JP2014120656A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】オン抵抗と入力容量との積を低減する半導体装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、第1の半導体層2と、第2の半導体層8と、第3の半導体層9と、一対の第1の導電体7aと、一対の第2の導電体7bと、第1の配線層12と、第2の配線層13と、を備える。一対の第1及び第2の導電体は、第1及び第2の絶縁膜6a、6bを介して、それぞれ、第1及び第2のトレンチ3a、3b内に設けられ、第1の半導体層及び第2の半導体層に対向する。第1の配線層は、本体部12bと複数の凸部12aとを有する。複数の凸部は、本体部から延伸し、第1の層間絶縁膜20の第1の開口部31を介して第1の導電体と電気的に接続される。第2の配線層は、第1の層間絶縁膜の第2の開口部32を介して第2の導電体と電気的に接続される。
【選択図】図1
【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、第1の半導体層2と、第2の半導体層8と、第3の半導体層9と、一対の第1の導電体7aと、一対の第2の導電体7bと、第1の配線層12と、第2の配線層13と、を備える。一対の第1及び第2の導電体は、第1及び第2の絶縁膜6a、6bを介して、それぞれ、第1及び第2のトレンチ3a、3b内に設けられ、第1の半導体層及び第2の半導体層に対向する。第1の配線層は、本体部12bと複数の凸部12aとを有する。複数の凸部は、本体部から延伸し、第1の層間絶縁膜20の第1の開口部31を介して第1の導電体と電気的に接続される。第2の配線層は、第1の層間絶縁膜の第2の開口部32を介して第2の導電体と電気的に接続される。
【選択図】図1
Description
後述する実施形態は、半導体装置に関する。
半導体装置として、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)またはIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)等の絶縁ゲート型トランジスタが用いられる。これらの半導体装置は、低オン抵抗化による低消費電力化が求められる。MOSFETの低オン抵抗を実現するために、ドリフト層中に深く延伸するトレンチ内に絶縁膜を介して設けられたソース電位を有するフィールドプレート電極と、フィールドプレート電極の上端で、p形ベース層とフィールドプレート電極に絶縁膜を介して挟まれたゲート電極と、を有するMOSFETが開発されている。このMOSFETでは、隣合うフィールドプレート電極からn−形ドリフト層中に空乏層が広がることによって、n−形ドリフト層全体を容易に空乏化することができる。このため、このMOSFETでは、n−形ドリフト層中のn形不純物濃度を高くしてオン抵抗を低減することができる。しかしながら、ソース電位を有するフィールドプレート電極とゲート電位を有するゲート電極とが絶縁膜を介して重なるため、ゲート−ソース間容量が大きくなってしまう。この結果、オン抵抗を低減しても、半導体装置の指標となるオン抵抗と入力容量との積(R・C積)が増加してしまう。
オン抵抗と入力容量との積を低減する半導体装置を提供する。
本発明の実施形態に係る半導体装置は、第1導電形の第1の半導体層と、第2導電形の第2の半導体層と、第1導電形の第3の半導体層と、複数の第1のトレンチと、複数の第2のトレンチと、一対の第1の導電体と、第1のフィールドプレート電極と、一対の第2の導電体と、第2のフィールドプレート電極と、第1の配線層と、第2の配線層と、第1の電極と、第2の電極と、ゲートメタルと、を備える。第2導電形の第2の半導体層は、第1の半導体層の第1の表面に選択的に形成される。第2導電形の第2の半導体層は、第1の半導体層の第1の表面に選択的に形成される。第1導電形の第3の半導体層は、第2の半導体層の表面に選択的に形成され、前記の半導体層よりも高い第1導電形の不純物濃度を有する。複数の第1のトレンチは、第3の半導体層の表面から第1の半導体層まで達し、第3の半導体層及び第2の半導体層と隣接し、且つ第1の半導体層の第1の表面に平行な第1の方向に延伸し、第1の表面に平行で第1の方向に垂直な第2の方向に配列される。複数の第2のトレンチは、第1の表面から第1の半導体層まで達し、第2の半導体層と隣接し、且つ第1の方向に延伸し、第2の方向において複数の第1のトレンチの間に配列される。一対の第1の導電体は、第1の絶縁膜を介して第1のトレンチ内に設けられ。第1のフィールドプレート電極は、一対の第1の導電体の間に設けられる。一対の第2の導電体は、第2の絶縁膜を介して第2のトレンチ内に設けられる。第2のフィールドプレート電極は、一対の第2の導電体の間に設けられる。