JP2014150096A - 積層型電子部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 絶縁体層と導体パターンが積層され、絶縁体層間の導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成される。導体パターンは、内部にその周囲と異なる材質で構成される異材質部が形成される。
【選択図】 図1
Description
近年、この種の積層型電子部品は、大電流が流れる電源回路やDC/DCコンバータ回路用のインダクタやトランス等に用いられるようになってきている。大電流が流れる電源回路やDC/DCコンバータ回路に用いられる積層型電子部品は、小型で、大きな直流電流許容値を有することが望まれている。直流電流許容値を大きくするためには、導体パターンの断面積を大きくしたり、導体パターンの長さを短くしたりしてコイルの直流抵抗を小さくする必要がある。
この様な要求に対応するため、従来の積層型電子部品では、絶縁体層上に導体パターンを印刷した後、導体パターンが所定の厚みになるまで導体パターンの周囲に絶縁体を印刷する工程と、導体パターンを印刷する工程を繰り返して形成している。
また、本発明は、絶縁体層と導体パターンが積層され、絶縁体層間の導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成された積層型電子部品において、導体パターンは内部にその周囲と熱収縮率が異なる部分が形成される。
また、本発明は、絶縁体層と導体パターンが積層され、絶縁体層間の導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成された積層型電子部品において、導体パターンは内部にその周囲と熱収縮率が異なる部分が形成されるので、導体パターンの断面積を大きくしても導体パターンのクラックや特性の劣化を防止することができる。
従って、本発明の積層型電子部品は、導体パターン内においてその熱収縮率を調整することにより、導体パターンの厚みを厚くした場合でも、導体パターンが局所的に収縮するのを防止できる。これにより積層体に局所的に応力が加わることもなくなる。
図1は本発明の積層型電子部品の第1の実施例を示す断面図である。
図1において、11A〜11Dは導体パターンである。
絶縁体層は、Ni―Zn―Cu系フェライト等の磁性体、非磁性体、誘電体等の絶縁体を用いて形成される。
導体パターン11Aは、銀、銀系、金、金系、白金等の導体で形成された部分11A1と、その内部に部分11A1と異なる材質で形成された異材質部11A2を備え、絶縁体層表面に1ターン未満が形成され、一端が絶縁体層の端面まで引き出される。異材質部11A2は、導体で形成された部分11A1の熱収縮率と異なる材料で形成され、絶縁体層が磁性体で形成された場合、導体で形成された部分11A1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料、例えば、銀、銀系、金、金系、白金等の導体を用いて、導体パターン11Aの中央に形成される。
導体パターン11Bは、銀、銀系、金、金系、白金等の導体で形成された部分11B1と、その内部に部分11B1と異なる材質で形成された異材質部11B2を備え、絶縁体層表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン11Aの他端に接続される。異材質部11B2は、導体で形成された部分11B1の熱収縮率と異なる材料で形成され、絶縁体層が磁性体で形成された場合、導体で形成された部分11B1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料、例えば、銀、銀系、金、金系、白金等の導体を用いて、導体パターン11Bの中央に形成される。
導体パターン11Cは、銀、銀系、金、金系、白金等の導体で形成された部分11C1と、その内部に部分11C1と異なる材質で形成された異材質部11C2を備え、絶縁体層表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン11Bの他端に接続される。異材質部11C2は、導体で形成された部分11C1の熱収縮率と異なる材料で形成され、絶縁体層が磁性体で形成された場合、導体で形成された部分11C1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料、例えば、銀、銀系、金、金系、白金等の導体を用いて、導体パターン11Cの中央に形成される。
導体パターン11Dは、銀、銀系、金、金系、白金等の導体で形成された部分11D1と、その内部に部分11D1と異なる材質で形成された異材質部11D2を備え、絶縁体層表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン11Cの他端に接続され、他端が絶縁体層の端面まで引き出される。異材質部11D2は、導体で形成された部分11D1の熱収縮率と異なる材料で形成され、絶縁体層が磁性体で形成された場合、導体で形成された部分11D1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料、例えば、銀、銀系、金、金系、白金等の導体を用いて、導体パターン11Dの中央に形成される。また、この導体パターン11D上には絶縁体層が積層される。
この様に絶縁体層と導体パターン11A〜11Dを積層し、絶縁体層間の導体パターン11A〜11Dを螺旋状に接続して積層体内にコイルが形成される。この積層体の端面には外部端子が形成され、積層体の端面に引き出された導体パターンが外部端子に接続される。
次に、このパターン211の周囲に絶縁体層を形成する工程とパターン211表面に導体ペーストを塗布する工程をパターン211が所定の厚みになるまで繰り返した後、図2(B)に示す様に、パターン211の表面に、パターン211の熱収縮率と異なる材料のペーストを塗布することにより、パターン211よりも幅狭で、パターン211の長さ方向の全長に渡って延在する異材質部212がパターン211の表面に形成される。この時、異材質部212は、絶縁体層が磁性体で形成された場合、パターン211の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料、例えば、銀、銀系、金、金系、白金等の導体ペーストを塗布して形成される。
続いて、異材質部212が形成されたパターン211の表面に、異材質部212を取り囲む様にパターン211と同じ熱収縮率の導体ペーストを塗布してパターン211が形成される。
さらに、このパターン211の周囲に絶縁体層を形成する工程とパターン211表面に導体ペーストを塗布する工程をパターン211が所定の厚みになるまで繰り返すことにより所定の厚みの導体パターンが形成される。
