁破壊の発生が生じやすくなる。その結果、単結晶ウエハは壊れやすくなる。以上のことから、交流分極におけるppの電界は、抗電界の2倍以上6倍以下の範囲とする。
すなわち、ppの電界は、0.5kV/mm以上3.6kV/mm以下である。ppの電界が0.5kV/mm未満である場合、後述する本願に特徴の形状特性および効果が得られにくい。また、ppの電界が3.6kV/mmを超える場合、単結晶ウエハに熱を生じさせ、その結果、単結晶ウエハは壊れやすくなる。
以上のことから、交流電界におけるppの電界は0.8kV/mm以上2kV/mm以下の範囲であることが好ましい。交流電界は、0kV/mmで開始し、1波長(1周期)を経て0kV/mmで終了する過程を1サイクルとする。交流分極工程(ステップSa4)は、単結晶ウエハの厚み方向に対して、作製された電極(前面電極と背面電極)を介して上記分極信号を2サイクル以上1000サイクル以下に亘って印加する工程である。サイクルが2未満の場合は、後述する本願に特徴の形状特性および効果が得られにくい。また、1000サイクルを超えると、単結晶ウエハに熱を生じさせ、その結果、単結晶ウエハは壊れやすくなる。以上のことから、交流電界を印加するサイクルは、例えば、2サイクル以上1000サイクル以下の範囲であることが好ましい。なお、交流電界の印加回数(サイクル)は、単結晶材料に応じて決定されてもよい。なお、交流分極工程(ステップSa4)は、分極状態を維持するために、相転移温度(Trt、Trm、Tmt)未満の温度(例えば室温)であって、一定の温度環境で実施されることが好ましい。すなわち、相転移温度を超えると、分極が反転したり、圧電性が低下したりすることを避けるために、相転移温度未満で、交流分極工程を実行する必要がある。
交流分極後であって後述する切断加工後の直流分極、主として、切断加工により単結晶ウエハ内に発生した熱による分極の変動を回復(整列)させることを目的としている。そのために、例えば、直流分極で用いられる電界は、交流分極におけるppの電界より小さいこと、および分極の変動の回復可能な電界とすることができる。具体的には、直流分極に用いられる電界は、0.25kV/mm以上2.5kV/mm以下である。ここで直流電界を0.25kv/mm以上とするのは、この値以下では室温から100℃の温度範囲では十分に分極をすることが出来ず、満足な誘電率や圧電定数が得られないためである。 また2.5kv/mm以下としたのはこの値を超えると分極時に絶縁破壊が生じやすくなるためである。なお、直流分極の電界は、0.5kV/mm以上1.2kV/mm以下であってもよい。この範囲の場合は室温から100℃の温度で分極が容易に高い誘電率と圧電定数が得られ、絶縁破壊はほとんど生じないためである。上記交流分極後の直流電界の印加は、実施例1乃至31においても適用可能である。また、直流分極が実施される時間は、切断加工またはダイシングにより単結晶ウエハに発生した熱量などに依存するが、例えば、室温(20以上25℃以下)で、一般的に1秒間以上30分間以下である。
交流分極工程(ステップSa4)の後に、交流分極工程で用いられた電極と同一の電極を用いて、直流電界が実行されてもよい(ステップSa5)。なお、ステップSa5の直流分極工程は、ステップSa4の交流分極工程の直前に実行されてもよい。直流分極工程は、直流電界が、0.25kV/mm以上2.5kV/mm以下の範囲であることが好ましい。また、直流電界が印加される時間間隔は、1秒以上30分以下である。なお、直流電界は、ppの電界より小さい。
未分極または脱分極された単結晶ウエハと、分極された単結晶ウエハとに対して、上述したX線回折の条件で、98°以上102°以下の近傍にあるミラー指数(400)による回折X線測定を測定することについて説明する。未分極の単結晶ウエハについてX線回折実験を行ったときのミラー指数(400)に対応する回折角2θを第1回折角Cとする。第1回折角Cに対応するX線強度分布の半価幅を、第1半価幅Wとする。なお、未分極の単結晶ウエハの代わりに、脱分極された単結晶ウエハが用いられてもよい。
分極された単結晶ウエハについてX線回折実験を行ったときのミラー指数(400)に対応する回折角2θを第2回折角C2とする。第2回折角C2に対応するX線強度分布の半価幅を、第2半価幅W2とする。第2半価幅W2は、0.1°以上0.2°以下である。第1半価幅に対する第2半価幅の比(以下、半価幅比(W2/W)と呼ぶ)は、例えば0.22以上0.4以下である。また、第1回折角Cに対する第2回折角C2の比(以下、回折角比(C2/C)と呼ぶ)は、1.0005以上1.005である。すなわち、単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の第1半価幅Wに対して、単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の第2半価幅W2は、0.22以上0.4以下である。また単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の強度がピークとなる第1回折角Cに対して、前記単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の強度がピークとなる第2回折角C2は、1.0005以上1.005以下である。分極された単結晶ウエハについてX線回折実験を行い第2回折角C2と第2半価幅W2を求めた後で、その単結晶ウエハを脱分極してX線回折実験を行い第1回折角Cと第1半価幅W1を求めることにより、回折角比と半価幅比を得ることができる。
なお、単結晶圧電体が分極した状態か、あるいは未分極や脱分極の状態かを、例えば以下の方法により調べることができる。すなわち、単結晶圧電体に周波数を変化させながら電流を印加する。未分極や脱分極の状態にある時には絶縁体のように共振が生じないが、分極した状態にある時にはある周波数の時に共振を生じる。
なお、圧電定数d33の測定はベルリンコート型のPiezo d33 Meter, ZJ−3D、 Institute of Acoustic of Academia Sinicaを用いて25℃で測定した。誘電率と誘電損失の測定は、HP 4284A Precision LCR meterを用いて、1kHz、1vrms、25℃で行った。
(実施例1乃至7)