第1の配線層は、第1の層間絶縁膜を介して複数の第1のトレンチ及び複数の第2のトレンチ上に設けられ、第2の方向に延伸する本体部と、本体部から第1の方向に延伸し、第1の層間絶縁膜の第1の開口部を介して第1の導電体と電気的に接続された複数の凸部と、を有する。第2の配線層は、第1の層間絶縁膜を介して第2のトレンチ上に設けられ、第1の層間絶縁膜の第2の開口部を介して第2の導電体と電気的に接続される。第1の電極は、第1の半導体層の第1の表面とは反対側の第2の表面に電気的に接続される。第2の電極は、第2の半導体層、第3の半導体層、第2の配線層、第1のフィールドプレート電極、及び第2のフィールドプレート電極と電気的に接続される。ゲートメタルは、第1の配線層上に第2の層間絶縁膜を介して設けられ、第2の層間絶縁膜の第3の開口部を介して第1の配線層に電気的に接続され、第1の配線層にゲート電位を与える。
以下、本発明の実施の形態について図を参照しながら説明する。実施形態中の説明で使用する図は、説明を容易にするための模式的なものであり、図中の各要素の形状、寸法、大小関係などは、実際の実施においては必ずしも図に示されたとおりとは限らず、本発明の効果が得られる範囲内で適宜変更可能である。第1導電形をn形で、第2導電形をp形で説明するが、それぞれこの逆の導電形とすることも可能である。半導体としては、シリコンを一例に説明するが、炭化シリコン(SiC)や窒化物半導体(AlGaN)などの化合物半導体にも適用可能である。絶縁膜としては、酸化シリコンを一例に説明するが、窒化シリコン、酸窒化シリコン、アルミナなどの他の絶縁体を用いることも可能である。n形の導電形をn+、n、n−で表記した場合は、この順にn形不純物濃度が低いものとする。p形においても同様に、p+、p、p−の順にp形不純物濃度が低いものとする。
(第1の実施形態)
図1〜図8を用いて、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を説明する。半導体装置は、MOSFETを例に説明する。図1は、第1の実施形態に係るMOSFETの上からみた要部模式平面図であり、説明を容易にするために、後述のソース電極42、ゲートメタル43、ソースメタル44、第1の層間絶縁膜20、及び第2の層間絶縁膜21を、上からn+形ソース層9及びp形ベース層8の上面が露出するまで取り除いた状態を想定したものである。図2は、図1のA−A線における要部模式断面図である。図3は、図1のB−B線における要部模式断面図である。図4は、図1のC−C線における要部模式断面図である。図5は、図1のD−D線における要部模式断面図である。図6は、図1のE−E線における要部模式断面図である。図7は、図1のF−F線における要部模式断面図である。図8は、図1のG−G線における要部模式断面図である。
図1〜図8を用いて、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を説明する。半導体装置は、MOSFETを例に説明する。図1は、第1の実施形態に係るMOSFETの上からみた要部模式平面図であり、説明を容易にするために、後述のソース電極42、ゲートメタル43、ソースメタル44、第1の層間絶縁膜20、及び第2の層間絶縁膜21を、上からn+形ソース層9及びp形ベース層8の上面が露出するまで取り除いた状態を想定したものである。図2は、図1のA−A線における要部模式断面図である。図3は、図1のB−B線における要部模式断面図である。図4は、図1のC−C線における要部模式断面図である。図5は、図1のD−D線における要部模式断面図である。図6は、図1のE−E線における要部模式断面図である。図7は、図1のF−F線における要部模式断面図である。図8は、図1のG−G線における要部模式断面図である。
本実施形態に係るMOSFETは、n+形半導体層(第1導電形の第1の半導体層)1と、n−形ドリフト層(第1導電形の第2の半導体層)2と、p形ベース層(第2導電形の第3の半導体層)8と、n+形ソース層(第1導電形の第4の半導体層)9と、複数の第1のトレンチ3aと、第2のトレンチ3bと、第1のフィールド絶縁膜4aと第1のフィールドプレート電極5aと、第1の絶縁膜6aと、一対の第1の導電体7aと、第2のフィールド絶縁膜4bと、第2のフィールドプレート電極5bと、第2の絶縁膜6bと、一対の第2の導電体7bと、第1の配線層12と、第2の配線層13と、ドレイン電極(第1の電極)41と、ソース電極(第2の電極)42と、ゲートメタル43と、ソースメタル44と、を備える。
n+形半導体層1は、例えばシリコン基板である。n−形ドリフト層2は、n+形半導体層1上に設けられ、n+形半導体層1よりも低いn形の不純物濃度を有する。n−形ドリフト層2は、例えば、CVD法によりエピタキシャル成長されたn−形エピタキシャル層である。
p形ベース層8は、n−形ドリフト層2のn+形半導体層1とは反対側の表面に選択的に形成される。n+形ソース層9は、p形ベース層8のn+形半導体層1とは反対側の表面に選択的に形成され、n−形ドリフト層2よりも高いn形の不純物濃度を有する。
