JP2014036205A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明では、下地層の表面に除去対象層を形成した基板(3)に硫酸と過酸化水素水との混合液を供給して除去対象層を除去する基板処理装置(1)及び基板処理方法において、前記基板(3)に前記混合液を第1の条件で供給する工程と、その後、前記基板(3)に前記混合液を第2の条件で供給する工程とを有し、前記第2の条件は、前記下地層にダメージを与えない条件とし、前記第1の条件は、前記第2の条件よりも前記除去対象層を除去する能力が高い条件とした。
【選択図】図3
Description
3 基板
12 基板保持手段
13 混合液供給手段
14 OH基供給手段
16 基板処理室
22 制御手段
Claims (12)
- 下地層の表面に除去対象層を形成した基板に硫酸と過酸化水素水との混合液を供給して除去対象層の表面に形成された硬化膜とともに除去対象層を除去する基板処理装置において、
前記基板に前記混合液を供給するための混合液供給手段と、
前記混合液供給手段から所定の条件で前記混合液を供給させるための制御手段と、
を有し、
前記制御手段は、前記混合液供給手段から前記基板に前記混合液を第1の条件で供給させた後に、前記混合液供給手段から前記基板に前記混合液を第2の条件で供給させるように制御し、
前記第1の条件は、前記第2の条件よりも前記硬化膜を除去する能力が高い条件とし、
前記第2の条件は、前記第1の条件よりも前記下地層にダメージを与えない条件としたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板にOH基を供給するためのOH基供給手段を有し、
前記制御手段は、前記第1の条件として、前記第2の条件よりも多量のOH基を前記OH基供給手段から前記基板に供給させるとともに前記混合液を前記混合液供給手段から前記基板に供給させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御手段は、前記第1の条件として、前記第2の条件よりも高温の前記混合液を前記混合液供給手段から前記基板に供給させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御手段は、前記第1の条件として、前記第2の条件よりも前記過酸化水素水の混合比が高い前記混合液を前記混合液供給手段から前記基板に供給させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御手段は、前記第1の条件として、物理力を伴った状態で前記混合液を前記混合液供給手段から前記基板に供給させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御手段は、前記第1の条件として、前記硬化膜を除去できる条件で前記混合液を前記混合液供給手段から前記基板に供給させることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 下地層の表面に除去対象層を形成した基板に硫酸と過酸化水素水との混合液を供給して除去対象層の表面に形成された硬化膜とともに除去対象層を除去する基板処理方法において、
前記基板に前記混合液を第1の条件で供給する工程と、その後、前記基板に前記混合液を第2の条件で供給する工程とを有し、
前記第1の条件は、前記第2の条件よりも前記硬化膜を除去する能力が高い条件とし、
前記第2の条件は、前記第1の条件よりも前記下地層にダメージを与えない条件としたことを特徴とする基板処理方法。 - 前記第1の条件は、前記第2の条件よりもOH基の供給量を多くしたことを特徴とする請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記第1の条件は、前記第2の条件よりも前記混合液の温度を高くしたことを特徴とする請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記第1の条件は、前記第2の条件よりも前記過酸化水素水の混合比を高くしたことを特徴とする請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記第1の条件は、物理力を伴った状態で前記混合液を供給することを特徴とする請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記第1の条件は、前記硬化膜を除去できる条件としたことを特徴とする請求項7〜請求項11のいずれかに記載の基板処理方法。
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