JP2014088600A - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】鉛直方向に保持されたワークに対して、無電解めっき処理などの表面処理を高品質で行う。
【解決手段】無電解銅めっき槽２００などの各槽には、噴出口６を有する液噴出部４が設けられている。液噴出部４の噴出口６から、処理液Ｑが板状ワーク１０に向けて、水平面に対して斜め上方に噴出し、搬送用ハンガー１６により把持された板状ワーク１０の上部に処理液Ｑを当てる。板状ワーク１０を伝って処理液Ｑが移動する間に、板状ワーク１０の表面に処理液Ｑを付着させる。
【選択図】図３

Description

この発明は、プリント基板などの被処理物に無電解めっき、デスミア処理、前処理又は後処理等の表面処理を行う技術に関するものである。

従来は、図１９に示すように、ラックＲに収容された複数の板状ワーク１０を、槽内に貯留した処理液Ｑ中に浸漬させて無電解めっき処理を行っていた（特許文献１）。ここで、無電解めっきとは、通電を行う電気めっきとは異なり、非処理物をめっき液に浸漬させるだけでめっきすることが可能なめっき方法である。無電解めっきにより、不導体（例えば、プラスチック、セラミックなどの絶縁物）に対しても、めっきすることが可能である。

ここで、無電解めっきや、デスミア処理における溶存酸素の問題について触れておく。無電解銅めっき液中の溶存酸素の存在は、無電解銅めっき液とワークに付着している触媒との反応を抑制する効果があり、めっきの析出を低下させてしまうため問題である。また、デスミア処理に用いられるエッチング液中の溶存酸素の存在は、ワークに対するエッチング液の反応を促進する効果があり、接液部分を過剰にエッチングしてしまうため問題である。従って、これら処理液中における溶存酸素量はなるべく少なくする必要がある。

その他のめっき装置としては、図２０に示すような、板状ワーク１０に近接して配置した側壁Ｗ１、Ｗ２を備えた槽Ｖ内において、板状ワーク１０が降下するときに処理液Ｑ中に円滑に引き込むために、槽Ｖの上方から処理液Ｑをテーパ状の開口から下方に流し込む電解めっき装置（特許文献２）や、水平に保持されたワークの下面に向けて、鉛直上方に処理液を噴出する電解めっき装置（特許文献３）も存在する。

特開２０１１−３２５３８号公報 特開２００６−１１８０１９号公報 特開平９−３１６９６号公報

（i）しかし、図１９に示す特許文献１の技術では、ラックを浸漬させるための昇降機構が必要であるため、無電解めっき用の設備が複雑化、大型化するといった問題や、槽内に溜めた無電解めっき処理液Ｑの中に浸漬させる必要があるため、多くの処理液量が必要になるといった問題がある。

（ii）特許文献２の技術を無電解めっきに用いた場合、処理液Ｑが槽Ｖ内の側面Ｗ１、Ｗ２を伝ってしまい、所望のめっき品質を得ることができないおそれがある。また、多量のめっき液が必要になるという問題もある。

また、図２０に示す特許文献２の技術では、液噴出ヘッダー53L・53R（特許文献２の図１）から処理液が水平面よりも下向きに噴出されているため、重力の影響によりワークに当たるまでに処理液の流速が増加し、また、板状ワーク１０に対する入射角度も大きくなる。このため、処理液がワークに衝突する際に、泡立ちが生じて処理液に空気を巻き込み、その結果、処理液中の溶存酸素量が多くなり、表面処理の品質が悪化する。さらにワークの折れ曲がりや周囲への衝突のおそれもある。

（iii）特許文献３の技術は、水平に保持した状態で搬送されるワークの片側（下面）のみにめっき処理を行うものであって、ワークを鉛直方向に保持した状態で搬送されるワークの表裏に対してめっき処理を行うことができない。また、ワークの下面に対して上方に多量の処理液Ｑを噴出する必要があるため、厚みが薄いタイプのワークには用いることができない。

この発明は、鉛直方向に保持されたワークに対して、無電解めっき処理などの表面処理を高品質で行うことを目的とする。

（１）この発明の表面処理装置は、
被処理物を鉛直方向に保持した状態で搬送するための搬送用ハンガーと、
内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
噴出口から、前記処理液を前記被処理物に向けて水平面に対して斜め上方に噴出させる液噴出部と、
前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送させるための搬送機構と、
を備えたこと、特徴とする。

これにより、鉛直方向に保持されたワークに対して、無電解めっき処理などの表面処理を高品質で行うことができる。

（２）この発明の表面処理装置は、
前記噴出口から斜め上方に噴出される前記処理液が放物線上を移動し、前記放物線の頂点付近で前記処理液が被処理物に当たるように、前記処理液の噴出角度を設定したこと、
を特徴とする。