複数の第1のトレンチ3aは、n−形ドリフト層2の表面、p形ベース層8の表面、及びn+形ソース層9の表面から、n+形ソース層9及びp形ベース層8と隣接するとともにn−形ドリフト層2まで延伸し且つn−形ドリフト層2の表面に平行なX方向(第1の方向)に延伸する。また、複数の第1のトレンチ3aは、n−形ドリフト層2の表面に平行でX方向に垂直なY方向(第2の方向)に配列される。
複数の第2のトレンチ3bは、n−形ドリフト層2の表面、p形ベース層8の表面、及びn+形ソース層9の表面から、n+形ソース層9及びp形ベース層8と隣接するとともにn−形ドリフト層2まで延伸し、且つX方向に延伸する。また、複数の第2のトレンチ3bは、Y方向において複数の第1のトレンチ3aと交互に配列される。第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3bは、同一のトレンチ形状を有する。
第1のフィールド絶縁膜4aは、複数の第1のトレンチ3aのそれぞれの底面及び側面を覆う。第1のフィールド絶縁膜4aは、例えば、酸化シリコン(SiO2)である。第1のフィールドプレート電極5aは、第1のフィールド絶縁膜4aを介して第1のトレンチ内に設けられる。第1のフィールドプレート電極5aは、第1のトレンチ3a内で、第1の方向に沿って延伸する。第1のフィールドプレート電極5aは、例えば、導電性のポリシリコンである。
第1の絶縁膜6aは、第1のフィールド絶縁膜4aからZ方向(n−形ドリフト層2の表面に垂直な方向)に突き出た第1のフィールドプレート電極5aの一部分、及び第1のトレンチ3aの内部側面を覆う。第1の絶縁膜6aは、第1のフィールド絶縁膜と同じ酸化シリコンにより構成される。第1の絶縁膜6aは、ゲート絶縁膜として機能するので、第1のフィールド絶縁膜4aよりも薄い。第1のフィールド絶縁膜4a及び第1の絶縁膜6aは、熱酸化により形成される。
一対の第1の導電体7aは、第1の絶縁膜6aを介して第1のフィールドプレート電極の一部分を挟んで第1のトレンチ内に設けられ、第1の絶縁膜6aを介してn−形ドリフト層2、p形ベース層8、及びn+形ソース層9に対向する。第1の導電体7aは、ゲート電位が与えられてゲート電極として機能する。第1の導電体7aは、例えば、導電性のポリシリコンにより構成される。
第2のフィールド絶縁膜4bは、第2のトレンチ3bのそれぞれの底面及び側面を覆う。第2のフィールド絶縁膜4bは、第1のフィールド絶縁膜4aと一体的に形成されたものである。第2のフィールドプレート電極5bは、第2のフィールド絶縁膜4bを介して第2のトレンチ3b内に設けられる。第2のフィールドプレート電極5bは、第1のフィールドプレート電極と一体的に形成され、第1のフィールドプレート電極5aと同一の立体的形状を有する。すなわち、第2のフィールドプレート電極5bのX方向、Y方向、及びZ方向における寸法は、第1のフィールドプレート電極5aと同一となるように設けられる。
第2の絶縁膜6bは、第1の絶縁膜6aと同様に、第2のフィールド絶縁膜4bから突き出た第2のフィールドプレート電極5bの一部分及び第2のトレンチ3bの内部側面を覆う。第2の絶縁膜6bは、第1の絶縁膜6aと一体的に形成されるので、第1の絶縁膜6aと同じ厚さである。すなわち、第2のフィールド絶縁膜4bよりも薄い。
一対の第2の導電体7bは、一対の第1の導電体7aと同様に、第2の絶縁膜6bを介して第2のフィールドプレート電極5bの一部分を挟んで第2のトレンチ3b内に設けられ、第2の絶縁膜4bを介してn−形ドリフト層2、p形ベース層8、及びn+形ソース層9に対向する。一対の第2の導電体7bは、一対の第1の導電体7aと一体的に形成され、第1の導電体7bと同一の立体的形状を有する。すなわち、一対の第2の導電体7bのX方向、Y方向、及びZ方向における寸法は、一対の第1の導電体7aと同一となるように設けられる。
図2に示したように、第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3bとの間では、p+形コンタクト層10が、Z方向に沿ってn+形ソース層9の表面からp形ベース層8中に延伸し、p形ベース層8と電気的に接続されるように設けられる。p形ベース層8の表面に選択的にn+形ソース層9が形成されている領域は、後述するように、ドレイン層電極41からソース電極42に向かって電流が流れる素子領域である。X方向においてこれより外側の領域は、縦方向に電流が流れない終端領域である。