マグネシウムニオブ酸鉛―チタン酸鉛(Pb(Mg1/3、Nb2/3)O−PbTiO)の0.71Pb(Mg1/3、Nb2/3)O−0.29PbTiO(PMN−PT 71/29)単結晶24の[100]板の外形が、12×12mmに、厚みが0.5mmに研磨加工される。その後、スパッタ装置によりクロム(Cr)が前面電極23及び背面電極25として、[100]板(12×12mm)の上面および下面に、20nmの厚みで設けられる。クロムの上に、スパッタ装置により、金が、300nmの厚みで設けられる。次いで、上記電極23、25が設けられた単結晶の[100]板を、ダイサーを用いて切断することにより、縦横の長さが5mmであって、厚みが0.5mmとなる圧電振動子20が、作製される。図4は、縦横の長さが5mmであって、厚みが0.5mmである圧電振動子20の一例を示す図である。この圧電振動子の相転移温度Trtは、約100℃である。また、キュリー温度Tcは、140℃である。また、ソーヤタワー回路を用いて計測された抗電界Ecは、室温で0.25kV/mmであった。この圧電振動子における電極間に、1.0Hzでピークトゥピーク(pp)値が0.2kV/mm以上3kV/mm以下である三角波の交流電界が、20回印加された。交流電界の印加前後に、同一の電極間に、室温で、0.5kV/mmの直流電界が、5分間にわたって印加される。このように、直流電界を印加した後で交流電界を印加しても良い。
図5は、交流電界の印加後に、直流電界を印加する一例を示す図である。図5において、pp値は、±1に規格化してある。図6は、直流電界の印加後に、交流電界を印加する一例を示す図である。
分極処理から24時間後、室温誘電率、誘電損失DF(%)、圧電定数d33(pC/N)を測定した。また、作製した圧電振動子のミラー指数(400)に関するX線回折の測定結果に基づいて、第2回折角C2、第2半価幅W2、第2回折角に関するX線強度のピーク値が、得られた。また、第1回折角C、第1半価幅Wなどの特性は、分極前の圧電振動子または脱分極された圧電振動子に対して、X線回折を実行することにより測定した。
以下の表1および表2は、交流電界を印加して分極された圧電振動子の各種特性を、交流電界が印加されていない同一形状のPMNT 71/29圧電振動子の各種特性ともに示した表である。なお、表中における値は、各々の例における4個のサンプルの平均値である。図7は、参考例4に係る直流電界の印加の一例を示す図である。
Figure 2014187285
Figure 2014187285
表1、表2から明らかなように、直流電界を印加する前に抗電界Ecの2倍以上6倍以下のppの電界すなわち0.5kV/mm以上3.0kV/mm以下の交流電界を印加したサンプル(実施例1乃至7)は、交流電界を印加していない参考例1乃至4に比べて、誘電率、圧電定数の増加が30%以上80%以下の範囲で見られた。また誘電損失は若干、低下した。また、この材料では半価幅比(W2/W)は、0.32以上0.39以下であり、交流分極により結晶性が向上している。更に回折角比(C2/C)は、1.0005以上1.0008以下となり、c軸格子面間隔の減少が見られる。
図8は、未分極または脱分極された圧電振動子と、参考例と、実施例とに係り、ミラー指数(400)に関するX線回折結果において、回折角(2θ)に対するX線強度の分布の一例を示す図である。図7におけるグラフの横軸は、回折角(2θ)である。また、図7における縦軸は、X線強度(カウント/秒)である。実施例のX線強度のピーク値に対応する回折角C2は、参考例のX線強度のピーク値に対応する回折角C1、および未分極または脱分極された圧電振動子のX線強度のピーク値に対応する回折角Cより大きい。すなわち、未分極または脱分極された圧電振動子、および参考例に比べて、本実施例によるc軸格子面間隔は、明らかに減少している。また、回折角C2に対する半価幅W2は、回折角C1に対する半価幅W1、および回折角Cに対する半価幅Wより小さい。すなわち、未分極または脱分極された圧電振動子、および参考例に比べて、本実施例による結晶性は、明らかに向上している。
(実施例8乃至14)
インジウムニオブ酸鉛−マグネシウムニオブ酸鉛―チタン酸鉛(Pb(In1/2Nb1/2)O−Pb(Mg1/3Nb2/3)O−PbTiO)の0.24Pb(In1/2Nb1/2)O−0.45Pb(Mg1/3Nb2/3)O−0.31PbTiO(PIMNT 24/45/31)の単結晶の[100]板の外形が12×12mmに、厚みが0.3mmに研磨加工される。その後、[100]板(12×12mm)の上面および下面に、湿式無電界メッキ法により、パラジウム(Pd)ストライクが実行される。その後、パラジウムの上面にニッケル(Ni)が、500nmの厚みで設けられる。続いて、ニッケルの上面に金(Au)が、200nmの厚みで設けられる。次いで、上記電極が設けられた単結晶の[100]板を、ダイサーを用いて切断することにより、縦横の長さが5mmであって、厚みが0.5mmとなる圧電振動子が、作製される。この圧電振動子の相転移温度Trtは、約100℃である。また、キュリー温度Tcは、190℃である。また、ソーヤタワー回路を用いて計測された抗電界Ecは、室温で0.6kV/mmであった。この圧電振動子における電極間に、50Hzでピークトゥピーク(pp)値が0.3kV/mm以上3kV/mm以下であるサイン波の交流電界が、50回印加された。交流電界の印加前後に、同一の電極間に、室温で、0.8kV/mmの直流電界が、5分間にわたって印加される。
分極処理から24時間後、室温誘電率、誘電損失DF(%)、圧電定数d33(pC/N)を測定した。また、作製した圧電振動子のミラー指数(400)に関するX線回折の測定結果に基づいて、第2回折角C2、第2半価幅W2、第2回折角に関するX線強度のピーク値が、得られた。また、第1回折角C、第1半価幅Wなどの特性は、分極前の圧電振動子または脱分極された圧電振動子に対して、X線回折を実行することにより測定した。
以下の表3および表4は、交流電界を印加して分極された圧電振動子の各種特性を、交流電界が印加されていない同一形状のPIMNT 24/45/31の圧電振動子の各種特性ともに示した表である。なお、表中における値は、各々の例における4個のサンプルの平均値である。
Figure 2014187285
Figure 2014187285