これにより、鉛直方向に保持されたワークに対して、噴出された処理液を放物線の頂点付近で当てることで、無電解めっき処理などの表面処理をさらに高品質で行うことができる。

（３）この発明の表面処理装置は、
前記液噴出部が、内部に空間を有する管部材を備えており、
前記噴出口が、前記管部材の長手方向に所定間隔を空けて配置される複数の孔で構成されること、
を特徴とする。

これにより、鉛直方向に保持されたワークに対して、複数の孔から噴出された処理液を当てることで、無電解めっき処理などの表面処理をさらに高品質で行うことができる。

（４）この発明の表面処理装置は、
前記液噴出部が、内部に空間を有する管部材を備えており、
前記噴出口が、前記管部材の長手方向に延伸される長孔で構成されること、
を特徴とする。

これにより、鉛直方向に保持されたワークに対して、長孔から噴出された処理液を当てることで、無電解めっき処理などの表面処理をさらに高品質で行うことができる。

（５）この発明の表面処理装置は、
前記液噴出部の外周に、前記噴出口を覆うように変流部材が取り付けられており、
前記噴出口から噴出された前記処理液が、前記変流部材に当たった後で、前記被処理物に当たること、
を特徴とする。

これにより、鉛直方向に保持されたワークに対して、連続する長孔から噴出された処理液を均一化して被処理物に当てることで、無電解めっき処理などの表面処理をさらに高品質で行うことができる。

（６）この発明の表面処理装置は、
前記噴出口から噴出される前記処理液の噴出角度を任意の角度に変更可能に構成したこと、
を特徴とする。

これにより、鉛直方向に保持されたワークに対して、任意の噴出角度で処理液を噴出することができる。

（７）この発明の表面処理装置は、
前記液噴出部を、前記槽体内に複数段配置したこと、
を特徴とする。

これにより、複数段の位置に設けられた液噴出部から、板状ワークに対して処理液量を当てることができる。

（８）この発明の表面処理装置は、
前記噴出口から噴出される前記処理液の噴出角度が、水平面に対して上方に向かって５°〜８５°の範囲内であること、
を特徴とする。

これにより、水平面に対して上方に向かって５°〜８５°の範囲内で、板状ワークに対して処理液量を当てることができる。

（９）この発明の表面処理装置は、
前記搬送用ハンガーの鉛直下方に設けられる飛散防止部材を備えたこと、
を特徴とする。

これにより、被処理物を伝って落下した処理液が跳ね返って、再び被処理物に付着するのを防止することができる。

（１０）この発明の表面処理装置は、
前記槽体の底部と連通する液貯留槽であって、前記槽体の底部より低い位置に底部が設けられた液貯留槽を備えたこと、
を特徴とする。

これにより、処理液を自動的に液貯留槽に流入させることができる。また、液貯留槽の上面に、ヒーターなどの機器を取り付けることが可能となり、機器のメンテナンスを容易にすることができる。

（１１）この発明の表面処理装置は、
前記槽体に、鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが設けられていること、
を特徴とする。

これにより、切り欠きを通して、被処理物を水平方向に搬送することが可能となり、表面処理装置の省スペース化を図ることができる。

（１４）この発明の表面処理装置は、
被処理物を鉛直方向に保持した状態で搬送するための搬送用ハンガーと、
内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
前記搬送用ハンガーの鉛直下方に設けられる飛散防止部材と、
前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送させるための搬送機構と、
を備えたこと、特徴とする。

これにより、被処理物を伝って落下した処理液が跳ね返って、再び被処理物に付着するのを防止することができる。

（１５）この発明の表面処理装置は、
被処理物を鉛直方向に保持した状態で搬送するための搬送用ハンガーと、
内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送させるための搬送機構と、
前記槽体の底で連通する液貯留槽であって、前記槽体の底部より低い位置に底部が設けられた液貯留槽と、
を備えたこと、を特徴とする。

これにより、処理液を自動的に液貯留槽に流入させることができる。また、液貯留槽の上面に、ヒーターなどの機器を取り付けることが可能となり、機器のメンテナンスを容易にすることができる。