第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bは、X方向に沿って延伸し、その両端は、p形ベース層8よりも外側のn−形ドリフト層2中にある。第1の導電体7a及び第2の導電体7bは、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極7bよりもX方向において短く、その両端は、n+形ソース層9よりも外側にある。すなわち、X方向における一方の端の側では、第1の導電体7a及び第2の導電体7bの一端は、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bの一端とn+形ソース層9との間に位置する。または、X方向における一方の端の側では、第1の導電体7a及び第2の導電体7bの一端は、後述の第1の配線層12の本体部12bとn+形ソース層9との間にある。
第1の配線層12は、本体部12bと複数の凸部12aとを有する。本体部12bは、第1の層間絶縁膜20を介して複数の第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3b上に設けられ、n−形ドリフト層2の表面に平行でX方向と直交するY方向に延伸する。本体部12bは、X方向において、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bの一端と第1の導電体7a及び第2の導電体7bの一端との間に配置される。第1の層間絶縁膜20は、例えば、酸化シリコンである。
図4及び図8に示したように、複数の凸部12aは、本体部12bからX方向に延伸し、第1の層間絶縁膜20の第1の開口部31を介して複数の第1のトレンチ3a内のそれぞれの第1の導電体7aと電気的に接続される。図4に示したように、第1の配線層12の凸部12aは、一対の第1の導電体7aのそれぞれの上端に電気的に接続され、第1のフィールドプレート電極7aの上端を第1の層間絶縁膜20を介して跨いでいる。図8に示したように、第1の配線層12の凸部12aは、第1の導電体7aのX方向における一端に電気的に接続される。すなわち、第1の層間絶縁膜20の第1の開口部31は、一対の第1の導電体7aのそれぞれのX方向における一端の直上に配置される。
図3及び図7に示したように、第2の配線層13は、第1の層間絶縁膜20を介して第2のトレンチ3b上に設けられ、第1の層間絶縁膜20の第2の開口部32を介して第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bと電気的に接続される。第2の配線層13は、一対の第2の導電体7bのそれぞれの上端に電気的に接続され、第2のフィールドプレート電極7bの上端を第1の層間絶縁膜20を介して跨いでいる。第2の配線層13は、X方向において、第1の配線層12の凸部12aとn+形ソース層9との間に配置される。すなわち、第1の層間絶縁膜20の第2の開口部32は、X方向における第1の配線層12の凸部12aとn+形ソース層9との間であって、一対の第2の導電体7bのそれぞれの直上に配置される。それぞれの第2の配線層13は、隣の第1の導電体7a上で、互いに離間している。
第1の導電体7a、第2の導電体7b、第1の配線層12、及び第2の配線層13は、一体的に形成される。例えば、第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3b内に第1の導電体層7a及び第2の導電体層7bを形成する際に、n+形ソース層9、p形ベース層8、及びn−形ドリフト層2上全体に第1の層間絶縁膜20を介して形成されたポリシリコンをリソグラフィー技術及びエッチング技術を用いてパターニングすることによって、第1の配線層12及び第2の配線層13が上記形状となるように形成される。このパターニングによって、第1の配線層12は、第1の導電体7aにだけ電気的に接続され、第2の配線層は、第2の導電体7bにだけ電気的に接続されるようになる。
第3の配線層11が、X方向において第1の配線層よりもさらに外側のn−形ドリフ層2上に第1の層間絶縁膜20を介して設けられる。第3の配線層11は、Y方向に沿って延伸し第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3bに直交する。第3の配線層は、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bの直上において、開口部により第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bに電気的に接続される(図示省略)。
第3の配線層11は、導電性のポリシリコンにより構成され、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bと一体的に形成される。第3の配線層11は、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bを第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3b内に形成する際に、n−形ドリフト層2、p形ベース層8、及びn+形ソース層9上の全面に第1の層間絶縁膜20介して形成された導電性のポリシリコンを、上記同様にパターニングすることによって形成される。
