JP2014092767A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の接合領域、チャネル領域及び第2の接合領域は、平面視において第1のデータ線及び第2のデータ線の各々に沿ってこの順に配置され、第1の交差部及び第4の交差部の各々において、第2の接合領域は前記第1の走査線に対して第2の走査線の側に配置され、第2の交差部及び第3の交差部の各々において、第1の接合領域は第2の走査線に対して第1の走査線の側に配置され、遮光構造のうち第1の接合領域を覆う部分は、第1の接合領域の上方を覆い、かつ、第1の接合領域の側方を覆わず、遮光構造のうち第2の接合領域を覆う部分は、第2の接合領域の上方を覆い、かつ、第2の接合領域の側方を覆い、マイクロレンズの焦点は、マイクロレンズの中心と第1の走査線との間に配置されている。
【選択図】図10
Description
しかし、各画素の開口領域の中心にマイクロレンズの焦点が合うよう設計されると、画素電極側LDD領域及びデータ線側LDD領域のそれぞれに同等の光が入射されることとなる。そのため、画素電極側LDD領域に対する遮光性を、データ線側LDD領域に対する遮光性よりも高めると、データ線側LDD領域に対して相対的に多くの光が入射してしまい、かえって光リーク電流が発生しやすくなるという課題があった。
(1)即ち、本発明の一態様における電気光学装置は、第1の方向に延在する第1のデータ線と、前記第1の方向に延在し、かつ、前記第1のデータ線と隣り合う第2のデータ線と、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在し、かつ、前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々と交差する第1の走査線と、前記第2の方向に延在し、かつ、前記第1の走査線と隣り合うとともに、前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々と交差する第2の走査線と、チャネル領域と、平面視において前記チャネル領域を挟んで対向して配置されたソース領域及びドレイン領域と、前記チャネル領域と前記ソース領域との間に配置された第1の接合領域と、前記チャネル領域と前記ドレイン領域との間に配置された第2の接合領域と、を含む半導体層と、前記半導体層を覆う遮光構造と、前記第1のデータ線、前記第2のデータ線、前記第1の走査線及び前記第2の走査線によって囲まれた領域に配置されたマイクロレンズと、を含み、前記半導体層は、前記第1のデータ線と前記第1の走査線とが交差する第1の交差部、前記第1のデータ線と前記第2の走査線とが交差する第2の交差部、前記第2のデータ線と前記第2の走査線とが交差する第3の交差部、前記第2のデータ線と前記第1の走査線とが交差する第4の交差部、の各々に配置されており、前記第1の接合領域、前記チャネル領域及び前記第2の接合領域は、平面視において前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々に沿ってこの順に配置されており、前記第1の交差部及び前記第4の交差部の各々において、前記第2の接合領域は前記第1の走査線に対して前記第2の走査線の側に配置されており、前記第2の交差部及び前記第3の交差部の各々において、前記第1の接合領域は前記第2の走査線に対して前記第1の走査線の側に配置されており、前記遮光構造のうち前記第1の接合領域を覆う部分は、前記第1の接合領域の上方を覆い、かつ、前記第1の接合領域の側方を覆っておらず、前記遮光構造のうち前記第2の接合領域を覆う部分は、前記第2の接合領域の上方を覆い、かつ、前記第2の接合領域の側方を覆っており、前記マイクロレンズの焦点は、前記マイクロレンズの中心と前記第1の走査線との間に配置されている。
本発明の第1実施形態に係る液晶装置について、図1から図12を参照して説明する。
先ず、本実施形態における液晶装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。
図2は、図1のH−H’線に沿った断面図である。
尚、図1は、TFTアレイ基板10をその上に形成された各構成要素と共に対向基板20の側から見た図である。
説明する。
図4から図6では、図1又は図2を参照して説明した構成中、TFTアレイ基板10側の構成について説明する。図4から図6では、便宜上、画素電極9aよりも上側に位置する部分の図示を省略している。
尚、図8では、図7に対応させて、画素部を構成する下側遮光膜11b、TFT30、及び蓄積容量70の配置関係に着目してその構成を示している。
図9は、比較例に係るマイクロレンズ24Xの焦点の配置を示す平面図である。
図10は、第1実施形態に係るマイクロレンズ24の焦点の配置を示す平面図である。
図11は、図9のD−D’線に沿った断面図である。
図12は、図10のE−E’線に沿った断面図である。
ここで、第1の交差点とは、遮光構造のうち第1のデータ線SL1の延在方向における遮光部分の中心を通る直線と、遮光構造のうち第1の走査線GL1の延在方向における遮光部分の中心を通る直線とが交差する点を意味する。第2の交差点とは、遮光構造のうち第1のデータ線SL1の延在方向における遮光部分の中心を通る直線と、遮光構造のうち第2の走査線GL2の延在方向における遮光部分の中心を通る直線とが交差する点を意味する。第3の交差点とは、遮光構造のうち第2のデータ線SL2の延在方向における遮光部分の中心を通る直線と、遮光構造のうち第2の走査線GL2の延在方向における遮光部分の中心を通る直線とが交差する点を意味する。第4の交差点とは、遮光構造のうち第2のデータ線SL2の延在方向における遮光部分の中心を通る直線と、遮光構造のうち第1の走査線GL1の延在方向における遮光部分の中心を通る直線とが交差する点を意味する。
次に、本発明の第2実施形態に係る液晶装置について、図13から図16を参照して説明する。
図13は、比較例に係るマイクロレンズ124Xの焦点の配置を示す平面図である。
図14は、第2実施形態に係るマイクロレンズ124の焦点の配置を示す平面図である。
図15は、図13のJ−J’線に沿った断面図である。