表面処理装置３００を上方から見た配置図である。 表面処理装置３００をα方向から見た側面図である。 表面処理装置３００の一部を構成する無電解銅めっき槽２００のβ−β断面図である。 無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。 液噴出部４の構成を示す図である。 液噴出部４の噴出口６から噴出された処理液Ｑの流れを示す図である。 液噴出部４に変流部材４０を設けた改良例を示す図である。 変流部材４０に当たる前後における処理液Ｑの液流の断面図である。 図９Ａは、搬送機構１８の移動動作を制御するための接続関係を示す図であり、図９Ｂは、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００の間におけるガイドレール１４の断面を示す図である。 他の実施形態におけるめっき処理槽２０１の構成を示す図である。 飛散防止部材６０の詳細を示す図である。 他の実施形態におけるめっき処理槽２０２の構成を示す図である。 他の実施形態における液噴出部４の構成を示す図である。 他の実施形態における液噴出部４の構成を示す図である。 複数段の液噴出部４を設けた例を示す図である。 表面処理装置を隣接して複数列配置した例を示す図である。 他の実施形態における搬送用ハンガー１６’の構造を示す図である。 他の実施形態における搬送補助装置を示す図である。 従来技術における無電解めっき処理方法を示す図である。 従来技術における処理槽Ｖの構造を示す図である。 他の実施形態の液噴出部４’を示す図である。 他の実施形態における表面処理装置を示す図である。

１．表面処理装置３００の構成
まず、図１および図２を用いて、本発明の表面処理装置３００の構成について説明する。なお、図１は、表面処理装置３００を上方から見た配置図である。図２は、図１に示す表面処理装置３００をα方向から見た側面図である。なお、図１では、図２に示す搬送用ハンガー１６および搬送機構１８は省略している。

図１に示すように、表面処理装置３００には、被処理物である板状ワーク１０（図２）の搬送方向Ｘに沿って、ロード部３０２、第１水洗槽３０４、デスミア槽３０６、第２水洗槽３０８、前処理槽３１０、第３水洗槽３１２、無電解銅めっき槽２００、水洗槽３１４、アンロード部３１６が順に設けられており、その順で、無電解銅めっきに必要な各工程が行われる。各槽には、図２に示す搬送用ハンガー１６の通路を形成する切り欠き８（図１）が鉛直方向に延伸して設けられている。なお、各工程の詳細については、後述する。

表面処理装置３００は、さらに、クランプ１５（図２）で把持し、鉛直方向に保持した板状ワーク１０を水平方向に搬送する搬送用ハンガー１６と、搬送用ハンガー１６を各槽内に搬送する搬送機構１８とを備えている。なお、図２は、板状ワーク１０がロード部３０２で搬送用ハンガー１６に取り付けられた状態を示している。

ロード部３０２で板状ワーク１０が取り付けられた後、搬送機構１８は、水平方向Ｘへの移動を開始し、それによって、板状ワーク１０が各槽内（無電解銅めっき槽２００等）を通過する。その後、搬送機構１８は、最終的に、アンロード部３１６において停止し、めっき処理が施された板状ワーク１０が搬送用ハンガー１６から取り外されることになる。

図３は、表面処理装置３００の一部を構成する無電解銅めっき槽２００（図１）のβ−β断面図である。図４は、図３に示す無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。なお、図４では、搬送用ハンガー１６および搬送機構１８を省略している。

図３に示す無電解銅めっき槽２００は、フレーム５６の上に載置された槽体２と、槽体２内の底部に貯まった処理液Ｑ（無電解銅めっき液）を液噴出部４に供給して循環させるための循環ポンプ５０とを備えている。

板状ワーク１０に対する処理を行うため、無電解銅めっき槽２００などの各槽の内部には、噴出口６を有する液噴出部４が設けられている。液噴出部４の噴出口６からは、図３に示すように、板状ワーク１０に向けて、処理液Ｑが水平面に対して斜め上方に噴出される。これにより、槽体２の内部において、搬送用ハンガー１６により把持された板状ワーク１０の上部に処理液Ｑ（無電解銅めっき液）が当てられる。その結果、板状ワーク１０を伝って処理液Ｑが移動する間に、板状ワーク１０の表面に処理液Ｑを付着させることができる。なお、液噴出部４の詳細な構造については後述する。

このように、貯留した処理液Ｑの中に板状ワーク１０を浸漬させずに、循環させた処理液Ｑを板状ワーク１０に伝わせる方式を採用したことで、浸漬式のものと比較して表面処理装置３００全体で使用される処理液Ｑの総量を少なくすることができる。

搬送機構１８は、図３に示すガイドレール１２、１４、支持部材２０および搬送ローラー２２、２４で構成される。支持部材２０の底部には、搬送機構１８がガイドレール１２、１４の上を移動するための搬送ローラー２２、２４が取り付けられている。搬送ローラー２２、２４はモーター（図示せず）によって駆動される。なお、ガイドレール１２、１４は、それぞれフレーム５２、５４の上に固定されている。このような水平方向に搬送するようにしたため、板状ワークの昇降動作が不要となり、装置の高さを低くできるため省スペース化が図られる。

図３に示すように、搬送用ハンガー１６は、２本のガイドレール１２、１４に渡って懸架するように取り付けられた支持部材２０の下方に固定されている。これにより、板状ワーク１０の振動を低減し、搬送機構１８を支える構造体（ガイドレール１２、１４、フレーム５２、５４等）の歪みを低減することができる。