ドレイン電極41は、n+形半導体層1のn−形ドリフト層2とは反対側の表面に電気的に接続される。ドレイン電極41は、例えば、銅、アルミニウムなどの金属である。
ソース電極42は、第2の層間絶縁膜21を介して、p形ベース層、n+形ソース層9、p+形コンタクト層10、第2の配線層13、第1のトレンチ3a、及び第2のトレンチ3b上に設けられる。ソース電極42は、第2の層間絶縁膜21の第5の開口部35を介して、p+形コンタクト層10及びn+形ソース層9に電気的に接続される。これにより、ソース電極42は、p+形コンタクト層10を介してp形ベース層8に電気的に接続される。
図3及び図7に示したように、ソース電極42は、第2の層間絶縁膜21の第4の開口部34を介して、複数の第2の配線層13のそれぞれと電気的に接続される。これにより、第2の配線層はソース電位が与えられる。第2の層間絶縁膜21の第4の開口部34は、第2の配線層13のそれぞれの直上に設けられる。
ゲートメタル43は、第2の層間絶縁膜21を介して、第1の配線層12上に設けられ、Y方向に沿って延伸する。図7及び図8に示したように、ゲートメタル43は、第1の配線層12の本体部12bの直上に設けられた、第2の層間絶縁膜の第3の開口部33を介して第1の配線層12と電気的に接続される。ゲートメタル43とソース電極42は、X方向において離間する。ゲートメタルは、図示しないゲートパッドに電気的に接続されており、ゲートパッドによりゲート電位が与えられる。
図7及び図8に示したように、ソースメタル44が、第2の層間絶縁膜21を介して、第3の配線層11の直上に設けられる。ソースメタル44は、第2の層間絶縁膜21の開口部を介して、第3の配線層11に電気的に接続される。また、ソースメタル44は、図示しない領域で、ソース電極42に電気的に接続される。このため、第1のフィールドプレート電極5a及び第2のフィールドプレート電極5bは、第3の配線層11を介して、ソース電位が与えられる。ソースメタル44は、X方向においてゲートメタル43と離間する。
ソース電極42、ゲートメタル43、及びソースメタル44は、銅またはアルミニウム等の金属である。これらは、例えば、第2の層間絶縁膜上の全面に金属膜が形成された後にパターニングをすることによって、一体的に形成される。
次に、本実施形態に係るMOSFETの動作について説明する。第1の配線層12には、ゲート電位が与えられるため、第1のトレンチ3a内の一対の第1の導電体7aは、ゲート電極として作用する。すなわち、ゲート電位が閾値を超えると、第1の導電体7aと対向するp形ベース層8の第1のトレンチ3aの側壁となっている部分にチャネル層が形成される。ここで、ドレイン電極41にソース電極42に対して正の電位が与えられると、電子が、このチャネル層を介して、p形ベース層8中の第1のトレンチ3aの側壁に沿って、n+形ソース層9からn−形ドリフト層2へ供給される。この結果、素子領域において、電流が、ドレイン電極41からソース電極42に向かって流れる。
一方、第2の配線層13は、ソース電位が与えられるため、第2のトレンチ3b内の一対の第2の導電体7bの電位は、閾値より低い。このため、第2の導電体7bと対向するp形ベース層8の第2のトレンチ3bの側壁となっている部分にチャネル層が形成されない。このため、p形ベース層8中の第2のトレンチ3bの側壁に沿って、電子がn+形ソース層9からn−形ドリフト層2へ供給されることはない。
本実施形態に係るMOSFETの利点を説明するために、次に、比較例に係るMOSFETと比較する。先ず、図9〜図12を用いて比較例に係るMOSFETを説明する。
図9は、比較例に係るMOSFETの要部模式平面図であり、本実施形態に係るMOSFETの図1に相当する図である。図10は、図9におけるH−H線における要部模式断面図であり、本実施形態に係るMOSEFTの図2に相当する図である。図11は、図9のJ−J線における要部模式断面図であり、本実施形態に係るMOSFETの図7に相当する図である。図12は、図9のI−I線における要部模式断面図であり、本実施形態に係るMOSFETの図4に相当する図である。
比較例に係るMOSFETは、第1の実施形態に係る第1の配線層12に第2の配線層13が合体して、1つの第1の配線層22を有する。すなわち、比較例に係るMOSFETでは、第1の配線層12が、第1の導電体7a及び第2の導電体7bの両者に電気的に接続される。このため、比較例に係るMOSFETでは、第1のトレンチ3a内に設けられた第1の導電体及び第2のトレンチ3b内に設けられた第2の導電体は、いずれもゲートゲート電位を有することとなる。従って、第1のトレンチ3a内に設けられた第1の導電体及び第2のトレンチ3b内に設けられた第2の導電体は、いずれもトレンチ型のゲート電極として機能する。この点で、比較例に係るMOSFETは、本実施形態に係るMOSFETと相異する。