本実施例では、図1に示す様に、絶縁体層と、内部にその周囲と異なる材質で構成される異材質部が形成された導体パターンが積層され、絶縁体層間の導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成される。
この時、導体パターンは、まず、絶縁体層32表面に銀、銀系、金、金系、白金等の導体をペースト状にした導体ペーストを塗布して1ターン未満のパターン311が形成される。
次に、このパターン311の周囲に絶縁体層を形成する工程とパターン311表面に導体ペーストを塗布する工程をパターン311が所定の厚みになるまで繰り返した後、図3に示す様に、パターン311の表面に、パターン311の熱収縮率と異なる材料のペーストを複数箇所塗布することにより、パターン311よりも幅狭の異材質部312がパターン211の表面に複数形成される。この時、複数の異材質部312は、絶縁体層が磁性体で形成された場合、パターン311の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料、例えば、銀、銀系、金、金系、白金等の導体ペーストを複数箇所塗布することにより形成される。
続いて、複数の異材質部312が形成されたパターン311の表面に、複数の異材質部312を取り囲む様にパターン311と同じ熱収縮率の導体ペーストを塗布してパターン311が形成される。
さらに、このパターン311の周囲に絶縁体層を形成する工程とパターン311表面に導体ペーストを塗布する工程をパターン311が所定の厚みになるまで繰り返すことにより所定の厚みの導体パターンが形成される。
導体パターン41Aは、導体で形成された部分41A1と、その内部に部分41A1と異なる材質で形成された異材質部41A2を備え、Ni―Zn―Cu系フェライト等の磁性体で形成された絶縁体層上に絶縁体層よりも小さく形成された非磁性体部44Aの表面に1ターン未満が形成され、一端が絶縁体層の端面まで引き出される。異材質部41A2は、導体で形成された部分41A1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて導体パターン41Aの中央に形成される。また、非磁性体部44AはCu−Zn系フェライトで形成される。
導体パターン41Bは、導体で形成された部分41B1と、その内部に部分41B1と異なる材質で形成された異材質部41B2を備え、導体パターン41A上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部43Aの表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン41Aの他端に接続される。異材質部41B2は、導体で形成された部分41B1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン41Bの中央に形成される。また、非磁性体部43AはCu−Zn系フェライトで形成される。
導体パターン41Cは、導体で形成された部分41C1と、その内部に部分41C1と異なる材質で形成された異材質部41C2を備え、導体パターン41B上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部43Bの表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン41Bの他端に接続される。異材質部41C2は、導体で形成された部分41C1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン41Cの中央に形成される。また、非磁性体部43BはCu−Zn系フェライトで形成される。
導体パターン41Dは、導体で形成された部分41D1と、その内部に部分41D1と異なる材質で形成された異材質部41D2を備え、導体パターン41C上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部43Cの表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン41Cの他端に接続され、他端が絶縁体層の端面まで引き出される。異材質部41D2は、導体で形成された部分41D1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン41Dの中央に形成される。また、この導体パターン41D上には絶縁体層が積層されるが、この絶縁体層の導体パターン41Dによって囲まれた部分全体には導体パターン41Dの表面を覆う様に非磁性体部44Bが形成される。非磁性体部43C、44BはCu−Zn系フェライトで形成される。
この非磁性体部44Bが形成された絶縁体層上には絶縁体層が積層される。
この様に絶縁体層と導体パターン41A〜41Dを積層し、絶縁体層間の導体パターン41A〜41Dを螺旋状に接続して積層体内にコイルが形成される。この積層体の端面には外部端子が形成され、積層体の端面に引き出された導体パターンが外部端子に接続される。
導体パターン51Aは、導体で形成された部分51A1と、その内部に部分51A1と異なる材質で形成された複数の異材質部51A2を備え、磁性体で形成された絶縁体層上に絶縁体層よりも小さく形成された非磁性体部54Aの表面に1ターン未満が形成され、一端が絶縁体層の端面まで引き出される。複数の異材質部51A2は、導体で形成された部分51A1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて導体パターン51Aの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン51Aの厚み方向に配列して形成される。
導体パターン51Bは、導体で形成された部分51B1と、その内部に部分51B1と異なる材質で形成された複数の異材質部51B2を備え、導体パターン51A上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部53Aの表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン51Aの他端に接続される。複数の異材質部51B2は、導体で形成された部分51B1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン51Bの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン51Bの厚み方向に配列して形成される。