また、図４に示すガイドレール１２、１４上の所定位置には複数の磁石２１が埋め込まれている。搬送機構１８は、ガイドレール１２、１４上の磁石２１を検知するための磁気センサー１９を備える。磁気センサー１９は、支持部材２０の下方（ガイドレール１４側の１カ所）に設けられている。

これにより、無電解銅めっき槽２００内に移動した搬送用ハンガー１６を、所定位置（例えば、図４に示す無電解銅めっき槽２００の中央位置）に停止させることができる。

各槽に設けられる循環ポンプ５０は、図３に示すように、槽体２の底部に接続され、槽体２と液噴出部４とは循環ポンプ５０を介して連通されている（点線矢印で示す）。これにより、槽体２の底部に溜まった処理液Ｑが、循環ポンプ５０によって、再び液噴出部４に供給される。

槽体２は、側壁２ａ、２ｂと、底部２ｃとによって構成されており、これらをＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）などの素材を加工、接着などして組み立てることにより、一体の部材として成形することができる。槽体２は、板状ワーク１０に当てられた処理液を下方の底部２ｃで受ける。なお、槽体２は、図１に示す無電解銅めっき槽２００以外の各槽にも同じ形状のものが用いられる。すなわち、各槽の構造は同じであり、各槽で用いられる処理液（めっき液、デスミア液、洗浄水など）の種類だけが異なっている。

また、図３に示す槽体２の側壁２ｂには、鉛直方向に延伸される切り欠きであるスリット８が成形されている。これにより、搬送用ハンガー１６が搬送された時に、板状ワーク１０がスリット８を通過することができる。なお、スリット８の下端８ａを低くし過ぎると、槽体２に溜まった処理液Ｑが溢れ出し、外部に流出するおそれがある。

このため、槽体２に溜まった処理液Ｑの液面Ｈ（図３）が、常にスリット８の下端８ａよりも下に位置するように、処理液Ｑの供給量を調整する必要がある。この実施形態では、槽体２に溜まった処理液Ｑの液面Ｈ（図３）がスリット８の下端８ａよりも下に位置するように、使用する処理液Ｑの総量を決定し、かつ、循環ポンプ５０を介して槽体２と液噴出部４とを連通させている。

［液噴出部４の構造］
図５に、液噴出部４の構造を示す。図５は、図３に示す液噴出部４の拡大図である。

図５に示すように、液噴出部４は、側壁２ａに角パイプ材を固定して設けたベースＦ１上に、２つのＵ字型の留め具Ｆ２によって締め付けて取り付けられている。なお、この実施形態では、液噴出部４を、手動で回転させることができる適度の強さで締め付けている。

液噴出部４は、図４に示すように、内部に空間を有する管部材である丸パイプで構成されており、長手方向の両端は密閉されている。また、所定間隔を空けて長手方向に配置される複数の孔によって、噴出口６が構成される。また、液噴出部４には、槽体の側壁２ａを貫通して連通する可撓性パイプＴ１および配管Ｔ２が連結されている。配管Ｔ２はポンプ５０の吐出口につながっている。これにより、ポンプ５０から受けた処理液Ｑを、噴出口６から噴出することができる。

図６Ａに示すように、噴出口６の噴出角度θは、水平面Ｌに対して斜め上方向（例えば、５°〜８５°の範囲）に向けて設置されている。このため、噴出口６から噴出された処理液Ｑの液流は、放物線上を移動する。頂点Ｚの位置は、処理液Ｑの噴出流速Ｖおよび噴出角度θにより決まる。なお、処理液Ｑの噴出流速Ｖは、ポンプ５０からの圧力と、噴出口６の大きさに依存する。

この実施形態では、液滞留部４（半径ｒ）を板状ワーク１０から所定距離Ｄだけ離れた位置に配置した条件下において、噴出流速Ｖで噴出された処理液Ｑが、放物線の頂点Ｚで板状ワーク１０に当たるように噴出角度θを設計している。図６Ｂに示す放物線の頂点Ｚの位置では、処理液Ｑの鉛直方向の速度成分Ｖｙが無くなり、噴出されたときの水平方向の速度成分Ｖｘだけが残るため、泡立ちの発生を低減することができるためである。

さらに、液流が板状ワーク１０の面に対して垂直に当たるので、板状ワーク１０に当たった処理液Ｑが面上を同心円状に均一に拡がる。なお、頂点付近、すなわち、頂点Ｚよりも所定距離だけ前方または後方で当てるようにしてもよい。

処理液Ｑを水平面Ｌに対して斜め上方向に噴出せず、水平方向または水平方向より下方向に噴出した場合、処理液Ｑの鉛直方向の速度成分Ｖｙは増加し続け、合成速度Ｖもその分増加する。その結果、板状ワーク１０に当たった処理液Ｑがｙ方向に飛び散って泡立ちが発生し易い。