本実施形態に係るMOSFETでは、第1の配線層12は、本体部12bと複数の凸部12aとを有する。本体部12bは、第1の層間絶縁膜20を介して複数の第1のトレンチ3a及び第2のトレンチ3b上に設けられ、n−形ドリフト層2の表面に平行でX方向と直交するY方向に延伸する。複数の凸部12aは、本体部12bからX方向に延伸し、第1の層間絶縁膜20の第1の開口部31を介して複数の第1のトレンチ3a内のそれぞれの第1の導電体7aと電気的に接続される。第1の配線層12は、第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bには電気的に接続されない。第1の配線層12は、ゲート電位を有する。
さらに、本実施形態に係るMOSFETでは、第2の配線層13を備える。第2の配線層13は、第1の層間絶縁膜20を介して第2のトレンチ3b上に設けられ、第1の層間絶縁膜20の第2の開口部32を介して第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bと電気的に接続される。第2の配線層13は、ソース電極42に電気的に接続されるのでソース電位を有する。この結果、本実施形態に係るMOSFETでは、第1のトレンチ3a内の第1の導電体7aは、トレンチ型のゲート電極として機能するが、第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bは、ゲート電極として機能しない。第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bは、ソース電位を有する。
本実施形態に係るMOSFET及び比較例に係るMOSFETのいずれにおいても、第1の導電体7a及び第1のフィールドプレート電極5aが第1の絶縁膜6aを挟む部分で静電容量C1を構成する。同様に、第2の導電体7b及び第2のフィールドプレート電極5bが第2の絶縁膜6bを挟む部分で静電容量C2を構成する。
比較例に係るMOSFETでは、第1のトレンチ3a内の第1の導電体7a及び第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bは、いずれもゲート電位を有する。このため、静電容量C1及び静電容量C2は、いずれも、ゲート−ソース間容量として機能する。これに対して、本実施形態に係るMOSFETでは、第1のトレンチ3a内の第1の導電体7aはゲート電位を有するが、第2のトレンチ3b内の第2の導電体7bはソース電位である。このため、静電容量C1は、ゲート−ソース間容量として機能するが、静電容量C2は、電極間容量として機能しない。よって、本実施形態に係るMOSFETは、比較例に係るMOSFETと比べて、上記第1の配線層12及び第2の配線層13を有することにより、ゲート−ソース間容量を低減することができる。すなわち、本実施形態に係るMOSFETでは、オン抵抗と入力容量との積を低減することができる。
本実施形態に係るMOSFETでは、第1のトレンチ3aと第2のトレンチ3bとがY方向において交互に配列されているが、これに限定される必要は無い。隣合う第1のトレンチ3aの間に、2以上の第2のトレンチ3bが配列されることも可能である。この場合は、この2以上の第2のトレンチ3b上のそれぞれの第2の配線層13は、互いに繋がっていてもよい。このように、隣合う第1のトレンチ3aの間に2以上の第2のトレンチ3bを配列することによって、MOSFETのゲート−ソース間容量をさらに低減することができる。
また、本実施形態に係るMOSFETでは、第2の配線層13は、X方向において、第1の配線層12の凸部12aとn+形ソース層9との間の第2の導電体7b上に配置される。ソース電極42は、第2の層間絶縁膜21を介して第2の配線層13の上に設けられる。ソース電極42は、第2の層間絶縁膜21の第4の開口部34を介して、第2の配線層13と電気的に接続される。第2の配線層13が上記位置に配置されることにより、ソース電極42が、その直下で直接第2の配線層13に容易に電気的に接続されることができる。このため、ソース電極42を簡単なパターン形状とすることができ、また、ソース電極42と第2の配線層13とを接続するための特別なメタル配線層をさらに設ける必要もない。
(第2の実施形態)
第2の実施形態に係る半導体装置を図13を用いて説明する。図13は第2の実施形態に係る半導体装置の要部模式断面図であり、第1の実施形態に係る半導体装置の図2に相当する図である。なお、第1の実施形態で説明した構成と同じ構成の部分には同じ参照番号または記号を用いその説明は省略する。第1の実施形態との相異点について主に説明する。