表3、表4から明らかなように、直流電界を印加する前に抗電界Ecの2倍以上6倍以下のppの電界すなわち1.2kV/mm以上3.5kV/mm以下の交流電界を印加したサンプル(実施例8乃至14)は、交流電界を印加していない参考例5乃至8に比べて、誘電率が15%以上51%以下の範囲で、圧電定数が13%以上97%以下の範囲で増加した。また、誘電損失は若干、低下した。また、この材料では半価幅比(W2/W)は、0.23以上0.36以下であり、交流分極により結晶性が向上している。更に回折角比(C2/C)は、1.0005以上1.0008以下となり、c軸格子面間隔の減少が見られる。
図9は、本実施例に係り、PIMNT 24/45/31単結晶において、未分極、直流分極、直流・交流分極ごとの誘電率温度特性の一例を示す図である。図9に示すように、本実施例における相転移温度(Trm)は、80℃以上150℃以下の間にある。図9から明らかなように、本実施例における誘電率は、キュリー温度(Tc)未満において、従来の直流分極が実行されたPIMNT 24/45/31の誘電率より大きい。
(実施例15乃至実施例21)
マグネシウムニオブ酸鉛−チタン酸鉛−ジルコン酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O−PbTiO−PbZrO)の0.56Pb(Mg1/3Nb2/3)O−0.32PbTiO−0.12PbZrO(PMNZT 56/32/12)の単結晶の[100]板は、個体溶解結晶育成法(Solid State Crystal Growth)により作製される。その後、[100]板の上面および下面に、スパッタ法によりチタン(Ti)が、20nmの厚みで設けられる。続いて、チタン上に金(Au)が300nmの厚みで設けられる。次いで、上記電極が設けられた単結晶の[100]板を、ダイサーを用いて切断することにより、縦横の長さが5mmであって、厚みが0.5mmとなる圧電振動子が、4枚作製される。この圧電振動子の相転移温度Trtは、約115℃である。また、キュリー温度Tcは、185℃である。また、ソーヤタワー回路を用いて計測された抗電界Ecは、室温で0.5kV/mmであった。この圧電振動子に対して、電極間に1.5kV/mmの直流電界が、10分間に亘って印加した。次いで、10Hzでppの値が0.3kV/mm以上3kV/mm以下であるサイン波の交流電界が、同一電極間に20サイクルに亘って印加された。
分極処理から24時間後、室温誘電率、誘電損失DF(%)、圧電定数d33(pC/N)、第2回折角C2、第2半価幅W2、第2回折角のピーク高さなどの各種特性を測定した。また、第1回折角C、第1半価幅Wなどの特性は、分極前の圧電振動子または脱分極された圧電振動子に対して、X線回折を実行することにより測定した。
以下の表5および表6は、交流電界を印加して分極された圧電振動子の各種特性を、交流電界が印加されていない同一形状のPMNZT 56/32/12の圧電振動子の各種特性ともに示した表である。なお、表中における値は、各々の例における4個のサンプルの平均値である。
Figure 2014187285
Figure 2014187285
表5、表6から明らかなように、直流電界を印加した後にppの電界が1kV/mm以上3.5kV/mm以下である交流電界を印加したサンプル(実施例15乃至21)は、交流電界を印加していない参考例9乃至12に比べて、誘電率が20%以上50%以下の範囲で、圧電定数が16%以上75%以下の範囲で増加した。また、誘電損失は、低下した。また、この材料では半価幅比(W2/W)は、0.22以上0.33以下であり、交流分極により結晶性が向上している。更に回折角比(C2/C)は、1.0001以上1.0002以下となり、c軸格子面間隔の減少が見られる。
(実施例22乃至実施例30)
マグネシウムニオブ酸鉛―チタン酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O−PbTiO)の0.71Pb(Mg1/3Nb2/3)O−0.29PbTiO(PMNT 71/29)単結晶の[100]板の外形が、12×12mmに、厚みが0.05mm以上2.0mm以下に亘って研磨加工される。その後、蒸着装置により金が、[100]板(12×12mm)の上面および下面に、300nmの厚みで設けられる。上面側の電極を第1電極、下面側の電極を第2電極と呼ぶ。次いで、上記電極が設けられた単結晶の[100]板を、ダイサーを用いて切断することにより、縦横の長さが5mmであって、厚みが0.05mm以上2.0mm以下となる厚みが異なる複数の圧電振動子が、作製される。作製した複数の圧電振動子の電極間に、25℃、80℃および120℃の各々の温度で、0.1Hzから2000Hzで、ppの値が0.8kV/mmを有する三角波の交流電界が、0.1分間以上30分間以下に亘って印加される。交流電界の印加後に、同一の電極間に、室温で、0.5kV/mmの直流電界が、10分間にわたって印加される。分極処理から24時間後、室温誘電率、誘電損失DF(%)、圧電定数d33(pC/N)を測定した。
以下の表7は、交流電界を印加して分極された圧電振動子の各種特性を示した表である。なお、表中における値は、各々の例における4個のサンプルの平均値である。
Figure 2014187285
表7から明らかなように、厚み(第1電極と第2電極との間の距離)が0.5mm以下の圧電振動子は、誘電率および圧電定数の向上の効果が顕著である。しかしながら、厚みが0.5mm以上2.0mm以下の圧電振動子は、誘電率および圧電定数の向上が少ない。また、交流の周波数が100Hzを超過した場合、または交流印加時間が10分を超過した場合、誘電率および圧電定数の向上が少なくなるばかりでなく、絶縁破壊が生じやすい。また、交流印加時の温度が100℃を超えると誘電・圧電特性を向上させる効果が小さくなることがわかる。
(実施例31)
本実施例は、超音波プローブに関する実施例である。図10は、本実施形態に係る超音波プローブの構造の一例を示す図である。以下、上記分極工程を経て作製された圧電振動子を用いた超音波プローブの構成について、図10を参照して説明する。
図10に示すように、超音波プローブ100は、バッキング材102と、信号用FPC(Flexible Printed Circuit)104と、単結晶圧電振動素子106と、第1の音響整合層108と、第2の音響整合層110と、アース用FPC112と、音響レンズ114とを有する。なお、図10において、単結晶圧電振動素子1061の前面の第1、第2の音響整合層およびアース用FPCについては、説明を簡便にするために省略している。