以上のように、水平面Ｌに対して斜め上方向に向けて処理液を噴出することで、ワークに衝突する際に生じる泡立ちの発生を抑えて、処理液Ｑ中の溶存酸素量が増加するのを防止することが可能になる。

さらに、図７に示すように、噴出口６を覆うように、噴出される処理液Ｑの流れの向きを変えるための変流部材４０を液噴出部４の外周に取り付けるようにしてもよい。なお、変流部材４０は、噴出口６から間隔を空けて設けられる。

図７は、変流部材４０によって噴出された処理液Ｑの向きを変えた状態を示す拡大図、図８Ａは、噴出された処理液Ｑ（変流部材４０に当たる前）のγ１断面図、図８Ｂは、変流部材４０に当たった後の処理液Ｑのγ２断面図である。

変流部材４０を用いると、各噴出口６から出た液流（図８Ａに示す断面積）が変流板に当たって断面積が大きくなる（図８Ｂ）。このため、板状ワーク１０に当たったときに、隣接する各噴出口６からの液流が連結し（図８Ｂ）、板状ワーク１０の表面に当たる処理液Ｑの均一化を図ることができる。

すなわち、理想的には、図２１に示すようなスリット（長孔）から出る液流のように均一化を図ることができる。また、スリット（長孔）から出る液流と同じ放物線を描くためには、スリットの幅を細くする必要があり（噴出時に同じ流速を得るには、スリットの面積を孔の合計の面積と同じにする必要があるため）、ごみが詰まりやすい欠点がある。このため、孔を用いてスリットと同じ効果を出すこととした。

２．表面処理装置３００における各工程の内容
図９などを用いて、表面処理装置３００において行われる各工程の内容について説明する。なお、この実施形態では、表面処理装置３００の各槽内で使用される処理液Ｑは、各槽の循環ポンプ５０によって常時循環されていることとする。

図９Ａは、搬送機構１８の動作を制御する制御部の接続関係を示す図である。図９Ａに示すように、磁気センサー１９（図４）は、ＰＬＣ３０に接続されており、ガイドレール１４の上に配置された磁石の上部に達したことを検知する。磁気センサー１９が検知した信号は、ＰＬＣ３０に与えられる。信号を受けたＰＬＣ３０は、モーター２８をオン／オフして、搬送ローラー２２、２４の動作（前進、後退、停止など）を制御する。

まず、図１に示すロード部３０２において、作業者または取付装置（図示せず）によって、めっき処理の対象である板状ワーク１０が搬送用ハンガー１６に取り付けられる（図２に示す状態）。

その後、作業者が搬送スイッチ（図示せず）を押下すると、搬送用ハンガー１６は、ガイドレール１２、１４に沿って、第１水洗槽３０４内に移動する。すなわち、ＰＬＣ３０が、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。

つぎに、第１水洗槽３０４では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第１水洗槽３０４で所定時間だけ停止し、その後、デスミア槽３０６内に移動する。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から第１水洗槽３０４の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を１分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。なお、第２水洗槽３０８、第３水洗槽３１２、第４水洗槽３１４でも同様の制御が行われる。

デスミア槽３０６で、搬送用ハンガー１６は、所定時間（例えば、５分間）だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面からデスミア処理液（膨潤液、レジンエッチング液、中和液等）が当てられる。ここで、デスミア処理とは、板状ワーク１０に孔を開ける等の際に残った加工時のスミア（樹脂）を除去する処理である。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９からデスミア槽３０６の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を５分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。以下の前処理槽３１０でも同様の制御が行われる。

つぎに、第２水洗槽３０８では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第２水洗槽３０８で所定時間（例えば、１分間）だけ停止し、その後、前処理槽３１０内に移動する。

前処理槽３１０で、搬送用ハンガー１６は所定時間（例えば、５分間）だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面から前処理液が当てられる。

つぎに、第３水洗槽３１２では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第３水洗槽３１２で所定時間（例えば、１分間）だけ停止する。

その後、無電解銅めっき槽２００（図３、図４）内に移動するまでに、以下に示す往復移動を所定回数だけ行う。板状ワーク１０にスルホール等の孔が開けられている場合、そこに空気（気泡）がたまって処理液Ｑが板状ワーク１０に付着しないおそれがあるため、無電解銅めっき処理を行う前に、空気（気泡）を確実に除去する必要があるからである。