導体パターン51Cは、導体で形成された部分51C1と、その内部に部分51C1と異なる材質で形成された複数の異材質部51C2を備え、導体パターン51B上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部53Bの表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン51Bの他端に接続される。異材質部51C2は、導体で形成された部分51C1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン51Cの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン51Cの厚み方向に配列して形成される。
導体パターン51Dは、導体で形成された部分51D1と、その内部に部分51D1と異なる材質で形成された複数の異材質部51D2を備え、導体パターン51C上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部53Cの表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン51Cの他端に接続され、他端が絶縁体層の端面まで引き出される。複数の異材質部51D2は、導体で形成された部分51D1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン51Dの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン51Dの厚み方向に配列して形成される。また、この導体パターン51D上には絶縁体層が積層されるが、この絶縁体層の導体パターン51Dによって囲まれた部分全体には導体パターン51Dの表面を覆う様に非磁性体部54Bが形成される。
この非磁性体部54Bが形成された絶縁体層上には絶縁体層が積層される。
この様に絶縁体層と導体パターン51A〜51Dを積層し、絶縁体層間の導体パターン51A〜51Dを螺旋状に接続して積層体内にコイルが形成される。この積層体の端面には外部端子が形成され、積層体の端面に引き出された導体パターンが外部端子に接続される。
導体パターン61Aは、導体で形成された部分61A1と、その内部に部分61A1と異なる材質で形成された複数の異材質部61A2を備え、磁性体で形成された絶縁体層上に絶縁体層よりも小さく形成された非磁性体部の表面に1ターン未満が形成され、一端が絶縁体層の端面まで引き出される。複数の異材質部61A2は、導体で形成された部分61A1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて導体パターン61Aの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン61Aの厚み方向及び幅方向に配列して形成される。
導体パターン61Bは、導体で形成された部分61B1と、その内部に部分61B1と異なる材質で形成された複数の異材質部61B2を備え、導体パターン61A上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部の表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン61Aの他端に接続される。複数の異材質部61B2は、導体で形成された部分61B1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン61Bの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン61Bの厚み方向及び幅に配列して形成される。
導体パターン61Cは、導体で形成された部分61C1と、その内部に部分61C1と異なる材質で形成された複数の異材質部61C2を備え、導体パターン61B上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部の表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン61Bの他端に接続される。異材質部61C2は、導体で形成された部分61C1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン61Cの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン61Cの厚み方向及び幅方向に配列して形成される。
導体パターン61Dは、導体で形成された部分61D1と、その内部に部分61D1と異なる材質で形成された複数の異材質部61D2を備え、導体パターン61C上に積層された磁性体製の絶縁体層を上下に貫通する非磁性体部の表面に1ターン未満が形成され、一端が導体パターン61Cの他端に接続され、他端が絶縁体層の端面まで引き出される。複数の異材質部61D2は、導体で形成された部分61D1の熱収縮率よりも小さい熱収縮率を有する材料を用いて、導体パターン61Dの内部に、互いに間隔を空けて導体パターン61Dの厚み方向及び幅方向に配列して形成される。また、この導体パターン61D上には絶縁体層が積層されるが、この絶縁体層の導体パターン61Dによって囲まれた部分全体には導体パターン61Dの表面を覆う様に非磁性体部が形成される。
この非磁性体部54Bが形成された絶縁体層上には絶縁体層が積層される。
この様に絶縁体層と導体パターン61A〜61Dを積層し、絶縁体層間の導体パターン61A〜61Dを螺旋状に接続して積層体内にコイルが形成される。この積層体の端面には外部端子が形成され、積層体の端面に引き出された導体パターンが外部端子に接続される。
Claims (6)
- 絶縁体層と導体パターンが積層され、該絶縁体層間の導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成された積層型電子部品において、
該導体パターンは、内部にその周囲と異なる材質で構成される異材質部が形成されたことを特徴とする積層型電子部品。 - 前記異材質部はその周囲の熱収縮率よりも小さな熱収縮率を有する請求項1に記載の積層型電子部品。
- 絶縁体層と導体パターンが積層され、該絶縁体層間の導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成された積層型電子部品において、
該導体パターンは、内部にその周囲と熱収縮率が異なる部分が形成されたことを特徴とする積層型電子部品。 - 前記熱収縮率が異なる部分は、その周囲よりも熱収縮率が小さく形成されている請求項3に記載の積層型電子部品。
- 前記熱収縮率が異なる部分は、前記導体パターンに局所的に形成されている請求項3又は請求項4に記載の積層型電子部品。
- 前記熱収縮率が異なる部分が複数形成された請求項3乃至請求項5に記載の積層型電子部品。
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