バッキング材102は、ゴム製であって、低い音響インピーンダンス(AI=2MRayls以上6MRayls以下)を有する材料や硬度の高い金属が用いられる。信号用FPC104は、バッキング材102の前面側に設けられる。信号用FPC104の前面側には、金属配線が配置される。単結晶圧電振動素子106は、上述した圧電振動子(電極が設けられた単結晶ウエハ)をダイシングすることにより作製される。単結晶圧電振動素子106は、上記実施例1乃至30で説明した鉛複合ペロブスカイト化合物により構成される単結晶圧電体と、単結晶圧電体の超音波放射面側(第1面側)と背面側(第2面側)とにそれぞれも設けられ図示していない電極(前面電極(第1電極)および背面電極(第2電極))とを有する。なお、電極における単結晶圧電体側には、下地電極が設けられていてもよい。第1の音響整合層108は、単結晶圧電振動素子106の超音波放射面側に設けられる。第1の音響整合層108は、前面側と背面側とに図示していない電極を有する。第2の音響整合層110は、第1の音響整合層108の前面側に設けられる。第2の音響整合層110は、前面側と背面側とに図示していない電極を有する。
アース用FPC112は、背面側にアース用電極を有する。アース用FPC112は、第2の音響整合層110の前面側に設けられる。第3の音響整合層111は、アース用FPC112の前面側に設けられる。音響レンズ114は、第3の音響整合層111の前面側に設けられる。
なお、単結晶圧電振動素子106の超音波放射面側には、3層に限定されず、2層または4層の音響整合層が配置されてもよい。この場合、アース用FPC112上に音響整合層を形成してもよいし、省略してもよい。
複数の音響整合層が単結晶圧電振動素子106の超音波放射面側に設けられている場合、音響整合層各々の音響インピーダンスは、単結晶圧電振動素子106から音響レンズ114に向けて段階的に小さくなる。音響整合層が例えば1層の場合、単結晶圧電振動素子106の直上の1番目の音響整合層(第1の音響整合層108)は、25℃にて4MRayls以上7MRayls以下の音響インピーダンスを有する。このとき、第1の音響整合層108は、例えば導電材料のカーボン、有機物であるエポキシ樹脂に酸化物粒子を添加することで音響インピーダンスを調整した材料などから作られることが好ましい。
音響整合層が2層の場合、単結晶圧電振動素子106の直上の第1の音響整合層108は、25℃にて5MRayls以上10MRayls以下、2番目の音響整合層(第2の音響整合層110)は、2MRayls以上4MRayls以下の音響インピーダンスを有する材料を用いることが好ましい。このとき、第1の音響整合層108は、例えばカーボン、酸化物含有エポキシ樹脂の材料から作製される。第2の音響整合層110は、例えばエポキシシリコンまたはポリエチレン系樹脂材料から作られることが好ましい。なお、絶縁性のエポキシ材料を音響整合層に用いる場合には、必要に応じてメッキなどにより音響整合層の表面に導電性が付与されても良い。
音響整合層が3層の場合、第1の音響整合層108は例えばガラス材料から作られ、第2の音響整合層110は例えばカーボン、エポキシに酸化物を充填した材料から作製される。第3の音響整合層111は、ポリエチレン系樹脂材料から作られることが好ましい。なお、絶縁性の材料を音響整合層に用いる場合には、必要に応じてメッキなどにより音響整合層の表面に導電性が付与されても良い。
図11は、本実施形態に係る超音波プローブを製造する手順の流れを示すフローチャートの一例を示す図である。
図11は、図10で説明した超音波プローブ100の製造方法の流れを示すフローチャートである。まず、上記圧電振動子の製造方法で説明した方法で、圧電振動子が作製される(ステップSb1乃至ステップSb4)。具体的には、以下のように圧電振動子が作製される。
本超音波プローブにおける圧電振動子は、インジウムニオブ酸鉛−マグネシウムニオブ酸鉛―チタン酸鉛(Pb(In1/2Nb1/2)O−Pb(Mg1/3Nb2/3)O−PbTiO)の0.24Pb(In1/2Nb1/2)O−0.45Pb(Mg1/3Nb2/3)O−0.31PbTiO(PIMNT 24/45/31)の圧電単結晶が作製される(ステップSb1)。作製された圧電単結晶の結晶方位が[100]となる面で、圧電単結晶を切断することにより、単結晶ウエハが作製される(ステップSb2)。この時、研磨加工により、[100]板の単結晶ウエハの外形は12×26mmに、厚みは0.28mmに整形される。その後、[100]板(12×26mm)の上面(超音波放射面)および下面(背面)に、スパッタ装置により、NiCrが10nmの厚みで設けられる。次いで、NiCr上に、同様にスパッタ装置を用いて、金が300nmの厚みで設けられる。これにより、単結晶ウエハの超音波放射面側と背面側とに電極が作製される(ステップSb3)。作製された電極間に、所定の周波数(例えば、1Hz)、所定のppの値(例えば、1.6kV/mm)の交流電界が、15サイクルに亘って印加される(ステップSb4)。
上記交流分極が実行された圧電振動子を用いて、約3MHzの中心周波数を有する医用超音波プローブが製造される。バッキング材102は、エポキシ樹脂に金属タングステンと酸化亜鉛繊維とを混ぜることにより、作製される。作製されたバッキング材102の密度は、2.5である。作製されたバッキング材102の音速は、2200m/sである。作製されたバッキング材102の音響インピーダンスは、5.5MRaylsである。作製されたバッキング材102の形状は、11.6×26×12mmである。圧電振動子の背面側に、信号用FPC104が接着される。信号用FPC104の背面側に、作製されたバッキング材102が接着される(ステップSb5)。
第1の音響整合層108は、0.4mmの厚みと、15MRaylsの音響インピーダンスとを有するガラス板である。第1の音響整合層108は、電極が設けられた圧電振動子の超音波放射面側に接着される。第2の音響整合層110は、0.2mmの厚みと5.8MRaylsの音響インピーダンスとを有するカーボンである。第2の音響整合層110は、第1の音響整合層108の前面側に接着される。アース用FPC112は、第2の音響整合層110の前面側に接着される。第3の音響整合層111は、0.18mmの厚みと2.2MRaylsの音響インピーダンスとを有する軟質エポキシ樹脂である。第3の音響整合層111は、アース用FPCの前面側に接着される(ステップSb6)。