図９Ｂに、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００（図１）の間におけるガイドレール１４の断面図を示す。図９Ｂおよび図１に示すように、ガイドレール１４には、衝撃発生部である凸部２６が１つ設けられている。搬送ローラー２４が、この凸部２６を乗り越えた衝撃により、処理液Ｑの水切りをすることができる。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から図９Ｂに示す磁石２１が中央に到達したこと（すなわち、搬送ローラー２４が凸部２６を乗り越えたこと）を示す信号を受けてから、搬送ローラー２２、２４を所定距離だけ後退駆動させるようにモーター２８を制御する（図９Ｂに示すＹ１方向）。その後、再び磁石２１を検知するまで搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる（図９Ｂに示すＹ２方向）。上記前後移動を所定回数（例えば、３回往復）だけ繰り返した後、無電解銅めっき槽２００内の中央位置（図４）に停止する。

無電解銅めっき槽２００で、搬送用ハンガー１６は所定時間だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面から無電解銅めっき液が当てられる。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から無電解銅めっき槽２００の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を５分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。

つぎに、第４水洗槽３１４では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第４水洗槽３１４で所定時間（例えば、１分間）だけ停止し、その後、アンロード部３１６に移動する。

最後に、アンロード部３１６に移動した搬送用ハンガー１６を停止させる。例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９からアンロード部３１６に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を停止させる。その後、作業者などにより、板状ワーク１０が搬送用ハンガーから取り外される。これにより、無電解めっき処理の一連の工程が終了する。

３．他のめっき槽２０１、２０２の構造
（a）上記実施形態では、板状ワーク１０を伝って落下した処理液Ｑを、図１０に示すように、搬送用ハンガー１６の鉛直下方に設けた飛散防止部材で受けるようにしてもよい。図１０は、図１のめっき槽２００に、飛散防止部材６０を追加した実施例を示す図である。

これにより、板状ワークの搬送スリットから処理液が飛散したり、板状ワークに処理液が跳ね返るのを防止することができる。例えば、耐薬品性・耐熱性に優れる樹脂で作られたスポンジ、フィルター、繊維状素材（東洋クッション社製の化繊ロック（商標））などを用いることができる。

図１１に飛散防止部材６０の構造および処理液Ｑの動きを示す。

図１１に示すように、飛散防止部材６０は、網材を備える支持部６２によって下から保持して取り付けられている。このため、落下した処理液Ｑが、飛散防止部材６０で受けられた後、飛散防止部材６０を浸透して、下の液面に落下する。液面に落下した際には、跳ね返りが飛散防止部材６０の下面で受けられるため、板状ワーク１０には届かない。

（b）上記実施形態では、板状ワーク１０を伝って落下した処理液Ｑを、槽体２に貯めることとしたが、図１２に示すように、槽体２の底で連通する液貯留槽３を別途設け、この液貯留槽３の内部に処理液Ｑを貯めるようにしてもよい。

図１２は、図１０のめっき槽２０１に、液貯留槽３を追加した実施例を示す図である。なお、この実施形態では、飛散防止部材６０を槽体２の底部２ｃの上に直接配置している点で、図１０に示すものと異なる。

めっき槽２０２が備える液貯留槽の底部３ｃは、槽体の底部２ｃより低い位置に設けられている。これにより、処理液Ｑを自動的に内部に流し込むことができる。側方貯留部を処理槽の底部と連通し、隣接して配置することで、ヒーター、レベルセンサー、撹拌機などの機器Ｓを側方貯留部の上面３ｄに簡単に取り付けることができる。なお、図１２において、機器Ｓは、落下しないようにリングＧに固定された状態で、液貯留槽３の上面３ｄに着脱可能に挿入されている。このため、メンテナンス（例えば、ヒーターに付いためっきを剥離する）の時にすぐに取り外すことができる。なお、図１２に示す構成において、飛散防止部材６０を設けなくてもよい。

４．その他の実施形態
なお、上記実施形態では、槽体２に液噴出部４を取り付けることとしたが、その他、フレーム５２、５４などに液噴出部４を取り付けるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、噴出口６を丸孔により構成したが、多角形など他の形状により構成してもよい。例えば、図２１に示すように、長孔のスリットにより噴出口６’を構成してもよい。

なお、上記実施形態では、液噴出部４に複数の噴出口６を設けたが、図１３に示すように、それぞれが噴出口６を備えた複数のノズルＮを取付板Ｗの上に配置して構成してもよい。

なお、上記実施形態では、液噴出部４を断面が円形のパイプで構成したが、断面が四角形など他の形状のパイプで構成してもよい。

なお、上記実施形態では、液噴出部４を回転させて噴出口６の角度を変更可能としたが、図１４Ａ、Ｂに示すように、液噴出部４ａに複数段の角度に対応する孔（６ａ、６ｂ、６ｃ）を設けておき、その外周に摺動するように?め込んだ液噴出部４ａを覆うカバー４ｂ（スリット６”を有する）を回転させることによって噴出口６の角度を変更してもよい。なお、図１４Ｂは、図１４Ａに示す液噴出部４ａの孔６ａ、６ｂ、６ｃ付近における断面図である。