第2の実施形態に係る半導体装置を図13を用いて説明する。図13は第2の実施形態に係る半導体装置の要部模式断面図であり、第1の実施形態に係る半導体装置の図2に相当する図である。なお、第1の実施形態で説明した構成と同じ構成の部分には同じ参照番号または記号を用いその説明は省略する。第1の実施形態との相異点について主に説明する。
本実施形態に係る半導体装置は、第1の実施形態に係るMOSFETをIGBTとした場合である。すなわち、図13に示したように、本実施形態に係るIGBTは、第1の実施形態に係るMOSFETと比べて、n+形半導体層1とドレイン電極41との間に、p+形コレクタ層50を有する。p+形コレクタ層50は、p形ベース層8よりも高いp形不純物濃度を有する。なお、IGBTでは、第1の実施形態に係るドレイン電極41は、コレクタ電極41として機能し、ソース電極42は、エミッタ電極42として機能する。
本実施形態に係るIGBTにおいても、第1の実施形態に係るMOSFETと同様に、ゲート−エミッタ間容量を大きく低減することができる。さらに、エミッタ電極42は、その直下で第2の配線層13と容易に電気的に接続されることができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1 n+形半導体層
2 n−形ドリフト層
3a 第1のトレンチ
3b 第2のトレンチ
4a 第1のフィールド絶縁膜
4b 第2のフィールド絶縁膜
5a 第1のフィールドプレート電極
5b 第2のフィールドプレート電極
6a 第1の絶縁膜
6b 第2の絶縁膜
7a 第1の導電体
7b 第2の導電体
8 p形ベース層
9 n+形ソース層
10 p+形コンタクト層
11 第3の配線層
12 第1の配線層
12a 凸部
12b 本体部
13 第2の配線層
20 第1の層間絶縁膜
21 第2の層間絶縁膜
31〜35 開口部
41 ドレイン電極
42 ソース電極
43 ゲートメタル
44 ソースメタル
2 n−形ドリフト層
3a 第1のトレンチ
3b 第2のトレンチ
4a 第1のフィールド絶縁膜
4b 第2のフィールド絶縁膜
5a 第1のフィールドプレート電極
5b 第2のフィールドプレート電極
6a 第1の絶縁膜
6b 第2の絶縁膜
7a 第1の導電体
7b 第2の導電体
8 p形ベース層
9 n+形ソース層
10 p+形コンタクト層
11 第3の配線層
12 第1の配線層
12a 凸部
12b 本体部
13 第2の配線層
20 第1の層間絶縁膜
21 第2の層間絶縁膜
31〜35 開口部
41 ドレイン電極
42 ソース電極
43 ゲートメタル
44 ソースメタル
Claims (7)
- 第1導電形の第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の第1の表面に選択的に形成された第2導電形の第2の半導体層と、
前記第2の半導体層の表面に選択的に形成され、前記第1の半導体層よりも高い第1導電形の不純物濃度を有する第1導電形の第3の半導体層と、
前記第3の半導体層の表面から前記第1の半導体層まで達し、前記第3の半導体層及び前記第2の半導体層と隣接し、且つ前記第1の表面に平行な第1の方向に延伸し、前記第1の表面に平行で前記第1の方向に垂直な第2の方向に配列された、複数の第1のトレンチと、
前記第1の表面から前記第1の半導体層まで達し、前記第2の半導体層と隣接し、且つ前記第1の方向に延伸し、前記第2の方向において前記複数の第1のトレンチの間に配列された複数の第2のトレンチと、
第1の絶縁膜を介して前記第1のトレンチ内に設けられた一対の第1の導電体と、
前記一対の第1の導電体の間に設けられた第1のフィールドプレート電極と、
第2の絶縁膜を介して前記第2のトレンチ内に設けられた一対の第2の導電体と、
前記一対の第2の導電体の間に設けられた第2のフィールドプレート電極と、
第1の層間絶縁膜を介して前記複数の第1のトレンチ及び前記複数の第2のトレンチ上に設けられ、前記第2の方向に延伸する本体部と、前記本体部から前記第1の方向に延伸し、前記第1の層間絶縁膜の第1の開口部を介して前記第1の導電体と電気的に接続された複数の凸部と、を有する第1の配線層と、
前記第1の層間絶縁膜を介して前記第2のトレンチ上に設けられ、前記第1の層間絶縁膜の第2の開口部を介して前記第2の導電体と電気的に接続された第2の配線層と、
前記第1の半導体層の前記第1の表面とは反対側の第2の表面に電気的に接続された第1の電極と、
前記第2の半導体層、前記第3の半導体層、前記第2の配線層、前記第1のフィールドプレート電極、及び前記第2のフィールドプレート電極と電気的に接続された第2の電極と、
前記第1の配線層上に第2の層間絶縁膜を介して設けられ、前記第2の層間絶縁膜の第3の開口部を介して前記第1の配線層に電気的に接続され、前記第1の配線層にゲート電位を与えるゲートメタルと、
前記第1の半導体層と前記第1の電極との間に、前記第3の半導体層よりも高い第2導電形の不純物濃度を有する第5の半導体層と、