50μmの厚みを有するダイサーブレードを用いて、超音波放射面側から、複数の音響整合層とアース用FPCとを接着した単結晶ウエハが、0.15mmの幅で切断される(ステップSb7)。この切断(アレイ切断)により、合計で96チャネルの単結晶圧電振動素子106が作製される。アレイ切断後に、単結晶圧電振動素子106各々に直流で、電圧450V(0.8kV/mm)の電界(交流分極におけるppの電界より小さい電界)が、2分間に亘って、印加される。これにより、再分極が実行される。なお、アレイ切断後の直流分極は、省略されてもよい。また、直流分極は、交流分極前に実行されてもよい。また、アレイ切断により生じた隙間の一部に絶縁性の樹脂が充填される場合もある。第3の音響整合層111の前面に、音響レンズ114が接着される(ステップSb8)。以上の手順により、超音波プローブ100が製造される。
製造された超音波プローブ100の各チャンネルの特性を通常の方法で測定し、表8に示した。また、比較として、圧電振動子に交流分極処理を行わないで、通常の直流分極を450V(0.8kV/mm)の電界で5分間に亘って印加して分極を行ったPMNT 71/29の圧電振動子と比較した特性を表中に示した。
Figure 2014187285
表8から明らかなように、圧電振動子に交流電界の印加を実行し、その後に直流で再分極した超音波プローブ100は、直流だけで再分極した超音波プローブよりもチャンネルの容量が大きく、高い感度が得られ、さらに感度のばらつきも小さな値が得られた。
上記製造方法で製造された超音波プローブ100を用いた超音波の送信について説明する。被検体に超音波プローブ100が当接される。次いで、単結晶圧電振動素子106の超音波放射面における電極と、単結晶圧電振動素子106の超音波放射面における電極との間に所定の電圧が印加される。所定の電圧の印加により、単結晶圧電振動素子106は共振し、超音波を発生する。発生された超音波は、第1の音響整合層108と第2の音響整合層110と第3の音響整合層111と音響レンズ114とを介して、被検体に送信される。
上記製造方法で製造された超音波プローブ100を用いた超音波の受信について説明する。被検体内で発生した超音波は、音響レンズ114と第1の音響整合層108と第2の音響整合層110と第3の音響整合層111とを介して、単結晶圧電振動素子106を振動させる。単結晶圧電振動素子106は、超音波による振動を電気信号に変換する。電気信号は、チャンネル毎に、被検体の深さに応じて遅延加算される。遅延加算された信号は、包絡線検波及び対数変換され、画像として表示される。また、第1の音響整合層108と第2の音響整合層110と第3の音響整合層111との音響インピーダンスを、単結晶圧電振動素子106の音響インピーダンス(20〜30MRayls)と被検体の音響インピーダンス(1.5MRayls)との間で、徐々に被検体の音響インピーダンスに近付くように設定することよって、超音波の送受信効率を向上させることが可能になる。
図12は、交流電界による分極処理(以下、交流分極と呼ぶ)が実行された圧電振動子を有する超音波プローブ100(実施例31)に関して、周波数に対する感度(以下、周波数スペクトラムと呼ぶ)を、比較例(直流電界による分極処理(直流分極)が実行された圧電振動子を有する超音波プローブ)の周波数スペクトラムとともに示す図である。図12に示すように、実施例31による超音波プローブ100に関する周波数スペクトラムは、比較例による超音波プローブに関する周波数スペクトラムに比べて、広帯域かつ高感度となっている。
図13は、交流分極が実行された圧電振動子を有する超音波プローブ100(実施例4)に関して、複数のチャンネルによる出力(感度)分布を、比較例(直流分極が実行された圧電振動子を有する超音波プローブ)の出力分布とともに示す図である。図13に示すように、実施例31の超音波プローブ100における複数のチャンネルによる出力のばらつき(図13のa)は、比較例の超音波プローブにおける複数のチャンネルによる出力のばらつき(図13のb)より小さい。加えて、実施例31における超音波プローブ100によるチャンネルの出力は、比較例の超音波プローブにおけるチャンネルの出力より大きい。すなわち、実施例31の超音波プローブ100における感度は、平均して、比較例の感度の1.2倍となった。すなわち、実施例31によれば、従来に比べて20%感度が向上した。
以上に述べた構成および方法によれば、以下の効果を得ることができる。
本実施形態の圧電振動子製造方法によれば、高誘電率と高圧電定数とを有する圧電振動子を、単結晶作成後の後処理(交流分極)により、低コストで容易にかつ短時間で作製することができる。本圧電振動子製造方法により作製された圧電振動子、または本実施形態に係る圧電振動子、本実施形態に係る超音波プローブにおいて、交流分極された単結晶圧電体と未分極の単結晶圧電体とに対して、ミラー指数(400)で実行されたX線回析において、半価幅比は、0.22以上0.4以下の範囲に含まれる。また、第2半価幅は、0.1°以上0.2°以下である。回折角比は、1.0005以上1.005以下の範囲となる。
また、本実施形態の超音波プローブ製造方法によれば、高誘電率と高圧電定数とを有する圧電振動子用いて、超音波プローブを作製することができる。本超音波プローブ製造方法により製造された超音波プローブの感度、または本実施形態に係る超音波プローブの感度は、直流分極により分極された圧電振動子を用いた超音波プローブに比べて向上する。本実施形態に係る超音波プローブにおけるチャンネル間の特性(感度、出力)のばらつきは、直流分極が実行された圧電振動子を用いた超音波プローブに比べて低減される。加えて、本実施形態に係る超音波プローブに関する周波数帯域は、直流分極が実行された圧電振動子を用いた超音波プローブに比べて広くなる。また、誘電損失も低下するために超音波プローブを駆動させた時の発熱も減少する。これらのことから、本実施形態に係る超音波プローブを用いることで、診断性能を向上させることができる。なお、本実施形態に係る圧電振動子の利用は、実施例31の超音波プローブ100に限定されず、例えばソナー(水中音波探知機)や非破壊検査装置、アクチュエータ、エネルギーハーベスチング素子などに適用することも可能である。