なお、上記実施形態では、変流部材４０の角度を固定したが、変流部材４０の角度を可変に取り付けてもよい。

なお、上記実施形態では、水平移動式の表面処理装置について説明したが、降下式の表面処理装置に適用してもよい。

なお、上記実施形態では、複数の槽（図１に示す第１水洗槽３０４、デスミア槽３０６、前処理槽３１０、無電解銅めっき槽２００など）を表面処理装置３００が備える構成としたが、表面処理装置３００がこれらのうち少なくとも１つの槽を備える構成としてもよい。

なお、上記実施形態では、槽体２内に、液噴出部４を１つだけ設けたが、液噴出部４を複数段設けるようにしてもよい。図１５に、４段の液噴出部４を鉛直方向に４段設けた無電解銅めっき槽２００’の例を示す。

なお、上記実施形態では、表面処理装置３００を搬送方向Ｘに１列に配置したが、図１６に示すように、表面処理装置３００を隣接して複数列配置してもよい。また、図１６に示すように、これら隣接する表面処理装置３００の間でガイドレール１４’を共用してもよい。

さらに、図２２に示すように、図１６に示すガイドレール１４’を設けずに、１つの槽体２’内に、隣接して複数の搬送用ハンガー１６および切り欠き８を設けて表面処理装置を構成してもよい。この場合、槽体２’内の両端の液噴出部４ａは側壁２ａに取り付け、槽体２内の中央の液噴出部４ｂは側壁２ｂに取り付ければよい。

なお、上記実施形態では、表面処理装置３００を構成する複数の槽を直線上に配置したが、トラバーサー等の移動機構を設けて、複数の槽をコの字型、ロの字型又はＬ字型などに並べて配置してもよい。

なお、上記実施形態では、片側のガイドレール１４だけに凸部２６（図９Ｂ）を設けることとしたが、両側のガイドレール１２、１４に凸部２６を設けるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、ガイドレール１４に凸部２６（図９Ｂ）を設けて衝撃を発生させることとしたが、その他の構造（例えば、凹部を設ける等）により衝撃を発生させるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、ガイドレール１４に１つの凸部２６（図９Ｂ）を設けることとしたが、ガイドレール１４に凸部を複数設けるようにしてもよい。また、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００（図１）の間に凸部２６（図９Ｂ）を設けることとしたが、他の位置に凸部２６を設けてもよい。

なお、上記実施形態では、搬送ローラー２４が凸部２６（図９Ｂ）の上を往復動作するように制御したが、往復動作せず、単に凸部２６の上を通過するように制御してもよい。例えば、搬送ローラー２４（図９Ｂ）がガイドレール１４に設けられた複数の凸部２６の上を一直線に移動するように制御してもよい。

なお、上記実施形態では、搬送ローラー２４が凸部２６の上を３往復するように制御することとしたが、一定の条件を満たす（例えば、スミアや気泡が板状ワーク１０から確実に除去されたことを、カメラ撮影して画像認識する等して検知する）まで往復動作させるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、循環ポンプ５０を常時作動させて、液噴出部４の噴出口６から処理液Ｑを常に噴出したままの状態で、板状ワーク１０を槽体２内に搬送し、または槽体２外に搬出するようにしたがこれに限られるものではない。例えば、板状ワーク１０の停止中には、循環ポンプ５０の電源をオンして液噴出部４の噴出口６から処理液Ｑを噴出し、板状ワーク１０の移動中には、循環ポンプ５０の電源をオフして液噴出部４の噴出口６から処理液Ｑを噴出しないように制御してもよい。

なお、上記実施形態では、槽体２の素材としてＰＶＣを用いたが、その他の素材（例えば、ＰＰ、ＦＲＰ、ＰＰＳ樹脂、ＰＴＦＥ、ステンレスなど）を用いるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、表面処理装置３００によって、板状ワーク１０に無電解銅めっきを行うこととしたが、板状ワーク１０にその他の無電解めっき（例えば、無電解ニッケルめっき、無電解スズめっき、無電解金めっきなど）を行うようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、板状ワーク１０の上端のみを搬送用ハンガー１６で把持するようにしたが（図２）、板状ワーク１０の下部に重りを取り付けたり、図１７に示すように枠体１７を備えた搬送用ハンガー１６’によって板状ワーク１０の上端クランプ１５’および下端クランプ１５”で把持して搬送するようにしてもよい。また、図１８に示すように、板状ワーク１０の動きを制限する回転ローラー立設体７０、７２を槽体２内のスリット８付近に補助的に配置して、搬送時における板状ワーク１０の揺れを防止しつつ搬送してもよい。