を備え、
前記第1の導電体及び前記第2の導電体は、前記第1の方向に沿って延伸し、
前記第1の導電体の端及び前記第2の導電体の端は、それぞれ、前記第1の方向において、前記第1の配線層の前記本体部と前記第4の半導体層との間にあり、
前記第2の配線層は、前記第1の方向において、前記第1の配線層の前記複数の凸部よりも前記第4の半導体層側に設けられており、
前記第2の電極は、前記前記第2の配線層、前記第3の半導体層、及び前記第4の半導体層上に、前記第2の層間絶縁膜を介して設けられ、前記第2の配線層と前記第2の層間絶縁膜の第4の開口部を介して電気的に接続され、前記第3の半導体層及び前記第4の半導体層と前記第2の層間絶縁膜の第5の開口部を介して電気的に接続され、
前記第1の導電体、前記第2の導電体、前記第1の配線層、及び前記第2の配線層は、ポリシリコンにより一体的に形成され、
前記第1の電極は、前記第5の半導体層を介して前記第1の半導体層と電気的に接続されている半導体装置。 - 第1導電形の第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の第1の表面に選択的に形成された第2導電形の第2の半導体層と、
前記第2の半導体層の表面に選択的に形成され、前記第1の半導体層よりも高い第1導電形の不純物濃度を有する第1導電形の第3の半導体層と、
前記第3の半導体層の表面から前記第1の半導体層まで達し、前記第3の半導体層及び前記第2の半導体層と隣接し、且つ前記第1の表面に平行な第1の方向に延伸し、前記第1の表面に平行で前記第1の方向に垂直な第2の方向に配列された、複数の第1のトレンチと、
前記第1の表面から前記第1の半導体層まで達し、前記第2の半導体層と隣接し、且つ前記第1の方向に延伸し、前記第2の方向において前記複数の第1のトレンチの間に配列された複数の第2のトレンチと、
第1の絶縁膜を介して前記第1のトレンチ内に設けられた一対の第1の導電体と、
前記一対の第1の導電体の間に設けられた第1のフィールドプレート電極と、
第2の絶縁膜を介して前記第2のトレンチ内に設けられた一対の第2の導電体と、
前記一対の第2の導電体の間に設けられた第2のフィールドプレート電極と、
第1の層間絶縁膜を介して前記複数の第1のトレンチ及び前記複数の第2のトレンチ上に設けられ、前記第2の方向に延伸する本体部と、前記本体部から前記第1の方向に延伸し、前記第1の層間絶縁膜の第1の開口部を介して前記第1の導電体と電気的に接続された複数の凸部と、を有する第1の配線層と、
前記第1の層間絶縁膜を介して前記第2のトレンチ上に設けられ、前記第1の層間絶縁膜の第2の開口部を介して前記第2の導電体と電気的に接続された第2の配線層と、
前記第1の半導体層の前記第1の表面とは反対側の第2の表面に電気的に接続された第1の電極と、
前記第2の半導体層、前記第3の半導体層、前記第2の配線層、前記第1のフィールドプレート電極、及び前記第2のフィールドプレート電極と電気的に接続された第2の電極と、
前記第1の配線層上に第2の層間絶縁膜を介して設けられ、前記第2の層間絶縁膜の第3の開口部を介して前記第1の配線層に電気的に接続され、前記第1の配線層にゲート電位を与えるゲートメタルと、
を備えた半導体装置。 - 前記第1の導電体及び前記第2の導電体は、前記第1の方向に沿って延伸し、
前記第1の導電体の端及び前記第2の導電体の端は、それぞれ、前記第1の方向において、前記第1の配線層の前記本体部と前記第4の半導体層との間にある、請求項2記載の半導体装置。 - 前記第2の配線層は、前記第1の方向において、前記第1の配線層の前記複数の凸部よりも前記第4の半導体層側に設けられている請求項2または3に記載の半導体装置。
- 前記第2の電極は、前記前記第2の配線層、前記第3の半導体層、及び前記第4の半導体層上に、前記第2の層間絶縁膜を介して設けられ、前記第2の層間絶縁膜の第4の開口部を介して前記第2の配線層と電気的に接続され、前記第2の層間絶縁膜の第5の開口部を介して前記第3の半導体層及び前記第4の半導体層と電気的に接続されている請求項2〜4のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記第1の導電体、前記第2の導電体、前記第1の配線層、及び前記第2の配線層は、ポリシリコンにより一体的に形成されている請求項2〜5のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体層と前記第1の電極との間に、さらに前記第3の半導体層よりも高い第2導電形の不純物濃度を有する第5の半導体層をさらに備え、
前記第1の電極は、前記第5の半導体層を介して前記第1の半導体層と電気的に接続されている請求項2〜6のいずれか1つに記載の半導体装置。
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