本実施形態における相転移温度Trmを80℃から150℃と限定したのは、80℃以下では室温から70℃までの誘電率温度変化率が大きく、プローブ感度の安定性に問題があるためである。また、150℃以上のTrmを持つ材料では交流分極を行っても室温付近ではその誘電率や圧電特性の向上が10%以下と小さいためである。
本実施形態によれば、交流分極におけるppの値と印加回数とを調整することにより、ダイシングにより作製された複数の単結晶圧電振動素子の誘電率を、所定の範囲にそろえることができる。また、回折角比は1.0005以上1.005以下の範囲であるため、圧電振動子の厚みは薄くなる。それに伴い、圧電振動子の体積は一定であるため、電極が設けられた面の面積は増加する。また、直流分極では、本実施形態に記載の半価幅比の範囲、第2半価幅の範囲、回折角比の範囲は、生じない。
なお、上記(PIN)−PMN−PT系に限定されず、亜鉛ニオブ酸鉛(PZN)系、スカンジウムニオブ酸鉛(PSN)などの鉛系の圧電単結晶材料、同様な結晶構造を有する非鉛系の圧電材料であるチタン酸バリウムおよびニオブ酸カリウム・ナトリウム単結晶、ビスマススカンジウム単結晶、ビスマス鉄化合物においても、本実施形態における技術的特徴である半価幅比および回折角比が生じることは、容易に推察される。したがって、これらの材料に本方法を適応することも可能である。また、配向された厚膜、セラミクス、粒径が大きなセラミクス、またはこれらを含む樹脂との複合材料においても、本実施形態に係る分極方法は、適応可能である。以上、述べたように本実施形態に係る方法は、交流電源を用いて低コストで圧電材料の誘電率や圧電定数を大幅に向上させることが出来るために、その工業的な重要性も極めて高い。
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
20…圧電振動子、23…前面電極、24…単結晶、25…背面電極、100…超音波プローブ、102…バッキング材、104…信号用FPC、106…単結晶圧電振動素子、108…第1の音響整合層、110…第2の音響整合層、111…第3の音響整合層、112…アース用FPC、114…音響レンズ

Claims (13)

  1. 酸化マグネシウムと酸化インジウムとのうち少なくとも一方と酸化ニオブとを有する鉛複合ペロブスカイト化合物により構成され、結晶方位が[100]面である第1面と、前記第1面と対向し結晶方位が[100]面である第2面とを有し分極された単結晶圧電体と、
    前記単結晶圧電体の前記第1面側に設けられた第1電極および前記単結晶圧電体の前記第2面側に設けられた第2電極と、
    を具備し、
    前記単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の第1半価幅に対して、前記単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の第2半価幅は、0.22以上0.4以下である圧電振動子。
  2. 前記単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の強度がピークとなる第1回折角に対して、前記単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の強度がピークとなる第2回折角は、1.0005以上1.005以下であること、
    を特徴とする請求項1に記載の圧電振動子。
  3. 前記鉛複合ペロブスカイト化合物は、xmol%(xは正の値)のチタン酸鉛と、(1−x)mol%のマグネシウムニオブ酸鉛またはインジウムニオブ酸鉛とを有し、x=26以上33以下であり、
    前記鉛複合ペロブスカイト化合物の結晶構造の相転移温度は、80℃以上150℃以下であること、
    を特徴とする請求項1または請求項2に記載の圧電振動子。
  4. 前記鉛複合ペロブスカイト化合物は、zmol%(zは正の値)のインジウムニオブ酸鉛と、ymol%(yは正の値)のマグネシウムニオブ酸鉛と、xmol%のチタン酸鉛とを有し、x=26以上33以下、y=24以上59以下、z=15以上50以下であり、かつ、x+y+z=100であること、
    を特徴とする請求項1または請求項2に記載の圧電振動子。
  5. 前記第2回折角に対応するX線強度分布の半価幅は、0.1°以上0.2°以下であること、
    を特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の圧電振動子。
  6. 酸化マグネシウムと酸化インジウムとのうち少なくとも一つと酸化ニオブとを有する鉛複合ペロブスカイト化合物により構成され、結晶方位が[100]面である第1面と、前記第1面と対向し結晶方位が[100]面である第2面とを有する単結晶圧電体と、
    前記単結晶圧電体の前記第1面側に設けられた第1電極および前記単結晶圧電体の前記第2面側に設けられた第2電極と、
    前記第1電極の前面に設けられた音響整合層と、
    前記第2電極の背面に設けられたバッキング材と、
    を具備し、
    前記単結晶圧電体が未分極または脱分極処理されたもののミラー指数(400)による回折X線の第1半価幅に対して、前記単結晶圧電体のミラー指数(400)による回折X線の第2半価幅は、0.22以上0.4以下である超音波プローブ。
  7. 酸化マグネシウムと酸化インジウムとのうち少なくとも一つと酸化ニオブとを有する鉛複合ペロブスカイト化合物で構成された圧電単結晶を作製し、
    前記圧電単結晶の結晶方位が[100]となる面で前記圧電単結晶を切断することにより、結晶方位が[100]面となる第1面と、前記第1面と対向し結晶方位が[100]面となる第2面を有する単結晶ウエハを作製し、
    前記第1面側と前記第2面側とにそれぞれ第1電極および第2電極を設け、
    前記第1電極および第2電極の間に、交流電界を印加すること、
    を特徴とする圧電振動子製造方法。
  8. 前記交流電界は、0.5kV/mm以上3.6kV/mm以下のピークトゥピーク電界と所定の周波数とを有する交流電界を、所定の回数に亘って印加することを特徴とする、請求項7に記載の圧電振動子製造方法。