なお、上記実施形態では、搬送機構１８の搬送ローラー２２、２４をモーターで駆動することにより搬送用ハンガー１６を搬送することとしたが、プッシャ、チェーン、リニアモーター式の搬送機構等の駆動方法を用いて搬送用ハンガー１６を搬送してもよい。

なお、上記実施形態では、板状ワーク１０の表裏両面に処理液Ｑを当てることとしたが（図６Ｂ）、板状ワーク１０の片側だけに処理液Ｑを当てるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、磁気センサーを用いてガイドレール１２、１４上の所定位置を検知することとしたが、その他のセンサー（バーコードリーダー等）を用いて所定位置を検知してもよい。

なお、上記実施形態では、被処理物を矩形の板状ワーク１０としたが、被処理物をその他の形状（例えば、球状、棒状、立方体など）としてもよい。

Claims (15)

1. 被処理物を鉛直方向に保持した状態で搬送するための搬送用ハンガーと、
   内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
   噴出口から、前記処理液を前記被処理物に向けて水平面に対して斜め上方に噴出させる液噴出部と、
   前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送させるための搬送機構と、
   を備えたこと、特徴とする表面処理装置。
2. 請求項１の表面処理装置において、
   前記噴出口から斜め上方に噴出される前記処理液が放物線上を移動し、前記放物線の頂点付近で前記処理液が被処理物に当たるように、前記処理液の噴出角度を設定したこと、
   を特徴とする表面処理装置。
3. 請求項１または請求項２の表面処理装置において、
   前記液噴出部が、内部に空間を有する管部材を備えており、
   前記噴出口が、前記管部材の長手方向に所定間隔を空けて配置される複数の孔で構成されること、
   を特徴とする表面処理装置。
4. 請求項１または請求項２の表面処理装置において、
   前記液噴出部が、内部に空間を有する管部材を備えており、
   前記噴出口が、前記管部材の長手方向に延伸される長孔で構成されること、
   を特徴とする表面処理装置。
5. 請求項１〜４のいずれかの表面処理装置において、
   前記液噴出部の外周に、前記噴出口を覆うように変流部材が取り付けられており、
   前記噴出口から噴出された前記処理液が、前記変流部材に当たった後で、前記被処理物に当たること、
   を特徴とする表面処理装置。
6. 請求項１〜５のいずれかの表面処理装置において、
   前記噴出口から噴出される前記処理液の噴出角度を任意の角度に変更可能に構成したこと、
   を特徴とする表面処理装置。
7. 請求項１〜６のいずれかの表面処理装置において、
   前記液噴出部を、前記槽体内に複数段配置したこと、
   を特徴とする表面処理装置。
8. 請求項１〜７のいずれかの表面処理装置において、
   前記噴出口から噴出される前記処理液の噴出角度が、水平面に対して上方に向かって５°〜８５°の範囲内であること、
   を特徴とする表面処理装置。
9. 請求項１〜８のいずれかの表面処理装置において、さらに、
   前記搬送用ハンガーの鉛直下方に設けられる飛散防止部材を備えたこと、
   を特徴とする表面処理装置。
10. 請求項１〜９のいずれかの表面処理装置において、さらに、
    前記槽体の底部と連通する液貯留槽であって、前記槽体の底部より低い位置に底部が設けられた液貯留槽を備えたこと、
    を特徴とする表面処理装置。
11. 請求項１〜１０のいずれかの表面処理装置において、さらに、
    前記槽体に、鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが設けられていること、
    を特徴とする表面処理装置。
12. 内部において、鉛直方向に保持して搬送された被処理物に処理液を付着させるための槽体であって、
    噴出口から、前記処理液を前記被処理物に向けて水平面に対して斜め上方に噴出させる液噴出部を、内壁の所定位置に固着したこと、
    を特徴とする槽体。
13. 鉛直方向に保持された被処理物に処理液を付着させるための噴出装置であって、
    供給された処理液を前記被処理物に向けて噴出するための噴出口を有し、
    前記噴出口から、前記処理液を水平面に対して斜め上方に噴出させるように構成したこと、
    を特徴とする噴出装置。
14. 被処理物を鉛直方向に保持した状態で搬送するための搬送用ハンガーと、
    内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
    前記搬送用ハンガーの鉛直下方に設けられる飛散防止部材と、
    前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送させるための搬送機構と、
    を備えたこと、特徴とする表面処理装置。
15. 被処理物を鉛直方向に保持した状態で搬送するための搬送用ハンガーと、
    内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
    前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送させるための搬送機構と、
    前記槽体の底で連通する液貯留槽であって、前記槽体の底部より低い位置に底部が設けられた液貯留槽と、
    を備えたこと、を特徴とする表面処理装置。

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