図16は、図14のK−K’線に沿った断面図である。
これに対し、本実施形態では、図13及び図14に示すように、半導体層1が横配置の構成(半導体層の延設方向が、走査線の延設方向に沿っている構成)である。尚、半導体層1が横配置の具体的な構成については後述する。
その他の点は第1実施形態に係る構成と同様であるので、第1実施形態で使用した図と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。図17は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
その他、液晶装置の各構成要素の形状、数、配置、材料、形成方法等に関する具体的な記載は、上記の実施形態に限定されることなく、適宜変更が可能である。
Claims (5)
- 第1の方向に延在する第1のデータ線と、
前記第1の方向に延在し、かつ、前記第1のデータ線と隣り合う第2のデータ線と、
前記第1の方向と交差する第2の方向に延在し、かつ、前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々と交差する第1の走査線と、
前記第2の方向に延在し、かつ、前記第1の走査線と隣り合うとともに、前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々と交差する第2の走査線と、
チャネル領域と、平面視において前記チャネル領域を挟んで対向して配置されたソース領域及びドレイン領域と、前記チャネル領域と前記ソース領域との間に配置された第1の接合領域と、前記チャネル領域と前記ドレイン領域との間に配置された第2の接合領域と、を含む半導体層と、
前記半導体層を覆う遮光構造と、
前記第1のデータ線、前記第2のデータ線、前記第1の走査線及び前記第2の走査線によって囲まれた領域に配置されたマイクロレンズと、を含み、
前記半導体層は、前記第1のデータ線と前記第1の走査線とが交差する第1の交差部、前記第1のデータ線と前記第2の走査線とが交差する第2の交差部、前記第2のデータ線と前記第2の走査線とが交差する第3の交差部、前記第2のデータ線と前記第1の走査線とが交差する第4の交差部、の各々に配置されており、
前記第1の接合領域、前記チャネル領域及び前記第2の接合領域は、平面視において前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々に沿ってこの順に配置されており、
前記第1の交差部及び前記第4の交差部の各々において、前記第2の接合領域は前記第1の走査線に対して前記第2の走査線の側に配置されており、
前記第2の交差部及び前記第3の交差部の各々において、前記第1の接合領域は前記第2の走査線に対して前記第1の走査線の側に配置されており、
前記遮光構造のうち前記第1の接合領域を覆う部分は、前記第1の接合領域の上方を覆い、かつ、前記第1の接合領域の側方を覆っておらず、
前記遮光構造のうち前記第2の接合領域を覆う部分は、前記第2の接合領域の上方を覆い、かつ、前記第2の接合領域の側方を覆っており、
前記マイクロレンズの焦点は、前記マイクロレンズの中心と前記第1の走査線との間に配置されている電気光学装置。 - 前記マイクロレンズの焦点は、前記マイクロレンズの中心に対して、前記第1の交差部と前記第3の交差部とを結ぶ直線が延在する方向又は前記第2の交差部と前記第4の交差部とを結ぶ直線が延在する方向に配置されている請求項1に記載の電気光学装置。
- 第1の方向に延在する第1のデータ線と、
前記第1の方向に延在し、かつ、前記第1のデータ線と隣り合う第2のデータ線と、
前記第1の方向と交差する第2の方向に延在し、かつ、前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々と交差する第1の走査線と、
前記第2の方向に延在し、かつ、前記第1の走査線と隣り合うとともに、前記第1のデータ線及び前記第2のデータ線の各々と交差する第2の走査線と、
チャネル領域と、平面視において前記チャネル領域を挟んで対向して配置されたソース領域及びドレイン領域と、前記チャネル領域と前記ソース領域との間に配置された第1の接合領域と、前記チャネル領域と前記ドレイン領域との間に配置された第2の接合領域と、を含む半導体層と、
前記半導体層を覆う遮光構造と、
前記第1のデータ線、前記第2のデータ線、前記第1の走査線及び前記第2の走査線によって囲まれた領域に配置されたマイクロレンズと、を含み、
前記半導体層は、前記第1のデータ線と前記第1の走査線とが交差する第1の交差部、前記第1のデータ線と前記第2の走査線とが交差する第2の交差部、前記第2のデータ線と前記第2の走査線とが交差する第3の交差部、前記第2のデータ線と前記第1の走査線とが交差する第4の交差部、の各々に配置されており、
前記第1の接合領域、前記チャネル領域及び前記第2の接合領域は、平面視において前記第1の走査線及び前記第2の走査線の各々に沿ってこの順に配置されており、
前記第3の交差部及び前記第4の交差部の各々において、前記第2の接合領域は前記第2のデータ線に対して前記第1のデータ線の側に配置されており、
前記第1の交差部及び前記第2の交差部の各々において、前記第1の接合領域は前記第1のデータ線に対して前記第2のデータ線の側に配置されており、
前記遮光構造のうち前記第1の接合領域を覆う部分は、前記第1の接合領域の上方を覆い、かつ、前記第1の接合領域の側方を覆っておらず、
前記遮光構造のうち前記第2の接合領域を覆う部分は、前記第2の接合領域の上方を覆い、かつ、前記第2の接合領域の側方を覆っており、
前記マイクロレンズの焦点は、前記マイクロレンズの中心と前記第2のデータ線との間に配置されている電気光学装置。 - 前記マイクロレンズの焦点は、前記マイクロレンズの中心に対して、前記第1の交差部と前記第3の交差部とを結ぶ直線が延在する方向又は前記第2の交差部と前記第4の交差部とを結ぶ直線が延在する方向に配置されている請求項3に記載の電気光学装置。
- 請求項1から4までのいずれか一項に記載の電気光学装置を備えた電子機器。
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