  9. 前記交流電界の印加の前後に、第1電極および第2電極の間に、0.25kV/mm以上2.5kV/mm以下の範囲の直流電界を、1秒以上30分間以下印加すること、
    を特徴とする請求項7に記載の圧電振動子製造方法。
  10. 前記所定の周波数は、0.1Hz以上1kHz以下であって、
    前記所定の回数は、2以上1000回以下であって、
    前記ピークトゥピーク電界は、前記直流電界より大きいこと、
    を特徴とする請求項8に記載の圧電振動子製造方法。
  11. 前記ピークトゥピーク電界は、0.8kV/mm以上2.0kV/mm以下であって、
    前記直流電界は、0.5kV/mm以上1.2kV/mm以下であること、
    を特徴とする請求項8に記載の圧電振動子製造方法。
  12. 前記交流電界の印加は、前記鉛複合ペロブスカイト化合物の結晶構造の相転移温度より低い温度で実行されること、
    を特徴とする請求項8乃至請求項11のうちいずれか一項に記載の圧電振動子製造方法。
  13. 酸化マグネシウムと酸化インジウムとのうち少なくとも一つと酸化ニオブとを有する鉛複合ペロブスカイト化合物で構成された圧電単結晶を作製し、
    前記圧電単結晶の結晶方位が[100]となる面で前記圧電単結晶を切断することにより、結晶方位が[100]面となる第1面と、前記第1面と対向し結晶方位が[100]面となる第2面を有する単結晶ウエハを作製し、
    前記第1面側と前記第2面側とにそれぞれ第1電極および第2電極を設け、
    前記第1電極および第2電極の間に交流電界を印加し、
    前記第1電極の前面に音響整合層を設け、
    前記第2電極の背面にバッキング材を設けること、
    を特徴とする超音波プローブ製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020511927A (ja) * 2017-01-20 2020-04-16 マッチスティック・テクノロジーズ・インコーポレイテッド マイクロプレート内の細胞材料をせん断するための超音波システム
KR20210007146A (ko) * 2019-07-10 2021-01-20 (주)아이블포토닉스 납-금속 화합물 단결정의 개질방법
JP2021057388A (ja) * 2019-09-27 2021-04-08 テイカ株式会社 圧電単結晶素子、その製造方法およびその用途
JP7406876B2 (ja) 2018-10-17 2023-12-28 キヤノン株式会社 圧電トランス、および電子機器

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101456925B1 (ko) * 2012-08-22 2014-11-03 알피니언메디칼시스템 주식회사 디폴링된 압전체를 이용한 초음파 프로브 제조방법
CN106805994B (zh) * 2015-11-27 2020-02-18 中科绿谷(深圳)医疗科技有限公司 超声探头及其制备方法
FR3046452B1 (fr) * 2015-12-31 2018-02-16 Technip France Embout de connexion d'une ligne flexible, dispositif de mesure et procede associe
CN107039578B (zh) * 2017-04-10 2019-03-12 东南大学 一种免极化压电基机电转换元件的制备方法
JP7013151B2 (ja) * 2017-07-13 2022-01-31 キヤノン株式会社 積層圧電素子、振動子、振動波モータ、光学機器および電子機器
JP7070138B2 (ja) * 2018-06-21 2022-05-18 コニカミノルタ株式会社 超音波探触子および超音波診断装置
US11758818B2 (en) * 2019-08-15 2023-09-12 Xi'an Jiaotong University Transparent piezoelectric single crystal preparation method
CN111423231A (zh) * 2020-03-31 2020-07-17 上海师范大学 一种三元系弛豫铁电薄膜材料及其制备方法和应用
KR102663619B1 (ko) * 2020-12-11 2024-05-10 주식회사 세라콤 내부 전기장을 포함하는 압전 단결정, 그 제조방법 및 그를 이용한 압전 및 유전 응용 부품
US20230399769A1 (en) * 2020-12-11 2023-12-14 Ceracomp Co., Ltd. Piezoelectric single crystal, fabrication method therefor, and piezoelectric and dielectric application parts using same
KR102632993B1 (ko) * 2020-12-11 2024-02-05 주식회사 세라콤 압전 단결정, 그 제조방법 및 그를 이용한 압전 및 유전 응용 부품
KR102664918B1 (ko) * 2020-12-11 2024-05-09 주식회사 세라콤 압전 단결정, 그 제조방법 및 그를 이용한 압전 및 유전 응용 부품
WO2022124794A1 (ko) * 2020-12-11 2022-06-16 주식회사 세라콤 내부 전기장을 포함하는 압전 단결정, 그 제조방법 및 그를 이용한 압전 및 유전 응용 부품
US11540033B2 (en) 2021-04-28 2022-12-27 Meta Platforms Technologies, Llc Transparent speaker for displays, windows, and lenses

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0983038A (ja) * 1995-09-14 1997-03-28 Toshiba Corp 酸化物圧電単結晶の製造方法
US20060091353A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Jfe Mineral Company, Ltd. Piezoelectric single crystal device
JP2006156976A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Jfe Mineral Co Ltd 圧電単結晶素子
JP2009094139A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Canon Inc 圧電アクチュエータ及びそれを用いた液体吐出ヘッド
JP2009188104A (ja) * 2008-02-05 2009-08-20 Seiko Epson Corp 圧電素子およびその製造方法、液体噴射ヘッド、並びに、プリンタ
JP2013026682A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Toshiba Corp 医用複合単結晶圧電振動子、医用超音波プローブ、医用複合単結晶圧電振動子製造方法および医用超音波プローブ製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5402791A (en) * 1993-08-06 1995-04-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Piezoelectric single crystal, ultrasonic probe, and array-type ultrasonic probe
JP3251727B2 (ja) 1993-08-06 2002-01-28 株式会社東芝 超音波プローブ
JP3987744B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 敏夫 小川 ドメイン制御圧電単結晶素子
KR100628812B1 (ko) * 2003-05-21 2006-09-26 제이에프이 미네랄 가부시키가이샤 압전단결정 소자와 그 제조방법
US7518292B2 (en) * 2003-10-14 2009-04-14 Jfe Mineral Company, Ltd. Piezoelectric single crystal and piezoelectric single-crystal device and method for manufacturing the same
JP4181103B2 (ja) * 2004-09-30 2008-11-12 株式会社東芝 超音波プローブおよび超音波診断装置
JP2008047693A (ja) 2006-08-16 2008-02-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 圧電材料、超音波探触子、圧電材料の製造方法、および超音波探触子の製造方法
KR101397100B1 (ko) * 2010-06-28 2014-05-20 삼성전자주식회사 초음파 프로브 및 그 제조방법
JP6073600B2 (ja) * 2012-08-28 2017-02-01 東芝メディカルシステムズ株式会社 超音波プローブおよび圧電振動子

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0983038A (ja) * 1995-09-14 1997-03-28 Toshiba Corp 酸化物圧電単結晶の製造方法
US20060091353A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Jfe Mineral Company, Ltd. Piezoelectric single crystal device
JP2006156976A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Jfe Mineral Co Ltd 圧電単結晶素子
JP2009094139A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Canon Inc 圧電アクチュエータ及びそれを用いた液体吐出ヘッド
JP2009188104A (ja) * 2008-02-05 2009-08-20 Seiko Epson Corp 圧電素子およびその製造方法、液体噴射ヘッド、並びに、プリンタ
JP2013026682A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Toshiba Corp 医用複合単結晶圧電振動子、医用超音波プローブ、医用複合単結晶圧電振動子製造方法および医用超音波プローブ製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020511927A (ja) * 2017-01-20 2020-04-16 マッチスティック・テクノロジーズ・インコーポレイテッド マイクロプレート内の細胞材料をせん断するための超音波システム
JP7013482B2 (ja) 2017-01-20 2022-01-31 マッチスティック・テクノロジーズ・インコーポレイテッド マイクロプレート内の細胞材料をせん断するための超音波システム
JP7406876B2 (ja) 2018-10-17 2023-12-28 キヤノン株式会社 圧電トランス、および電子機器
KR20210007146A (ko) * 2019-07-10 2021-01-20 (주)아이블포토닉스 납-금속 화합물 단결정의 개질방법
KR102623532B1 (ko) * 2019-07-10 2024-01-10 (주)아이블포토닉스 납-금속 화합물 단결정의 개질방법
JP2021057388A (ja) * 2019-09-27 2021-04-08 テイカ株式会社 圧電単結晶素子、その製造方法およびその用途
JP7369504B2 (ja) 2019-09-27 2023-10-26 テイカ株式会社 圧電単結晶素子の製造方法、超音波送受信素子の製造方法および超音波プローブの製造方法

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